¹Univ. Grenoble Alpes,CNRS,Grenoble INP*,G2Elab,Grenoble,38031,法国 *francis.boakye-mensah@g2elab.grenoble-inp.fr 摘要 - 为了在气候变化法规日益严格的情况下找到 SF 6 的可行替代品,应该对压缩空气等替代品进行适当的评估。对于中压应用,耐受电压被用作尺寸标准,这取决于流光的引发和传播,而流光是电击穿的前兆。为了优化设计,应该通过预测模型从实验和数值上彻底研究在不同应力、压力等条件下此类放电的引发和传播机制。到目前为止,大多数数值研究都是通过自制代码完成的,因为由于此类计算的复杂性和非线性,商业软件中不易获得流光模型。最近,随着商业有限元软件COMSOL™Multiphysics 等离子体模块稳健性的增强,可以开发具有合理精度的流光放电模型。
以前是Salvo Technologies,这是一个由精确光学,沥青,薄膜光刻,光刻,光学材料和其他光子组件组成的十二个分区组成的,新形成的Torrent Photonics是坦帕(Tampa),FL之外的torrent Photonics,是坦帕(Tampa),是光学组成部分的制造商。Torrent Photonics为DOD Prime承包商以及生命科学,医疗设备,半导体和工业领域的商业客户提供服务。
与传统体硅相比,绝缘体上硅(SOI)衬底具有许多优势,包括低漏电流、低电容、低功耗、更好地抵抗短沟道效应(SCE)和卓越的缩放能力[1 – 4]。这使得SOI衬底不仅适用于传统的MOSFET,而且由于天然的衬底隔离[5 – 8]和更简单的多栅极设计,它也对新型半导体器件具有吸引力,例如TFET和Z2-FET。此外,建立在SOI平台上的光电探测器(PD)也表现出优异的光电性能。高工作速度、高抗辐射和低寄生电容的优势使基于SOI的PD在电子和光子集成电路(EPIC)、光通信系统和航空航天等许多应用领域中极具竞争力[9 – 16]。为了在 SOI 薄膜中形成 pn 光电二极管,通常使用常规离子注入来掺杂 Si 沟道 [17]。然而,离子注入会损坏并降低 Si 的质量,这个问题在缺乏种子层以促进再结晶的超薄 SOI 薄膜中尤其严重。此外,用于激活掺杂剂的高温退火可能会引起应力和损坏,并进一步降低器件的性能。为了克服这些缺点,可以使用电场诱导的静电掺杂 [18,19] 来形成 pn 结并完全避免离子注入。之前,我们已经证明在
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