XiaoMi-AI文件搜索系统
World File Search System渗透深度
使用声发射测试方法
曲线）。相关的声引起的电压信号显示为绿色点，即所谓的AE命中。在DB AE中绘制每个命中的峰值振幅（参考值1μV）。在给定的示例中，时间依赖性力曲线是非线性的，直至约为230 mn的接触力，而同时将许多AE命中率显示在23 dB ae的阈值电压上。这种效果是由于凹痕渗透到Al-Cu顶层的升高而渗透到质量变形的，凹痕深度正在增加的事实引起的（见图7a）。AE命中的数量及其峰值幅度与渗透深度增加成正比。在230 mn的接触力上方仅出现低振幅的孤立命中。在Al-Cu顶层的压痕上，SIO X层的破裂始于367 MN的接触力F C，峰值A峰为55.9 dB AE。在图中绘制了裂纹引起的AE命中的示例性波信号。6B，在整个信号持续时间内。[1]
在存在的情况下使用Far-UVC辐射进行消毒的风险
紫外线（UV）辐射能够灭活或消除微生物和病毒，因此已被用于数十年来用于消毒水，房间空气或固体表面。出于消毒目的，目前主要在UVC光谱范围内，尤其是在254 nm的波长中应用这种辐射。由于这种辐射可能会对眼睛和皮肤造成急性和长期损害，因此必须避免人类暴露。一段时间以来，尤其是自SARS-COV-2大流行以来，就远-UVC辐射的使用（200 nm至240 nm的光谱范围）进行了讨论，主要是在222 nm左右的波长，以在人们存在的情况下进行消毒。由于该短波远处辐射到人体组织的渗透深度非常低，因此经常被认为是对人类没有任何健康后果。在这种背景下，要求放射学保护委员会（Strahlenschutzkommission，SSK）评论人们在存在的人面前使用远处UVC辐射进行消毒的风险，同时还考虑了可能易受伤害的群体，例如儿童，老年人，患有皮肤和眼部疾病的人。任命了“非离世辐射”委员会的工作组“在人民面前使用Far-UVC辐射进行消毒的风险”，以汇编具有科学背景的意见。该组包括以下成员：
光子和电子束的辐射剂量的影响...
本研究探讨了辐射束能量水平和角度对癌症治疗期间对邻近健康组织和肿瘤的剂量的影响。由于电子束由于其浅渗透深度而最适合浅表肿瘤，但线性加速器产生的光子束对于深座的肿瘤有用。辐射剂量在0°和60°的不同角度以不同的角度和15 mV光子束进行测量，并在0°和15°处使用6 MeV，12 MeV和15 MeV电子束。研究结果表明，在光子治疗中，较大的角度和较高的能量在不同位置产生较高的剂量。电子治疗中的能量水平对剂量分布的影响比角度更大。我们的线性回归模型分析发现，光子治疗中的能级角度和剂量测量与高R 2分数密切相关（高于0.8）。与电子疗法观察到了实质性和不一致的相关性。尽管有这些变化，但两种治疗方法的各种剂量测量之间仍存在正相关。这些结果强调了选择直角和能量水平以最大化治疗功效并最大程度地减少对健康组织的伤害的重要性。通过将我们的结果与确保安全性和有效性的国际标准进行比较，支持在临床环境中使用这些治疗方案。
6.5-GHz脑刺激系统，使用增强的探针聚焦和开关驱动调制6.5-GHz脑刺激系统，使用增强的探针聚焦和开关驱动调制
摘要 - 第一次，本文提出了一种新型的微波大脑刺激系统的设计，制造和测量结果，从而实现了矩形脉冲包裹的6.5-GHz波的有效探针聚焦。虽然文献中的召开 /关闭刺激系统采用低于0.5 GHz的低频，但拟议的系统采用6.5 GHz，可以实现更多的空间能量聚焦和中等水平的能量渗透深度。在拟议的系统中，ON / OFF调制的微波信号是由由电压控制的振荡器（VCO）和功率放大器（PA）组成的单个芯片生成的。VCO由当前源处的开关驱动，以生成高和低状态之间20 dB隔离的调制信号。用对称载荷包围的中心开放孔的探测器可以向大脑的低功率反射，并将其聚焦在1毫米2区域的方形孔径中。最后，证明了使用具有1 Hz重复脉冲信封的微波信号对体内小鼠大脑的20分钟刺激，而1％的占空比刺激使归一化的频率可达到0.2，而在没有刺激下，归一化的灯率在±0.05以内保持在±0.05之内。这表明所提出的大脑刺激系统可以实现单个海马神经元活性的巨大变化。
使用模糊推理的几何特征和过程参数优化激光沉积AISI 316钢
1生产工程毕业后计划，巴西圣保罗卫理公会大学。2工程学校，麦肯齐长老会大学，圣保罗，巴西。3古巴圣地亚哥de Cuba的Oriente University机械与工业工程学院。 4巴拉那帕拉纳帕拉纳联邦技术大学的客座教授。 5 Insper-巴西圣保罗教育与研究所。 *通讯作者：dtasev88@gmail.com摘要激光金属沉积（LMD）工艺是一种增材制造技术，由于其能力具有复杂的几何形状和不同类型的金属材料，因此吸引了汽车和航空工业的兴趣。 但是，沉积层的结构和制成部分的几何特性受沉积过程参数之间的相互作用的影响。 在本文中，使用模糊推理（FIS）技术来开发两个模型，以预测几何特性，并使用AISI 316不锈钢粉末和底物优化LMD工艺参数。 基于阶乘分析的实验设计用于将所选沉积过程参数，激光功率（LP），粉末流量（PF）和焦距（FL）与过程的几何特征珠高（BH），珠宽度（BW），渗透深度（DP），渗透（DP）和湿度（DP）和湿度（WA）相关联。 因子LP和FL使用三个操作水平：LP = 225 W，250 W，275 W，FL = 4.8 mm，5.0 mm，5.2 mm。 使用两个级别的因子PF，9.40 g/s和13.35 g/s。3古巴圣地亚哥de Cuba的Oriente University机械与工业工程学院。4巴拉那帕拉纳帕拉纳联邦技术大学的客座教授。5 Insper-巴西圣保罗教育与研究所。 *通讯作者：dtasev88@gmail.com摘要激光金属沉积（LMD）工艺是一种增材制造技术，由于其能力具有复杂的几何形状和不同类型的金属材料，因此吸引了汽车和航空工业的兴趣。 但是，沉积层的结构和制成部分的几何特性受沉积过程参数之间的相互作用的影响。 在本文中，使用模糊推理（FIS）技术来开发两个模型，以预测几何特性，并使用AISI 316不锈钢粉末和底物优化LMD工艺参数。 基于阶乘分析的实验设计用于将所选沉积过程参数，激光功率（LP），粉末流量（PF）和焦距（FL）与过程的几何特征珠高（BH），珠宽度（BW），渗透深度（DP），渗透（DP）和湿度（DP）和湿度（WA）相关联。 因子LP和FL使用三个操作水平：LP = 225 W，250 W，275 W，FL = 4.8 mm，5.0 mm，5.2 mm。 使用两个级别的因子PF，9.40 g/s和13.35 g/s。5 Insper-巴西圣保罗教育与研究所。*通讯作者：dtasev88@gmail.com摘要激光金属沉积（LMD）工艺是一种增材制造技术，由于其能力具有复杂的几何形状和不同类型的金属材料，因此吸引了汽车和航空工业的兴趣。但是，沉积层的结构和制成部分的几何特性受沉积过程参数之间的相互作用的影响。在本文中，使用模糊推理（FIS）技术来开发两个模型，以预测几何特性，并使用AISI 316不锈钢粉末和底物优化LMD工艺参数。基于阶乘分析的实验设计用于将所选沉积过程参数，激光功率（LP），粉末流量（PF）和焦距（FL）与过程的几何特征珠高（BH），珠宽度（BW），渗透深度（DP），渗透（DP）和湿度（DP）和湿度（WA）相关联。因子LP和FL使用三个操作水平：LP = 225 W，250 W，275 W，FL = 4.8 mm，5.0 mm，5.2 mm。使用两个级别的因子PF，9.40 g/s和13.35 g/s。差异分析允许识别PF影响BH，BH/BW比率，D和WA。激光功率（LP）的增加导致几何特征BW和DP的增加。第一个FI，用于预测珠的几何特性，具有高足够的（相对误差高达8.43％），用于评估EX的体验条件。考虑到所研究的工作条件和评估的变量，第二FI表示最佳相互作用。使用沉积过程参数LP = 250 W，FL = 5 mm，PF = 9.40 g/s，获得了最大输出解体指数（ODI = 0.845）。关键字：激光金属沉积，模糊推理，珠几何预测，沉积过程参数，AISI 316不锈钢1.简介
新机制用于氧化天然硅氧化物。
摘要：金属 - 氧化物 - 氧化物 - 氧化型晶体管晶体管（MOSFET）的持续微型化需要不断保存的栅极氧化物的厚度。但是，超薄硅氧化物纤维的结构在很大程度上取决于氧化机制。使用反应性原子模拟，我们在这里演示了如何通过氧化温度和氧化能量控制此类结构的氧化机制。特别是，我们研究了高热氧与1-5 eV的高热氧与薄的SiO X（X≤2）膜，其天然氧化物厚度约为10Å。我们分析了氧渗透深度概率，并与裸露的Si（100）{2×1}（C -Si）表面的过度热氧化的结果进行比较。详细讨论了依赖温度的氧化机制。我们的结果表明，在低（即房间）温度下，穿透的氧气主要驻留在氧化物区域，而不是在Sio X |中。 C -SI接口。然而，在较高的温度下，从约700 K开始，发现氧原子可以穿透并通过氧化物层扩散，然后在C -SI边界处进行反应。我们证明了高温氧化类似于热氧化，可以在高温下通过交易 - 谷林模型来描述。此外，还分析了在氧化过程中发生的缺陷创造机制。■简介这项研究对于金属 - 氧化物 - 氧化物 - 氧化氧化物氧化物的制造很有用，因为它连接了可以在实验中直接控制的参数（氧气温度，速度）与硅氧化物结构。
映射Bragg相干衍射成像中电池阴极颗粒的3D位置
在大部分多晶样品中对局部应变的成像需要对纳米镜面水平的晶体结构变形具有高渗透深度和敏感性的探针。随着同步器仪器的重大进展，这是可能的，特别是在过去二十年中开发的一致散射方法。Bragg相干衍射成像（CDI）（Robinson等人，2001年； Miao等。，2002年； Pfeifer等。，2006年； Robinson＆Harder，2009年）现在被确定为成像单个纳米晶体中的结构变形和结构缺陷的强大工具（Ulvestad等人。，2015年； Kim等。，2021）。由于晶体通常是多种多样的，因此测量不同位置的几个颗粒以收集样品中足够的统计信息（Singer等人。，2018年）。在此类实验中通常未知测量颗粒的精确位置，因此通常假定样品的均匀性。对于材料响应不统一的系统，获取位置信息很重要。例如，在带有厚度阴极的锂离子电池中，预计充电行为将取决于阴极表面下的深度（Zheng等人。，2012年； Lee等。，2018年）。增强Operando Bragg CDI的能力，并可以绘制测得的颗粒的可能性将在单个纳米颗粒的性能与超厚电极的3D结构之间提供缺失的联系。，2012年），作为解决此问题的一般解决方案，在这里，我们建议一种确定Bragg CDI实验中测得颗粒的3D位置的方法。我们的方法与涉及从微观摄影中跨相关性检测旋转中心检测的程序有一些相似之处（Pan等
实验分析和建模均匀和暂停的综合布拉格反射器的穿透深度
集成的布拉格光栅无处不在，在光学通信中找到了他们的主要应用。它们主要用作波长划分多路复用（WDM）的过滤器[1]。它们在激光器中用作分布式Bragg反射器（DBR）[2]和分布式反馈（DFB）激光器[3]的镜子。他们还找到了他们在传感中的应用[4]。此外，它们是集成腔分散工程的重要组成部分[5，6]。集成的Bragg反射器已使Fabry-Pérot（FP）微孔子中有趣的表演达到了实现。仔细研究这些空腔，对分散补偿策略的兴趣不大，例如，将分散元素补偿元素在空腔体系结构中[5]进行了整合。使用色散bragg反射器证明了综合微孔子中的耗散kerr孤子（DKSS）[7]。通常需要这些光源来产生非常短的脉冲持续时间，即飞秒级，用于高精度计量学级的飞秒源的应用，并用于产生跨越频率的宽带频率梳子，这些频率从数十吉赫赫兹到Terahertz。这种非线性机制开辟了增加相干光学通信系统带宽[8，9]的可能性，以满足增加的数据速率需求。最近，由两个光子晶体谐振器组成的Q-因子为10 5的纳米制作的FP谐振器已成功证明了KERR频率 - 兼而产生[10]。这个概念是在反射器的背景下进行分析描述的。因此，在FP微孔子中，布拉格反射器的广泛采用以进行分散补偿变得越来越重要。虽然用作反射器的Bragg光栅提供了广泛的功能，但设备物理学中存在一个潜在的问题。当光反射器反射光时，它不会从光栅开始的点上进行反映。为了解决这个问题，研究人员检查了渗透深度的概念或闪光的有效长度，称为l eff。该术语是指定义实际反射点的bragg反射器内的虚拟移位接口。
用UV飞秒激光脉冲强烈激发Si和GE的相变动力学
半导体的飞秒激光处理已演变为成熟的高精度制造技术，从而实现了广泛的应用。最初大多数研究都采用了近乎红外波长的脉冲，但由于不同的激发条件，由于较短的光学渗透深度，因此使用紫外线激光脉冲的兴趣正在不断增加，从而导致分辨率提高。在这种情况下，为了理解和最终控制复杂的相变途径，需要对这种脉冲触发的相变的时间动力学进行基础研究。在这里，我们报告了一项详细的时间分辨研究，以使用单个400 nm，100 fs激光脉冲在中等和高激发方向进行辐照后，晶体硅和锗的相变动力学。为此，我们采用了FS分辨的光学显微镜，探头波长为800 nm，以研究辐照表面的反射率演变，范围从100 fs到20 ns，范围为100 fs。在中等激发的情况下，数据揭示了激光诱导的过程的整个序列，从产生自由电子等离子体，非热融化，消融和半透明消融层的膨胀层的扩展。在峰值流体的激发时超过30倍消融阈值，观察到异常的瞬态高反射率态，这可能表明了后坐压力诱导的液体 - 液相相变。 此外，在中度的辐射后，两种材料形成了70 nm厚的无定形表面层。超过30倍消融阈值，观察到异常的瞬态高反射率态，这可能表明了后坐压力诱导的液体 - 液相相变。此外，在中度的辐射后，两种材料形成了70 nm厚的无定形表面层。总体而言，我们的结果提供了有关FS-Pulse激发在近绿色波长范围内两种材料的最终状态的相关信息。
超分辨率简化
光片（HILO）激发3，用DNA-Paint 6以下达到5 nm 4,5以下的横向定位精度（S SMLM）。但是，这是以有限的穿透深度为代价的，TIR <250 nm，而Hilo 7,8的视野降低了〜40×10 µm 2。SMLM也可以在共聚焦设置中实现，包括点扫描和旋转磁盘共聚焦（SDC），这使得更深的样品渗透9，使其比较成像组织样品。图像扫描显微镜（ISM）10通过像素重新分配将共聚焦显微镜11,12的空间分辨率增加一倍，并且在与SMLM结合使用时，SMLM最近达到了8 nm的S SMLM，尽管小FOV的小FOV为8×8 µm 2 13。为了提高采集速度和FOV尺寸，SDC在旋转盘上采用数百个螺旋针孔，并与摄像机而不是单点检测器相结合。SDC构型已适用于SMLM，使用DNA-PART 14，使用DNA-Origami样品使用DNA-Origami样品达到8 nm的平面定位精度和基础平面中的细胞22 nm。仍然，由于发射光被光盘阻断，由于兴奋强度降低，可实现的分辨率仍受到限制。在2015年，Azuma及其同事提出了具有光子光子重新分配（SDC-EPR）15的增强的SDC，这是一系列微胶片，以有效降低针孔尺寸并增加光子收集，以改善分辨率。这些微漏物收缩了焦点双重，将发射的光子引导回可能的起源点（图1a）。因此，这提出了一个问题：SDC-opr的表现能否优于当前的光学配置，克服渗透深度，视野和空间分辨率之间的权衡？In this Brief Communication, we show that SMLM on a SDC- OPR fluorescence microscope can achieve sub-2 nm localization precision in the basal plane and sub-10 nm up to 7 µm penetration depth within a FOV of 53 × 53 µm 2 using a commercially available SDC-OPR (CSU-W1 SoRA Nikon system).通过可视化，以前所未有的分辨率来强调SDC-OPR的功能，在果蝇的视觉想象盘的视网膜上皮中的附着力连接。