我们报道了一种简便的顶平方形纳秒 (ns) 激光直写 (LDW) 烧蚀技术,在薄银膜基底上制备柔性透明电极的方形银蜂窝结构。方形银蜂窝结构具有表面光滑、边缘清晰、机械稳定性、与基底的强附着力以及良好的电阻和透明度。由于通过一步顶平方形纳秒 LDW 烧蚀银膜进行简便的冷加工,可以制备不同厚度的银网电极 (20 nm、50 nm、160 nm),这些电极具有光滑的金属蜂窝表面和优异的边缘清晰度。特别是,该策略能够制备高方形蜂窝面密度(烧蚀方形蜂窝占总面积的比例)的银网,从而显着提高透明度 (>85%),而不会显著牺牲电导率(<23.2 Ω sq−1 电阻单位)。因此,所提出的金属蜂窝结构显示出与聚萘二甲酸乙二酯(PEN)柔性基板的兼容性,适用于银基可穿戴电子设备,且电极上没有任何保护层。
摘要 共烧结低温陶瓷的增材制造 (AM) 为制造新型 3D 射频 (RF) 和微波通信组件、嵌入式电子设备和传感器提供了独特的途径。本文介绍了有史以来首次直接 3D 打印低温共烧结陶瓷/浮动电极 3D 结构。基于浆料的 AM 和选择性激光烧蚀 (SLB) 用于制造带有银 (Ag) 内部浮动电极的块状电介质 Bi 2 Mo 2 O 9 (BMO,烧结温度 = 620 – 650°C,ε r = 38)。开发了一种可打印的 BMO 浆料,并优化了 SLB,以改善边缘定义并烧掉粘合剂而不会损坏陶瓷。SLB 增加了保持形状所需的生坯强度,生产出无裂纹的零件,并防止共烧结过程中银渗入陶瓷。烧结后,将生坯部件放入传统炉中烧结,温度为 645°C,烧结时间为 4 小时,密度达到 94.5%,抗压强度达到 4097 MPa,相对介电常数 (εr) 为 33.8,损耗角正切 (tanδ) 为 0.0004 (8 GHz)(BMO)。由此证明了使用 SLB 后进行打印后烧结步骤来创建 BMO/Ag 3D 结构的可行性。
老材料在微电子领域的重要性日益凸显,不仅体现在二级封装(即印刷电路板组装层面),也体现在一级封装(例如,图 1 a 所示的倒装芯片组装)中。1 在这些应用中,各种类型、不同尺寸的焊料凸块用于三维集成电路 (3D-IC) 的复杂互连。1a 典型焊料凸块的构建示意图如图 1 b 所示。当今 300 毫米晶圆级焊料凸块应用技术上最相关的合金材料是电沉积共晶 SnAg。1b 然而,由于 Sn 2+ 和 Ag + 离子的标准还原电位差异很大(ΔE0≈0.94V),通过电化学沉积制造 SnAg 合金是一项艰巨的任务。为了解决这个问题,通常会在 SnAg 电镀液中添加络合剂和螯合剂,这些络合剂和螯合剂选择性地作用于较惰性的 Ag + 离子,从而减慢其沉积速度以与 Sn 2+ 相兼容,并促进两种金属的共沉积。2 这是实现所需合金成分的关键先决条件。3 此类络合剂和螯合剂的另一个补充功能是稳定含 Sn 电解质中的 Ag + 离子,防止其还原为金属 Ag 以及随之而来的 Sn 2+ 氧化