图1:Airborne Snow Observatories, Inc. 使用其 RIEGL VQ-1560 II-S 测量科罗拉多州 14,265 英尺 Quandary Peak 的积雪深度。(加利福尼亚州马莫斯湖)Airborne Snow Observatories, Inc. 刚刚接收了北美首批尖端 RIEGL VQ-1560 II-S 机载激光扫描仪之一,正如 NASA 的 ASO 项目在 2013 年率先使用 RIEGL 的第一台双激光扫描仪 LMS-Q1560 一样。这款新型 LiDAR 系统具有双倍的激光功率和高脉冲频率,将使 ASO Inc. 能够更有效地实现其需求,以独特的方式测量广阔的山区盆地的雪水当量。ASO Inc. 是一家公益公司,由 NASA 喷气推进实验室通过技术转让创建,旨在继续并扩大 ASO 业务雪况测绘和径流预报范围,覆盖全球山区。通过结合 RIEGL LIDAR、成像光谱仪数据和物理建模,ASO Inc. 绘制了山区积雪深度、雪水当量和雪反照率。这是
摘要。数字全息图可以在处理从chi频照明器获得的2D相干图像的频率多样性堆栈后启用3D图像。为了补偿对象运动或振动,这是远程成像的常见情况,恒定的时间频率或“驾驶频率”照明器可以作为每个搅动频率的参考。我们检查了the骨和试验性照明器之间的斑点去相关及其对所得范围图像的影响。我们表明,两个照明器之间的斑点去相关对于物体表面的刻面更严重,相对于光轴,该对象表面的倾斜度更高,并且这种去相关导致物体区域中高度倾斜的区域的差异图像中的噪声。我们开发了一个理论框架以及带有试验音调的3D成像的波播仿真,我们检查了这种噪声的严重性,这是多个成像参数的函数,包括照明带宽 - 脉冲频率间距和大气湍流强度;我们表明,在模拟框架中,3D清晰度最大化可以减轻湍流引起的某些噪声。
使用Lasemlation方法在激光脉冲频率和执行时间下从DE离子水和铵溶液中的YVO 4晶体和铵溶液中产生颗粒。流体中的激光消融产生相对较少的材料,因此本研究的目的是测试表征方法在这种情况下的可用性方面。然后使用表征方法的结果得出有关制造过程后粒子大小和结构的结论。被测试的方法是动态光扩展(DLS),框架光谱,X射线和扫描电子显微镜(SEM),具有整合的能量 - 感知X -Ray光谱(ED)。dls和SEM成功确定了颗粒的大小,该粒子的大小为100-1000 nm。这意味着创建了亚微米颗粒。拉曼光谱和EDS设法证明了化学结构在去离子水中的样品似乎相当不变。对于铵溶液中的样品,ED和框架谱的结果尚不清楚。X-射线差异对激光前景尝试中产生的少量材料没有结果。
生活的各个领域的数字化,无论是在工作,在家庭环境中,在个人或公共交通工具中,都在稳步发展。在2018年已经超过了40亿人口的限额。使用手机,目前有76亿人口,目前有76亿人口。超过30亿人使用社交媒体,并在十分之九的情况下通过智能手机这样做(请参阅[GDR18])。这一发展在医疗保健领域仍在继续。从“自我追踪”的趋势开始,但也从有效利用收集的医疗数据的需求增加。尤其是在医疗保健领域,无论您当前的位置和时间如何,都可以访问自己的医疗数据。在这种情况下,后端系统将敏感和个人数据存储从脉冲频率,睡眠节奏记录到药物计划和医疗处方。后端系统将用户与多个服务联系起来,因此充当通信集线器。被妥协的应用程序可以无意间披露用户的整个数字寿命,这可能会导致高财务损失。遵守适当的安全标准,尤其是在后端系统领域,可以降低风险,甚至可能阻止这种风险。已经在开发阶段,制造商应非常负责任地计划后端系统如何处理,存储和保护个人,在这种情况下,医疗和其他敏感数据。
摘要:原则上,地面高功率激光器能够通过远程诱导激光烧蚀动量使任何类型的空间碎片物体脱离低地球轨道 (LEO)。然而,效率和操作安全性的评估取决于许多因素,例如大气限制或辐射过程中碎片解体的风险。我们分析了各种目标几何形状和尺寸的激光动量,并且首次在大规模模拟中将热约束纳入激光辐照配置中。使用相干耦合的 100 kJ 激光系统,波长为 1030 nm,脉冲持续时间为 5 ns,在优化的指向仰角范围内,脉冲频率应小于 10 Hz,以防止碎片熔化。对于机械完好无损的有效载荷或火箭体,重复率应该更低。尺寸在 10 到 40 厘米之间的小碎片可以通过大约 100 到 400 次正面照射来脱离轨道,而超过 2 米的物体通常需要超过 1000 次照射才能脱离轨道。因此,基于激光的碎片清除不能被视为处理最高风险大型碎片的主要太空可持续性措施,但它可以使用全球分布的激光站点的小型网络来修复大量小型碎片。
摘要动物神经系统在处理感官输入方面非常高效。神经形态计算范式旨在硬件实现神经网络计算,以支持构建大脑启发式计算系统的新解决方案。在这里,我们从果蝇幼虫神经系统中的感官处理中获得灵感。由于其计算资源非常有限,只有不到 200 个神经元和不到 1,000 个突触,幼虫嗅觉通路采用基本计算将外围广泛调节的受体输入转换为中央大脑中节能的稀疏代码。我们展示了这种方法如何让我们在脉冲神经网络中实现稀疏编码和刺激模式的可分离性提高,并通过软件模拟和混合信号实时神经形态硬件上的硬件仿真进行了验证。我们验证了反馈抑制是支持整个神经元群体中空间域稀疏性的中心主题,而脉冲频率适应和反馈抑制的组合决定了时间域中的稀疏性。我们的实验表明,这种小型的、生物现实的神经网络在神经形态硬件上有效地实现,能够实现全时间分辨率下感官输入的并行处理和有效编码。
摘要:我们对聚酰亚胺纤维上的CO 2激光诱导的电导率进行了激光参数研究。发现诱导的电导率主要发生在扫描线的中心,而不是在整个线宽度上均匀地发生。Microraman检查表明,电导率主要是由于激光照射线中心诱导的石墨烯结构的多层(4-5)的结果。线中心的石墨烯形态和纳米级纤维结构一起以薄壁多孔结构的形式出现。具有每单位长度和激光功率的能量剂量,这种电导率的表面修饰与激光脉冲频率无关,但取决于平均激光功率。可以通过在高功率水平上对激光束进行一次激光束的扫描来实现高电导率。为了达到高电导率,以低功率使用激光,但要以较慢的扫描速度或进行多次扫描来补偿它是有效或有效的。当10毫米扫描长度上的电阻从几百欧姆降低到30欧姆,当单位长度的能量剂量从0.16 j/mm增加到1.0 j/mm,即从5.0 w增加到5.0 w到24 w,在24 W上增加了3.44×10 w/cm 2 2 s cm 2 2 k. 16.54 w/cm的相应功率,一次通行证扫描。相比之下,以超过22.5 mm/s的速度以低于5 W的功率导致非导电开路。
简介CH1817是一个低调数据访问安排(DAA)模块的家族。它们与所有调制解调器芯片集兼容。这些设备已经过测试,以满足或超过FCC第68部分要求,并获得了加拿大文档的批准。他们也被承销商实验室认可为UL 1459规格。CH1817模块是超小(1.0“ x 1.0” x0.35英寸),可轻松整合到太空敏感设计中,包括笔记本电脑和基于手持计算机的产品。CH1817产品家族可以插座或直接安装在印刷电路板(PCB)上。电话线连接是通过尖端和戒指与RJ-11插孔或同等词进行的。CH1817旨在与传真/调制解调器芯片集一起使用,该集合具有通过V.32BI的数据吞吐量。对于高速应用,Cermetek建议使用CH1837A。功能描述环检测。参考图1中的框图,CH1817执行了传入环检测,并且在2秒(典型)环时期内将RI引脚设置为低,并将其恢复到高的高度(典型)环之间。在传入的环信号活性期间,RI输出的脉冲频率与环形信号相同,通常为20Hz。图2包含其他外部电路,可用于提供环形信号的信封指示。内部环检测电路设计为由于线上的脉冲拨号或噪声而导致的错误指示。CH1817的RI输出受到二极管的保护。这可以方便地在功耗引起关注的设计中。因此,当CH1817未连接到功率时,可以利用外部上拉电阻(R> 100KOHM)到 +5V。当以这种方式循环时,几乎没有电流绘制,直到存在环信号为止。
收到:14-09-2020 /接受了修订:22-10-2020 /发布:25-10-2020抽象的脑波是大脑中发生的电活动或大脑中电活动的组合的模式。可以通过脑电图检测到。在大脑中,各种状态与大脑的电气,化学和农业环境不断变化。脑波的类型由脉冲频率定义。大脑产生的不同脑波是α脑波(8-12Hz),β脑波(12-38Hz),伽马脑波(40-100Hz),兰伯达脑波(100-200Hz),Delta脑波(0.5-3Hz),Theta Brain Waves(0.5-3Hz),脑挥手(3-8Hz)(3-8HHS)和EPS <8 HHH和EPS(3-8HHS)和EPS <8HHH和EPS 脑活动通常以脑波的结合为特征。 根据大脑的活性,特定的大脑波将占主导地位。 通过使用不同的方法,它可以通过它诱导或诱使大脑中理想的脑波,可以治疗脑部彻底无药物方法的许多功能障碍。 关键字:脑波,α波,β波,伽马波引言脑波在1920年代中期被德国神经科医生汉斯·伯格(Hans Berger)发现。 脑波是大脑中发生的电活动的模式或大脑中电活动的组合。 可以通过脑电图检测到。 在大脑中,各种状态与大脑的电气,化学和农业环境不断变化。 大脑脑活动通常以脑波的结合为特征。根据大脑的活性,特定的大脑波将占主导地位。通过使用不同的方法,它可以通过它诱导或诱使大脑中理想的脑波,可以治疗脑部彻底无药物方法的许多功能障碍。关键字:脑波,α波,β波,伽马波引言脑波在1920年代中期被德国神经科医生汉斯·伯格(Hans Berger)发现。脑波是大脑中发生的电活动的模式或大脑中电活动的组合。可以通过脑电图检测到。在大脑中,各种状态与大脑的电气,化学和农业环境不断变化。大脑
由 HBr/O 2 组成的等离子体通常用于硅蚀刻工艺,如栅极蚀刻工艺或浅沟槽隔离蚀刻,由于人们对此类化学反应中的硅蚀刻相当了解,因此它成为研究等离子体脉冲对气相和等离子体-表面相互作用的影响的最佳选择。目标是了解连续等离子体和脉冲等离子体之间的根本区别,以及等离子体产生的变化如何影响最终的图案转移。在论文 I 中,我们展示了等离子体脉冲对离子通量和离子能量的强大影响。1 结果显示,占空比 (dc) 而不是脉冲频率对这些参数有显著影响。在本文中,我们重点研究等离子体脉冲对 HBr/O 2 等离子体中的蚀刻机制和图案转移的影响。先前的实验已经证明脉冲等离子体中等离子体引起的损伤有所减少,2 – 4 通常通过使用扫描电子显微镜 (SEM) 成像、椭圆偏振测量和 X 射线光电子能谱 (XPS) 对侧壁钝化层 (SPL) 进行形貌分析。许多作者已经研究了 HBr/O 2 等离子体对硅和 SiO 2 的蚀刻机理。5 – 13 下面总结了 Si 和 SiO 2 蚀刻的基本机理,其中考虑了原料气中极小比例的氧气。含溴、氢和(较少量)氧的离子撞击硅表面、分解、破坏键并形成富含卤素的非晶层,也称为反应蚀刻层 (REL),其中含有 H、Br 和一些 O 原子。非晶层的厚度和成分会根据离子能量、压力和原料气流量而变化。由于氢原子比其他粒子小得多,它们可以更深地渗透到硅层中,然后硅原子可以因碰撞而解吸,或可以融入挥发性物质,如 SiBr 4。含氢分子如 SiH 2 Br 2 的挥发性更强,13 但硅蚀刻并不