机构名称：
¥ 63.0
第四届半导体设备制造清洁技术国际研讨会于 1995 年 10 月在伊利诺伊州芝加哥举行的秋季电化学学会会议期间举行。这是一次非常成功的会议，吸引了世界级的演讲者和大量活跃于晶圆清洁领域的观众。该会议是自 1989 年秋季佛罗里达州好莱坞 ECS 会议开始的系列会议中的第四次会议。从那时起，研讨会吸引了越来越多的论文和与会者。第四届国际研讨会的论文提交量已达到会议的极限。未来论文数量的增加将需要使用海报会议。论文的质量（就科学内容而言）每年都在提高。该研讨会已成为展示晶圆清洁最新成果的首要论坛之一，同时提供了与该领域其他工作人员非正式会面的机会。
半导体器件制造中的清洁技术
主要关键词
相关文件推荐
