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第七届半导体设备制造清洁技术国际研讨会于 2001 年 9 月在旧金山举行的电化学学会秋季会议期间举行。该系列研讨会于 1989 年在佛罗里达州好莱坞举行的学会秋季会议期间发起。从那时起，“ECS 清洁研讨会”已成为半导体界所有参与先进晶圆清洁技术的成员关注的两年一度的活动。回顾过去，我们可以发现硅晶圆清洁科学和工程方面的几项重要新发展，这些发展都是在 ECS 清洁研讨会期间首次推出的。反映这一趋势的是，这些研讨会的论文集一直是电化学学会出版的最受欢迎的论文集之一。
半导体器件制造中的清洗技术
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