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Microchip制造通过新技术“超越极端”
制造商总是在寻找制作微芯片的方法，这些微芯片几乎是所有电子设备的基础，更便宜，更强大。现在，研究人员发现了制造更小的微芯片的新方法。 “公司拥有10到20年及以后的路线图，” […]
来源:宇宙杂志制造商总是在寻找制作微芯片的方法，这些微芯片几乎是所有电子设备的基础，更便宜，更强大。现在，研究人员发现了制造更小的微芯片的新方法。
“公司拥有10到20年及以后的路线图，”美国约翰·霍普金斯大学化学与生物分子工程教授迈克尔·塔萨帕蒂斯（Michael Tsapatsis）说。
“一个障碍是在生产线上找到一个较小特征的过程，您可以快速照射材料，绝对精确地使过程经济。”
微芯片。
该过程称为“光刻”，涉及在硅摇动的顶部打印薄的光敏层或“抵抗”，并用高功率激光照射它。
这触发了抗性的化学和物理变化，将图案和循环燃烧到晶片中。所用的光的波长越短，可以蚀刻的图案越小。
当前，使用“极端紫外线图”（EUVL）生产最先进的微芯片，该图案可产生小于10nm的模式。这种令人难以置信的纳米量表与单个抗体（12nm）或细胞内的RNA分子（7nm）相同。
极端紫外线光刻“While EUVL (13.5 nm) has become a leading candidate for sub-10-nm patterning in semiconductor fabrication, next-generation lithography tools are exploring even shorter wavelengths in the [beyond extreme ultraviolet lithography] range of 6.x nm (6.5–6.7 nm) to push resolution limits further,” writes Tsapatsis and collaborators in a paper published this week in Nature Chemical 工程。
纸 自然化学工程。