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NIST研究旨在提高扫描电子显微镜的效用
使用电子束对微芯片上最小的缺陷和图案进行成像，扫描电子显微镜（SEM）长期以来一直是半导体行业的中流柱。但是，随着行业继续将芯片组件微型化 - 肯定
来源:美国国家标准与技术研究院__材料信息球形延迟场分析仪
使用电子束对微芯片上最小的缺陷和图案进行成像，扫描电子显微镜（SEM）长期以来一直是半导体行业的中流柱。但是，随着该行业继续将芯片组件微型化（对于计算机，可植入的药物分配器，手机和其他设备而言，对SEM图像中越来越多的详细信息的需求都在增长。
尽管无法改善SEM的精致，原子级解决方案，但美国国家标准技术研究所（NIST）的研究人员已经开始了多年的研究，以减少从SEM图像推论的测量中的不确定性。为此，NIST物理学家John Villarrubia及其同事正在进行一系列实验，其中电子散布了不同的材料。通过将散射实验的结果与理论进行比较，团队希望在SEM图像与所研究对象的特征之间建立更精确的联系。
确定生成多少次电子以及检测器实际记录了多少个二级电子 - 是正确解释SEM图像的关键。但是计算这两个数字并不容易。
“因为我们对电子散射的了解是不完整的，并且可能存在重要的错误，因此数学模型计量学家也依靠来解释SEM图像。” Villarrubia说。
信用：S。Kelley/Nist
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