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中国已开始生产自己的先进光刻设备
今年，将出现几套基于深紫外浸没式光刻技术的芯片生产装置。
来源:OSP网站大数据新闻中国已开始批量生产自己的基于浸没式深紫外（DUV）技术的微电路生产设备。据路透社报道，该公司由一家鲜为人知的中国国有企业上海艾圣纳电子科技集团领导，该集团汇集了中国光刻领域领先的初创公司团队。
据The Information了解，今年计划发布约5台DUV机台，交付给中芯国际、长鑫存储等中国领先芯片制造商，2027年将发布约20台DUV机台。
DUV 是一项广泛应用于先进芯片制造工艺部分的成熟技术，通常使用 193 nm 或 248 nm 的波长。它比极紫外技术（Extreme UV，EUV，13.5 nm）更古老，但需要更复杂和昂贵的设备。
艾圣纳成立于2023年8月，注册资本10亿美元，由上海电气控股和上海国际信托旗下两家国有股东支持。艾圣纳没有网站；他们不在那里发布任何有关他们活动的信息。然而，众所周知，艾圣纳联合了玉良盛初创公司和上海微电子设备有限公司（SMEE）的团队，他们去年开始测试 DUV 原型装置。
美国禁止中国购买ASML最新的光刻EUV系统。荷兰的出口管制还限制了中国获得一些先进的深紫外系统。尽管中国努力实现自给自足，但由于中国芯片制造商继续积极采购不太先进的紫外光工厂，中国仍然是阿斯麦最重要的收入来源，约占这家荷兰巨头上半年净销售额的 16%。