摘要 — 本文介绍了一种创新的直通负载元件,旨在用于毫米波频率下的特性分析应用。根据直流控制电压,所提出的结构可以用作直通连接或 50 Ω 负载。除其他潜在应用外,该系统还可用于实现转换开关或衰减器。演示器采用 STM 55 纳米 BiCMOS 技术制造和测量。在 55 GHz 至 170 GHz 的宽带宽上,实验测量表明,当用作直通连接时,插入损耗最大为 1.6 dB,当用作 50 Ω 负载时,插入损耗最小为 14 dB。在这两种情况下,回波损耗都优于 10 dB。90 GHz 的插入损耗对于直通连接为 0.6 dB,对于 50 Ω 负载连接为 20 dB。
Delta Rsquare Delta Rsquare All features (614) 1.75% 0.341 2.63% 0.139 Top 500 features 1.73% 0.354 2.56% 0.129 Top 400 features 1.73% 0.372 2.02% 0.148 Top 300 features 1.71% 0.343 2.22% 0.197 Top 200 features 1.73% 0.393 2.34% 0.22前100个功能1.61%0.405 1.95%0.21 Top 50个功能1.59%0.423 2.00%0.334 TOP 25特征1.62%0.42 2.29%0.372
半导体晶圆加工过程中产生的表面缺陷是微纳米加工面临的主要挑战之一。通常使用光学显微镜扫描晶圆,然后由人类专家检查图像。这往往是一个非常缓慢且令人疲惫的过程。由于可能出现的缺陷种类繁多,开发一种可靠的基于机器视觉的系统来正确识别和分类晶圆缺陷类型以取代人工检查是一项具有挑战性的任务。在这项工作中,我们开发了一种机器视觉系统,用于检查半导体晶圆和检测表面缺陷。该系统集成了光学扫描显微镜系统和基于 Mask R-CNN 架构的 AI 算法。该系统使用具有 MEMS、硅光子学和超导器件的晶圆在不同制造阶段(包括表面缺陷)的显微图像数据集进行训练。所实现的精度和检测速度使该系统有望应用于洁净室。
10 2020 IEEE 第 70 届电子元件和技术会议 │ 2020 年 6 月 3 日 – 6 月 30 日
1. 莱斯大学电气与计算机工程系,美国德克萨斯州休斯顿 77005 2. 莱斯大学应用物理项目,美国德克萨斯州休斯顿 77005 3. 莱斯大学生物工程系,美国德克萨斯州休斯顿 77005 4. 贝勒医学院神经科学系,美国德克萨斯州休斯顿 77030 摘要