(未通过同行评审认证)是作者/资助者。保留所有权利。未经许可就不允许重复使用。此预印本版的版权持有人于2024年12月17日发布。 https://doi.org/10.1101/2024.12.13.628370 doi:Biorxiv Preprint
光响应性聚合物可通过光图案化方便地用于制造防伪材料。然而,一个尚未解决的问题是环境光和热量会损坏光响应性聚合物上的防伪图案。在此,通过对光响应性共轭聚合物 (MC-Azo) 进行光图案化和热退火,开发了光和热稳定的防伪材料。MC-Azo 在聚合物主链中含有交替的偶氮苯和芴单元。为了制备防伪材料,用偏振蓝光通过光掩模照射 MC-Azo 薄膜,然后在光子印章的压力下进行热退火。该策略生成了一种具有双重图案的高度安全的防伪材料,该材料对阳光和 200°C 以上的热量都很稳定。稳定性的关键在于热退火促进了链间堆积,从而将光响应性 MC-Azo 转化为光稳定材料。稳定性的另一个关键是共轭结构赋予 MC-Azo 良好的热性能。本研究表明,利用热退火促进链间堆积的可光刻共轭聚合物的设计为开发高稳定性和安全性的防伪材料提供了一种新策略。