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原子层沉积结合湿法刻蚀制备亚5nm纳米台阶高度参考材料的研究
摘要：纳米台阶作为经典的纳米几何参考材料，在半导体工业中用于校准测量，因此控制纳米台阶的高度是保证测量准确的关键。为此，本研究采用原子层沉积（ALD）结合湿法刻蚀制备了形貌良好的高度为1，2，3和4nm的纳米台阶。利用三维保形ALD工艺有效控制制备的纳米台阶的粗糙度。此外，使用基于仿真的分析研究了表面粗糙度与高度之间的关系。本质上，粗糙度控制是制备临界尺寸小于5nm的纳米台阶的关键。在本研究中，通过ALD和湿法刻蚀相结合成功实现的纳米台阶的最小高度为1nm。此外，基于1nm纳米台阶样品，分析了标准材料质量保证的前提条件和制备方法的影响因素。最后，利用制备的样品进行时间依赖性实验，验证了纳米台阶作为参考材料的最佳稳定性。这项研究对制备高度在5纳米以内的纳米几何参考材料具有指导意义，并且该方法可以方便地用于制备晶片尺寸台阶高度参考材料，从而实现其在集成电路生产线中大规模工业化在线校准应用。
直升机登机台阶的设计
这项工作是与 Airbus Helicopters Deutschland GmbH (AHD) 和 Instituto Superior de Engenharia de Lisboa (ISEL) 合作编写的，作为最终大师的工作，包括开发直升机的登机梯。这是中小型直升机外部设备开发初始阶段的一种方法，着眼于未来的航空认证。开发过程会经历头脑风暴和建模等多个阶段，直到获得具有吸引力和功能特性的模型。获得模型后，开发了一个额外的步骤来方便行动不便的用户登机。随后，根据行业规范，对组件进行了静态研究和结构尺寸标注。在这项工作结束时，开发了一个登机台阶，其中包括一个额外的可扩展台阶。提出了三种可行的模型，两种为金属合金，一种为复合材料，作为公司未来发展的基础。