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CRISPR-CasとOMEGashisutemuの分子基盘 - 生化学
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第 13 盘
在孤立的、隔离的局域网 (LAN) 中，依赖外部更新和基于签名的检测的传统安全方法不足以抵御不断演变的网络威胁、零日攻击和内部威胁。缺乏互联网连接限制了实时更新，使这些网络变得脆弱。此外，一旦用户会话启动，基于密码的身份验证等静态安全机制就无法检测到持续的异常或内部活动。为了应对这些挑战，一个专注于 LAN 安全的全面 AI 驱动解决方案至关重要。该系统将在离线环境中自主运行，利用先进的用户和实体行为分析 (UEBA) 来持续监控用户操作、系统交互、LAN 流量和关键 LAN 参数。通过实时检测偏离正常行为的情况，该解决方案可以识别内部威胁、帐户接管和未经授权的操作。集成的异常检测算法将增强主动威胁识别和风险缓解。该解决方案利用模式分析和行为分析等技术，确保持续监控网络活动、有效跟踪 USB 设备，并提供先进的下一代防病毒 (NGAV) 功能，以便在隔离的 LAN 内全面检测恶意软件。这种基于 AI 的防御机制将动态保护敏感数据和关键任务系统免受现代网络威胁（包括未经授权的 USB 设备连接和恶意软件渗透），从而显著改善隔离网络的整体安全状况。
氧化铈基复合电解质材料研究进展
单相电解质的低离子电导率已不能满足600 ˚C以下的使用要求，制备高离子电导率的复合电解质成为发展方向。本文综述了掺杂CeO 2 无机盐(碳酸盐、硫酸盐)、掺杂CeO 2 金属氧化物以及掺杂CeO 2 钙钛矿复合电解质，分析了第二相对CeO 2 基电解质性能的影响。由于独特的H + /O 2−共导电性，无机盐的加入可以提高掺杂CeO 2 无机盐复合电解质的电导率。掺杂CeO 2 钙钛矿体系总电导率的提高可能是由于晶界电导率提高引起的。在掺杂CeO 2 金属氧化物体系中加入氧化物可以降低烧结温度，提高晶界电导率。以期为制备性能优异的二氧化铈复合电解质提供理论指导。
用于元件抛光的CeO2基复合材料的研究进展
Figure 7. Morphologies and surface roughness values of (a) the initial surface and the polished surface under conditions of (b) without UV-light, (c) TiO 2 film electrode with UV-light, (d) TiO 2 film electrode with UV-light and anodic bias, (e) CeO 2 -TiO 2 composite-film electrode with UV-light and (f) CeO 2 -TiO 2 composite-film elec- trode with UV-light and anodic bias [31] 图 7. (a) 初始表面； (b) 无紫外光条件下抛光表面； (c) 有紫外光并使用用 TiO 2 薄膜电极抛光下表 面； (d) 在有紫外光和阳极偏压的 TiO 2 薄膜电极下抛光表面； (e) 有紫外光并使用 CeO 2 -TiO 2 复合 膜电极下抛光表面； (f) 有紫外光和阳极偏压的 CeO 2 -TiO 2 复合膜电极抛光表面的形貌和表面粗糙 度值 [31]
涡轮发动机盘爆炸
向材料中心的长期工作人员隐瞒这些感谢是不公平的，因为他们为参与完成这项工作付出了一切努力。在研究人员的层面上，首先，对我来说，引用并感谢让-卢·斯特鲁德尔（Jean-Lou Strudel）和安德烈·皮诺（Andr´e Pineau）似乎很重要，他们徒劳地试图将我转变为冶金学家。这是相对失败的，我更喜欢机械和编程，但它们从人性的角度给我带来了巨大的帮助，我在这里保证永远不会忘记他们在这三年里向我传递的东西。愿MM和COCAS团队的所有人都能在这里表达我对他们的建议和沟通的良好幽默感的感谢，特别是magik技术团队Julie和Bertrand。还要感谢车间工作人员、行政人员、足球运动员（Lolo 和 Franky）、游泳运动员（Ti'Frank 和 Steeve）以及所有其他人（Cindy、Yves...）在工作中的帮助，但也只是为了所有一起度过的美好时光都不起作用。我还要感谢中心主任 Jean-Pierre Trottier 和 Esteban Busso 能够为博士生创造和维持如此有效和愉快的工作环境。最后，我要感谢 G´erard Porcher 欢迎我加入位于埃夫里的 IUP 进行监测。如果有必要的话，我会步行穿过 A6 高速公路来这个可爱的地方度过一些时光。