应加快塑料封装 IC 进入军事系统,但不应盲目推广。测试数据显示,在大多数情况下,塑料封装 IC 与陶瓷 IC 一样可靠。然而,人们对于长期储存寿命和极端温度和湿度环境的担忧是合理的。不同供应商的塑料封装微电路 (PEM) 故障率差异很大。显然,它们可以很容易地用于许多非关键、相对无害的军事应用。在另一个极端,IC 必须在极端温度和湿度条件和周期下运行,或者在长期储存(长达 20 年)后保证运行非常重要(导弹和其他武器),军事供应商不愿意放弃经过验证的陶瓷封装可靠性。
欧洲芯片计划以研究为重点:芯片联合行动是“地平线欧洲”和“数字欧洲”计划下关键数字技术联合行动的战略性重新定位,它将从欧盟、成员国、伙伴国家和私营部门筹集 110 亿欧元,用于加强现有的研究、开发和创新。供应安全,针对企业:《芯片法案》将提供一个框架,通过吸引对先进生产能力和相关创新的投资来提高供应安全。20 亿欧元的芯片基金将为初创企业提供融资渠道,以推动创新并吸引投资者。通过 InvestEU 下的半导体股权投资混合设施将吸引更多资本,以支持中小企业扩大规模和拓展市场。此外,各项规定还支持首创的设施,这些设施被归类为“开放式欧盟铸造厂”,主要为其他工业参与者设计和生产半导体元件,以及“综合生产设施”,为欧洲市场设计和生产元件。支持的形式包括快速通道许可、优先使用试验线以及在成员国提供公共支持时相对宽松的国家援助规则。此外,还将有 300 亿欧元的公共和私人投资。监测和危机应对,以协调为目标:成员国和委员会之间的协调机制将监测半导体的供应和价值链,估计需求和短缺,收集公司情报并确定关键弱点和瓶颈。它将为共同的危机评估提供信息,并协调从新的应急工具箱中采取的行动。
图表 9 : SiC 产业链及代表企业 ............................................................................................................................. 6 图表 10 : 导电型碳化硅衬底 ................................................................................................................................. 6 图表 11 : 半绝缘型碳化硅衬底 ............................................................................................................................. 6 图表 12 : WolfSpeed 公司导电碳化硅衬底演进过程 ........................................................................................... 7 图表 13 : SiC 衬底制作工艺流程 ........................................................................................................................... 8 图表 14 : PVT 法生长碳化硅晶体示意图 ............................................................................................................. 8 图表 15 : 用于制备碳化硅的籽晶 ......................................................................................................................... 8 图表 16 : CMP 过程示意图 ................................................................................................................................... 10 图表 17 : CVD 法制备碳化硅外延工艺流程 ........................................................................................................11 图表 18 : SiC 功率器件种类 ............................................................................................................................... 12 图表 19 : SiC-SBD 与 Si-SBD 比较 ..................................................................................................................... 13 图表 20 : SiC-SBD 正向特性 ............................................................................................................................... 13 图表 21 : SiC-SBD 温度及电流依赖性低 ........................................................................................................... 13 图表 22 : SiC-SBD 具有优异的 TRR 特性 ........................................................................................................... 13 图表 23 : SiC MOSFET 与 Si IGBT 开关损耗对比 .............................................................................................. 14 图表 24 : SiC MOSFET 与 Si IGBT 导通损耗对比 .............................................................................................. 14 图表 25 : SiC MOSFET 体二极管动态特性 ......................................................................................................... 14 图表 26 : N 沟道 SiC IGBT 制备技术图 ............................................................................................................. 15 图表 27 : SiC 行业发展阶段曲线 ....................................................................................................................... 16 图表 28 : SiC 市场规模现状及预测 ................................................................................................................... 17 图表 29 : 新能源汽车包含功率器件分布情况 .................................................................................................. 18 图表 30 : 对车载和非车载的器件要求 .............................................................................................................. 18 图表 31 : 车载 OBC 发展趋势 ............................................................................................................................. 19 图表 32 : 硅基材料功率器件的工作极限 ........................................................................................................... 19 图表 33 : 全球新能源汽车碳化硅 IGBT 市场规模 ............................................................................................ 19 图表 34 : 全球新能源汽车市场销量及增长率预测 ............................................................................................ 20 图表 35 : 中国新能源汽车市场销量及增长率预测 ............................................................................................ 20 图表 36 : 2020 年全球新能源乘用车车企销量 TOP10( 辆 ) ................................................................................ 21 图表 37 : 2020 年全球新能源乘用车车型销量 TOP10( 辆 ) ................................................................................ 21 图表 38 : 光伏碳化硅器件优越性 ....................................................................................................................... 22 图表 39 : 全球光伏需求预测 ............................................................................................................................... 22 图表 40 : 全球光伏碳化硅 IGBT 市场规模 ........................................................................................................ 23 图表 41 : 全球光伏 IGBT 市场规模 .................................................................................................................... 23 图表 42 : 2015-2021 年中国累计充电桩数量 ..................................................................................................... 24 图表 43 : 2015-2020 年中国车桩比例 ................................................................................................................. 24 图表 44 : 中国新能源汽车充电桩市场规模及预测 ............................................................................................ 25 图表 45 : 全球充电桩碳化硅器件市场规模 ....................................................................................................... 25 图表 46 : 全球轨道交通碳化硅市场规模及预测 ............................................................................................... 26 图表 47 : 2020 年全球轨道交通运营里程 TOP10 .............................................................................................. 26 图表 48 : 轨道交通碳化硅器件占比预测 ........................................................................................................... 27 图表 49 : 全球轨道交通碳化硅技术采用情况 ................................................................................................... 27 图表 50 : 2015-2025 年中国 UPS 市场规模及预测 ............................................................................................ 28 图表 51 : 2015-2021 年中国 UPS 器件类型情况 ................................................................................................ 28 图表 52 : 2011-2020 年全球 UPS 市场规模及预测 ............................................................................................ 29 图表 53 : 2019-2025 年全球 UPS 碳化硅器件市场规模 .................................................................................... 29 图表 54 : 国外碳化硅衬底技术进展 ................................................................................................................... 30 图表 55 : 碳化硅衬底尺寸市场占比演变 ........................................................................................................... 30
芯片之间的数据通信超过了硅从硅的先前芯片架构的性能,并在不到以前的制造步骤中提高能源效率,从而降低了成本。雄心勃勃:根据以前的工业标准,可以在行业的开创性绩效中进行大规模生产。公司的技术和硬件促进了光学芯片到芯片连接,使各种芯片能够像单个芯片一样相互作用。通过克服硅芯片体系结构的当前限制,这项新技术在各个领域(例如更有效的数据中心,生成性和嵌入式AI和自动驾驶)开设了变革性应用程序。
5 <车用半导体二哥恩智浦为何忙跟鸿海、英业达造生态系?>,《联合新闻网》,2022年7月21日,https:///udn.com/news/story/7240/6478005。6“自动唯一的孤独点”,SC-IQ:SC-IQ:SEMIConductor Intellionce,3月28日,20223年3月28日,2023,HTTPS:///////////////WW。semiconductorintelligence.com/automotive-lone-brightspot/。
B细胞急性淋巴细胞白血病(B-ALL)的高风险亚型经常与异常激活酪氨酸激酶(TKS)有关。这些包括由BCR-ABL驱动的pH+ B-all,以及类似pH的B-all,它带有其他染色体重排和/或基因突变,这些突变激活TK信号传导。目前,酪氨酸激酶抑制剂(TKI)dasatinib被添加到化学疗法中,作为pH+ B-all的护理标准,并且在临床试验中对TKIS进行了测试,以供PH样B-all。然而,即使在针对驱动癌基因的TKI治疗的细胞中,白血病微环境中的生长因子和营养也可以支持细胞周期和存活。这些刺激在激酶MTOR上汇聚,其升高的活性与预后不良有关。在pH+和pH样B-全部的临床前模型中,mTOR抑制剂强烈增强了TKI的抗白血病效率。尽管在B-all中靶向MTOR的概念性有很强的概念基础,但在临床上测试的第一代MTOR抑制剂(Rapalogs和MTOR激酶抑制剂)尚未显示出明确的治疗窗口。这篇评论的目的是将新的治疗策略引入类似于pH的B-All的管理。我们讨论了靶向MTOR的新方法,以克服先前MTOR抑制剂类别的局限性。一种方法是应用对MTOR复合物-1(MTORC1)选择性的第三代双层抑制剂,并以间歇性给药显示临床前的效率。一种独特的非药物方法是将营养限制用于恶性B-所有细胞中的靶向信号传导和代谢依赖性。这两种新方法可以增强pH样白血病中的TKI效率并提高生存率。
为了实现这一潜力,需要一个剧烈的研究,发展和演示计划。这样的计划应包括:基础研究中的扩大努力,包括理论;高温薄膜材料和高温复合线和导体的密集开发;除了追求两种关键支持技术:低温和高强度结构材料以及基于超导体材料的许多工程测试模型的开发,以作为早期对高温超导体早期转移到军事系统的基础。
人工智能将影响我们生活的各个方面。它在半导体制造中也发挥着越来越重要的作用。今年 5 月,在比利时安特卫普举行的由 imec 主办的 ITF World 大会上,NVIDIA 总裁、首席执行官兼董事会成员黄仁勋介绍了 NVIDIA 如何与台积电、ASML、应用材料 (AMAT)、D2S、IMS Nano Fabri- cation 和新思科技等公司合作,将人工智能引入芯片制造。黄仁勋表示:“第一波人工智能专注于计算机视觉和语音识别,已经实现了超越人类的能力,并在机器人、自动驾驶汽车和制造业开辟了数万亿美元的商机。先进的芯片制造需要一千多个步骤,要生产出生物分子大小的特征。要制造具有数千万亿个特征的芯片,每个步骤都必须近乎完美才能产生任何输出。每个阶段都会执行复杂的计算科学,以计算要图案化的特征并进行缺陷检测以进行在线工艺控制。芯片制造是 NVIDIA 加速计算和 AI 的理想应用。”黄仁勋表示,D2S 和 IMS Nano Fabrication 使用电子束构建掩模写入器,以在掩模上创建光刻胶图案。“Nvidia GPU 进行图案渲染和掩模工艺校正,”他说。台积电和 KLA 使用 EUV 和 DUV 照明进行掩模检查。“NVIDIA GPU 处理经典物理建模,
对离子在半导体中产生的电离径迹的产生和传输进行 TCAD 模拟与可靠性以及辐射探测器的设计息息相关。具体而言,可靠性应用侧重于模拟在测试半导体元件是否易受软错误(逻辑器件、存储器,例如 [1] )和单粒子烧毁(功率器件,例如 [2] )影响时发生的瞬态现象。主要的 TCAD 工具已经包含模型和程序(例如 [3] ),但它们存在一些实际限制,例如仅限于单一类型的离子、有效能量范围的限制以及仅适用于硅的校准。此外,现有模型在数值上比较僵化,不易针对其他类型的离子、半导体和能量范围进行校准。本文提出了一个基于物理导向的 Crystal-Ball 函数 [4] 的半导体中低能离子沉积电荷的统一模型。特别关注能量范围分别为 0 – 10 MeV 和 0 – 160 MeV 的 α 粒子和质子。与常用模型相比,这种选择具有几个优势。特别是,α 粒子和质子使用相同的建模函数。此外,与现有解决方案相比,所提出的模型使用的校准参数更少,数值条件良好,并且其校准参数更透明,因为它们与可测量的物理量相关。最后,所提出的模型可以轻松扩展到不同的半导体和离子类型。