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World File Search System溅射
使用PVD Magnetron溅射
摘要。摩擦学成分仅占整个航天器的一小部分，但它们通常会导致部分或完全破坏航天器的失败。空间应用中使用的机械组件必须承受极端和严重的环境条件，例如非常高或非常低的低温温度，高真空，腐蚀性元素和辐射。MOS 2是空间应用中使用最广泛的润滑材料。它具有层状结构，并在层内具有强大的共价键，同时又弱van der Wall的层间键，从而使晶体在平行于基础平面的方向上易于剪切，因此充当良好的固体润滑剂。在这项研究中，使用物理蒸气沉积（PVD）沉积了MOS 2的薄膜纳米尺度涂层。使用的PVD技术是RF磁控溅射过程。使用X射线衍射（XRD），场发射扫描电子显微镜（FESEM）和拉曼光谱进行材料表征。根据结果，开发的MOS 2纳米涂层具有多晶结构，其基础平面垂直于底物表面。
通过溅射钾钠钠
This work presents an air-coupled piezoelectric micromachined ultrasonic transducer (pMUT) with high transmitting acoustic pressure by using sputtered potassium sodium niobate (K,Na)NbO 3 (KNN) thin film with a high piezoelectric coefficient (e 31 ~ 8-10 C/m 2 ) and low dielectric constant ( r ~ 260-300) for the first time.已经测试了以104.5 kHz为谐振频率的制造的KNN PMUT，已测试以表现出前所未有的结果：（1）在10 cm的距离为109 db/v的高声压水平（SPL）为10 cm，比基于ALN的PMUT的频率高8倍； （2）仅4伏峰峰幅度的低压操作（V P-P）； （3）良好接收灵敏度。因此，这项工作介绍了一类新的高SPL和低驾驶电压PMUT，用于在包括但不限于触觉反馈，扬声器和AR/VR系统在内的各个领域的潜在应用中。关键字
有机薄膜中碘的溅射深度分析
将簇离子加速到一个离子柱中，该柱包含WIEN滤波器，栅极阀（用于在维护过程中与仪器隔离），弯曲以去除中性，扫描板和最终焦点镜头。Wien过滤器可以为小簇选择单个簇大小；对于较大的群集，梁组成的质量分布围绕标称群集大小。群集的大小是重要的参数，可以通过调整源条件在较大范围内调节。
磁铁溅射技术，用于分析RF溅射功率对沉积在SIO2/SI底物上的铝薄膜微结构表面形态的影响
摘要在这项研究中，铝（Al）薄膜使用RF磁铁溅射技术沉积在SIO 2 /Si底物上，以分析RF溅射功率对微观结构表面形态的影响。采用不同的溅射RF功率（100-400 W）形成薄膜。使用X射线衍射模式（XRD），扫描电子显微镜（SEM），原子力显微镜（AFM）和傅立叶转换红外（FTIR）光谱研究，研究了沉积的Al薄膜的特征。X射线衍射（XRD）结果表明，低溅射功率的沉积膜具有无定形性质。通过增加溅射功率，观察到结晶。AFM分析结果表明，300 W的RF功率是增强最光滑的Al薄膜的最佳溅射功率。FTIR结果表明，不同的RF功率会影响沉积膜的化学结构。SEM结果表明，通过增加旋转功率，可以导致在底物表面形成孤立的纹理。总而言之，RF功率对沉积膜的性质，尤其是结晶和形状有重大影响。
这是用于使用金溅射目标
序言：SCC生物学科学主席序前生物学生物学生物化学生态科学神经科学微生物学和细胞生物学分子生物物理学单元分子复制发展和化学科学的遗传学疗法预科化学科学化学科学和物理化学材料的固体化学材料固体化学和结构化学材料的物理化学化学化学化学化学化学化学效果，有机化学效果。电气，电子和计算机科学（EEC）的数学物理部（EECS）序前计算机科学和自动化电气通信工程电气工程电气工程电气工程电子系统工程工程工程部序前航空航天航空航天气氛和海洋科学土木科学和海洋工程科学土木工程工程学化学工程工程材料工程工程技术工程技术工程技术范围内>
触觉溅射目标中的纹理不均匀性
溅射沉积如图1所示，溅射沉积过程是通过用离子轰击所需沉积材料的目标来完成的。事件离子在目标内引发碰撞级联。当级联反应以足够的能量克服表面结合能到达目标表面时，可以弹出原子。溅射室的示意图如图2所示。电场将传入的气体电离（通常是氩气）。阳性离子轰击靶（阴极）和溅射原子在底物上（阳极）。可以加热底物以改善键合。溅射产量（即从每个入射离子射出的原子的平均原子数）取决于几个参数，包括相对于表面的离子入射角，离子的能量，离子和靶原子的相对质量以及靶原子的表面结合能。虽然影响溅射的相对较大的数字参数使其成为一个复杂的过程，但具有如此多的控制参数可以对所得膜的生长和微观结构进行很大程度的控制。各向异性的晶体靶材料，晶格相对于靶表面的方向影响溅射产量。在多晶溅射目标中，以不同速率的不同方向溅射的晶粒。这可能会影响沉积薄膜的均匀性。一个关键控制参数是目标材料中纹理的均匀性。图3显示了铜单晶溅射产量的各向异性（Magnuson＆Carlston，1963年）。所有面部中心材料的一般趋势均具有：S（111）> s（100）> s（110）。
溅射 (Fe,Mn)3O4 尖晶石氧化物薄膜用于微型...
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磁活性弹性体上的可调液滴溅射
碰撞结果由多种因素决定，例如表面形貌以及本体和地下材料的刚度。例如，最近的研究表明，软聚合物涂层可能提供一种新颖的技术解决方案，可以显著减少甚至消除飞溅。[11] 然而，迄今为止还无法以动态可调的方式改变此类涂层的机械性能。磁活性弹性体 (MAE)，也称为磁流变弹性体，是一种物理性能可通过外部磁场控制的智能材料。[2,12–20] 它们是混合材料 [21]，由软聚合物基质（有机成分）和嵌入的铁磁微米级颗粒（无机成分）组成。之前的大部分研究集中在 MAE 的本体特性上。就本体机械性能而言，MAE 在较高的磁场下会变得更硬。这意味着它们的弹性模量会随着磁场的增加而增加。 [22] 然而，最近人们意识到，MAE 的表面性质在磁场中也会发生显著改变。特别是，润湿性[23–27]、表面粗糙度[28–33]、粘合性[23,24,34]和摩擦现象[35–37]都被发现强烈依赖于磁场。众所周知，磁场会影响磁流体液滴在刚性非磁性基板上的撞击动力学[38–40]，但非磁性液滴撞击磁性基板的情况似乎是迄今为止被忽视的研究方面。MAE 本体和表面性质发生变化的物理原因是磁化填料颗粒的重构，即由于它们之间的磁相互作用而改变它们的相互排列。只有在足够柔软的聚合物基质中，微观结构才会发生显著的重构。因此，获得适当的基质柔软度是 MAE 制造中的重要挑战之一。根据软 MAE 的大磁场诱导结构变化，可以假设 MAE 表面的液滴飞溅也会受到磁场的影响。本文旨在证明通过外部磁场调节 MAE 表面液滴飞溅行为的可行性。基于高速视频图像分析，我们表明通过改变磁通密度，可以在撞击方式之间切换
磁活性弹性体上的可调液滴溅射
碰撞结果由多种因素决定，例如表面形貌以及本体和地下材料的刚度。例如，最近的研究表明，软聚合物涂层可能提供一种新颖的技术解决方案，可以显著减少甚至消除飞溅。[11] 然而，迄今为止还无法以动态可调的方式改变此类涂层的机械性能。磁活性弹性体 (MAE)，也称为磁流变弹性体，是一种物理性能可通过外部磁场控制的智能材料。[2,12–20] 它们是混合材料 [21]，由软聚合物基质（有机成分）和嵌入的铁磁微米级颗粒（无机成分）组成。之前的大部分研究集中在 MAE 的本体特性上。就本体机械性能而言，MAE 在较高的磁场下会变得更硬。这意味着它们的弹性模量会随着磁场的增加而增加。 [22] 然而，最近人们意识到，MAE 的表面性质在磁场中也会发生显著改变。特别是，润湿性[23–27]、表面粗糙度[28–33]、粘合性[23,24,34]和摩擦现象[35–37]都被发现强烈依赖于磁场。众所周知，磁场会影响磁流体液滴在刚性非磁性基板上的撞击动力学[38–40]，但非磁性液滴撞击磁性基板的情况似乎是迄今为止被忽视的研究方面。MAE 本体和表面性质发生变化的物理原因是磁化填料颗粒的重构，即由于它们之间的磁相互作用而改变它们的相互排列。只有在足够柔软的聚合物基质中，微观结构才会发生显著的重构。因此，获得适当的基质柔软度是 MAE 制造中的重要挑战之一。根据软 MAE 的大磁场诱导结构变化，可以假设 MAE 表面的液滴飞溅也会受到磁场的影响。本文旨在证明通过外部磁场调节 MAE 表面液滴飞溅行为的可行性。基于高速视频图像分析，我们表明通过改变磁通密度，可以在撞击方式之间切换