拓扑绝缘体 (TI) 因其独特的物理特性和广阔的应用前景而在光子学和声学领域引起了广泛关注。由于电子学在构建复杂拓扑结构方面具有优势,它最近成为研究各种拓扑现象的一个令人兴奋的领域。在这里,我们利用标准的互补金属氧化物半导体技术在集成电路 (IC) 平台上探索 TI。基于 Su–Schrieffer–Heeger 模型,我们设计了一个完全集成的拓扑电路链,该电路链使用多个电容耦合电感电容谐振器。我们对其物理布局进行了全面的布局后模拟,以观察和评估显着的拓扑特征。我们的结果证明了拓扑边缘状态的存在以及边缘状态对各种缺陷的显着鲁棒性。我们的工作展示了使用 IC 技术研究 TI 的可行性和前景,为未来在可扩展 IC 平台上探索大规模拓扑电子学铺平了道路。
2024年7月11日 - 但有关部会暂停提名权认定有确实不可避免的理由时,不在此限。 (6)第四款所称“资本关系为人身关系”,是指招投标、承包经营等……
5 聚合物薄膜晶体管的电气和环境稳定性 108 Alberto Salleo 和 Michael L. Chabinyc 5.1 简介 108 5.2 TFT 中的电荷捕获 109 5.2.1 一般考虑 109 5.2.2 有机晶体管中的偏置应力 111 5.3 聚芴和聚噻吩 TFT 中的偏置应力 112 5.3.1 可逆偏置应力 113 5.3.2 长寿命偏置应力 115 5.3.3 偏置应力对工作条件的依赖性;寿命预测 116 5.3.4 偏置应力的微观理论 118 5.4 化学对稳定性的影响 – 缺陷和杂质 119 5.4.1 简介 119 5.4.2 分子结构缺陷 120 5.4.2.1 合成缺陷 120 5.4.2.2 光致缺陷 121 5.4.3.1 热化学分析 123 5.4.3.2 氧 124 5.4.3.3 水 126 5.4.3.4 有机溶剂 127 5.4.3.5 无机杂质 127 5.4.3 杂质 123 5.4.4 TFT 寿命研究 128 5.5 结论 129 致谢 129 参考文献129
执法制裁 DT”;活动日期为 2015 年至 2020 年;主要涉及主题类型:设施;2) CGBI 报告“MISLE 设施活动缺陷 DT”;活动日期为 2015 年至 2020 年;3) CGBI 报告“MISLE 设施人口 DT”;运营状态:活跃;4) CGBI 报告“MISLE 污染物质设施 DT”;活动日期为 2015 年至 2020 年;涉及主题类别:设施 5) CGBI 报告“MISLE 污染物质容器 DT”;活动日期为 2015 年至 2020 年;6) MISLE 设施检查报告,检查类型:FRP 钻机;活动日期为 2015 年至 2020 年
超过10千克,至少由中央处理单元,键盘和显示屏组成”)和8461.41(“其他自动数据处理机:在同一外壳中至少组成至少一个中央处理单元,以及输入和输出单元,无论是否组合,无论是合并的》(是否合并”))在阿拉巴斯塔(Alabasta)的企业范围为18%。
图2 显示主要河流、500m 以上地面(灰色标记)和各个站点代码位置的地图。Minab 地区标有 A -Min 的站点为:A = K7-8;B = Щ K70;С = КЗЗ;D = К9、К І З;E - K19;F = Κ14 Ί5。K66、K169;G - K143、K145;H = K20-25、K27-2Ķ K62-63;I = K29-30;J = K40-43、К54。K67- 69;К - К26;L = Kl-2、K51:M - K162。170;N = K103;o = K102,K130-31 46
1 Ansh Nikhra 2000910200018 Rxlogix 2 Ayushi Ojha 2000910200028 K&S Partners,Emerson 3 Shruuti Mittal 2000910200095 Newgen 4 Utkarsh Singh 200091010200102001020010200107 K&S Partners,Samsunk 5 Yashaswini Srivastava 2000910200113 Newgen 6 Abhik Mourya 2000910210001 Paytm 7 Abhishek Singh Chauhan 2000910210003 K&S Partners 8 ATI GUPTA 20009101010016 CADENCE 9 RIII 9 RIIII Agrawal 2000910210043 UKG 10 Aaditya Pratap Malik 2000910310001 TCS Ninja 11 Aakarsh Gupta 2000910310002 Spark Minda,TCS Ninja 12 Abhishek Maurya Maurya 2000910101010101010101010 Spark Minda 13 2000910310017 Spark Minda 14 Aditya Singh 2000910310021 Akash Gupta 2000910310027 Spark Minda 16 Akash Shukla 2000910310029 Newgen 17 17 17 17 17 17 17 171010101010101010MM Bansal 2000910310031 Quontplay 19 Aman Maurya 2000910310032 Newgen 20 Amish Verma 2000910310033 Newgen 21 Amisha Pandney 2000910310034 UKG 22 AMIT GANGWAR Kandwal 2000910310042 Paytm 24 Anukriti Jaiswal 2000910310043 Acencencencenture,Newgen 25 Anushka Sribastava 200091010045 Accenture 26 Arnika Sharma Sharma 2000910310046 Immerson 27 2000910310054 Ericsson 28 Asmita Rai 2000910310055 K&S Partners 29 Ayush Narayan Sinha 2000910310057 Accenture,Newgen 30 Divyansh Goenka Goenka Goenka 2000910310063 UKG 31 ukg 31 Ggaurang tygaurang tygaurang tygaurang tygaurang tygaurang tygaurang tygaurang tygaurang tygaurang tygaurang tygaurang tygauragigigigigigiii 2000910310068 PAYTM 32 GAUURAV MISHRA 2000910310069 DACBY 33 HARSHIL AWASTHI 2000910310074 ACPENTURE 34 HARSHITA 2000910310075 NEWGEN NEWGEN 35 HRDYANSH PANDEY 200091010078 SHIN SHIN SHIN SHIN SHIN SHIN SHIN SHIN SHIN SHIN学习36 Hrithik Yadav 2000910310079 Avaada 37 Jatin Kumar Sharma 2000910310081 Persist Ventures
摘要:由于硅在自然界的普遍性和其特殊的性质,它是各行各业中最受欢迎的材料之一。目前,冶金硅是通过石英的碳热还原获得的,然后对其进行氢氯化和多重氯化以获得太阳能硅。这篇小型综述简要分析了通过电解熔盐获得硅的替代方法。综述涵盖了决定熔盐成分选择的因素、通过电解熔盐获得的典型硅沉淀物、对将电解硅用于微电子的可能性的评估、在锂离子电流源成分中使用电解硅的代表性测试结果以及将电解硅用于太阳能转换的代表性测试结果。本文最后指出了实际实施电解生产硅的方法、开发用于能源分配和微电子应用的新设备和材料需要解决的任务。
主席蒋国兴中国,上海, 2024 年10 月14 日于本公告日期,本公司之执行董事为蒋国兴先生、施雷先生、俞军先生及沈磊先生; 非执行董事为庄启飞先生、张睿女士、宋加勒先生及阎娜女士;独立非执行董事为曹钟勇先生、蔡敏勇先生、王频先生及邹甫文女士。 *仅供识别