摘要 - 这项研究对近紫外光谱中的低语画廊模式(WGM)微球光学特性进行了全面分析,并通过频率锁定来减少激光线宽的实际实现。由于利用了坚固的角度抛光纤维,可以实现光耦合,从而探索了各种耦合行为。固有的Q 0-因子,在2下测量。2×10 8,以及7个技巧。3×10 4,在420 nm处报告。讨论了导致Q 0-因素的物理机制,并绘制了改善性能的路线。通过将频率锁定到WGM微孔的高Q共振上,已经获得了外部空腔二极管激光从887 kHz降低到91 kHz的线宽。对这些结果的研究将绩效评估带来,从而对局限性有透彻的了解并确定增强降噪的潜在途径。如此高的Q因子和高技巧是简化基于WGM微孔子的光子设备的关键要素。
原子上薄的半导体异质结构提供了一个二维(2D)设备平台,用于产生高密度的冷,可控制的激子。中间层激元(IES),绑定的电子和孔定位于分开的2D量子井层,具有永久的平面外偶极矩和长寿命,从而可以根据需要调整其空间分布。在这里,我们采用静电门来捕获并控制它们的密度。通过电气调节IE鲜明的偏移,可以实现2×10 12 cm-2以上的电子孔对浓度。在此高IE密度下,我们观察到指示了指示IE离子化过渡的线宽扩大,而与陷阱深度无关。该失控的阈值在低温下保持恒定,但增加了20 K,与退化IE气体的量子解离一致。我们在可调静电陷阱中对IE离子化的演示代表了朝着实现固态光电设备中偶极激子冷凝物实现的重要步骤。
气溶胶沉积 (AD) 可通过气流中的粒子沉积形成致密涂层;在 AD 中,气溶胶通过收敛-发散喷嘴,以超音速粒子速度促进惯性粒子撞击所需基材。与热喷涂方法不同,AD 可以在接近室温下应用;与冷喷涂不同,在 AD 中,气溶胶通常在喷嘴上游处于大气压下。尽管之前已成功演示了 AD,但与 AD 系统中粒子运动相关的许多方面仍不太清楚。在这项工作中,我们模拟了具有平面基材的狭缝型收敛-发散喷嘴的典型 AD 工作条件下的可压缩流场分布和粒子轨迹。在检查流体流动分布时,我们发现速度和压力分布以及冲击结构对喷嘴的上游和下游工作压力很敏感。这些最终会影响粒子撞击速度。重要的是,在 AD 中,粒子阻力状态是动态的;粒子克努森数和马赫数都可以相差几个数量级。为了辅助粒子轨迹模拟,我们训练了一个神经网络,根据现有实验数据、理论极限和新的直接模拟蒙特卡罗 (DMSC) 结果预测粒子上的阻力。基于神经网络的阻力定律取决于马赫数和克努森数,与 DSMC 模拟数据相比,其一致性比预先存在的相关性更好。借助该定律,粒子轨迹模拟结果表明,对于给定的粒子密度,存在一个最佳粒子直径,以最大化粒子撞击速度。我们还发现,在 AD 中,粒子会经历与尺寸相关的惯性聚焦,即存在一个特定的粒子直径,其中粒子沉积线宽最小。小于此直径的粒子聚焦不足,大于此直径的粒子聚焦过度,因此在两种情况下都有较大的沉积线宽。使用轨迹模拟,我们还开发了一个框架,可用于评估喷嘴上游任何气溶胶尺寸分布函数的位置相关质量、动量和动能通量到沉积基质的通量。结果表明,对于实验室可达到的典型气溶胶浓度,动能通量可以接近在具有相变的对流传热中通常观察到的量级,因此 AD 中的平动能到热能的传递可能是形成致密涂层的关键因素。关键词:气溶胶沉积;收敛-发散喷嘴,惯性聚焦;惯性撞击;直接模拟蒙特卡罗
摘要:我们报告了一种嵌段共聚物 (BCP) 定向自组装 (DSA) 的方法,其中第一层 BCP 膜部署均聚物刷或“墨水”,这些刷或“墨水”在现有聚合物刷上方的聚合物膜热退火期间通过聚合物分子的相互渗透依次接枝到基材表面。通过选择具有所需化学性质和适当相对分子量的聚合物“墨水”,可以使用刷相互渗透作为一种强大的技术,以与 BCP 域相同频率生成自配准的化学对比模式。结果是一种对引导模式中的尺寸和化学缺陷具有更高容忍度的工艺,我们通过使用均聚物刷作为引导特征而不是更坚固的可交联垫来实现 DSA 来展示这一点。我们发现使用“油墨”不会影响线宽粗糙度,并且通过实施稳健的“干剥离”图案转移,验证了 DSA 作为光刻掩模的质量。关键词:定向自组装、嵌段共聚物、薄膜、先进光刻、缺陷率■ 简介
采用微下拉法生长了一系列 Yb 3 + 掺杂的钇铝单斜 Y 4 Al 2 O 9 (Yb:YAM) 单晶,其中 Yb 3 + 离子浓度分别为 0.1、1、5 和 10 at.%。低温吸收测量表明 Yb 3 + 结合在几个明确的中心。位置选择性激发和发射实验可以定位系统中检测到的主要中心的基态 2 F 7/2 和 2 F 5/2 流形的能级。测量了 10 至 300 K 范围内的跃迁能量和共振跃迁线宽的温度依赖性,并且可以通过一个声子近共振过程很好地描述。还研究了 Yb 3 + 浓度对 Yb:YAM 荧光光谱结构的影响。观察到随着 Yb 3 + 浓度的增加,来自低能位点的发光占据了发射光谱的主导地位。分析了在每个位点的选择性激发下在 10 至 300 K 温度范围内记录的荧光动力学。© 2020 作者。由 Elsevier BV 出版这是一篇根据 CC BY-NC-ND 许可协议开放获取的文章(http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/)。
光学过滤器引起了高级光子仪器和现代数字显示器的巨大兴奋,因为它们的光谱操纵能力具有灵活性。等离子带宽,高光谱对比度和健壮的结构耐受性的等离子元面是光学效果(尤其是在可见的状态),但由于内在的欧姆损失和设计/制造偏差而宽阔的光谱扩大。此处,通过空间脱钩的凹面表面的独特结构设计,通过液体金属的模板固定效率来证明,通过在450至750 nm的光学结构设计中,证明了高性能的跨质面积。由于明显地抑制了金属损失以及界面结构的制造耐受性,因此,经过准备的凹面偏移可以使最小线宽约为15 nm,最大的光学对比度为≈93%,高度衡量的光谱匹配比率高度高度匹配比率≈1500。这些结果在第一次将基于钠的等离子设备的运行波长从红外线推向可见的运行波长,这反过来又表明了迄今为止填写商业介电光学过滤器空白的能力。
摘要:20 世纪 90 年代末,锁模飞秒激光器被引入,成为合成和测量光频率的重要新工具。飞秒激光器的简单性、坚固性和更高的精度使其在光学频率计量领域占有重要地位。此外,它们的使用正在开发基于载波包络相位精确控制的重要新时域应用。预计参考原子和离子中的光学跃迁的窄线宽激光器将很快成为任何类型的最佳电磁频率参考,其预计分数频率不稳定性低于 1 × 10 -15 τ -1/2,不确定性接近 1 × 10 -18 。当与这种超精密频率标准结合使用时,飞秒激光器可用作宽带合成器,将输入光频率相位相干地转换为跨越数百太赫兹的光频率阵列和可计数的微波频率。综合过程中引入的过量分数频率噪声可接近1×10 -19 的水平。
与往常一样,主题演讲概述了半导体行业以及相关微纳米技术领域的发展方向和趋势。去年的重点是限制当前和未来人工智能应用的过度能耗,而 Serge Nicoleau(意法半导体)的主题演讲将这一主题扩展到半导体行业工艺的总体可持续性,即减少资源消耗并日益避免使用有毒或对环境有害的物质,如 PFAS(所谓的永恒化学物质)。Kagawa-san(佳能)、Sebastian Dauvé(CEA-LETI)和 Kurt Ronse(IMEC)的其他主题演讲涉及纳米压印光刻的现状和前景、CEA-LETI 的半导体研究计划(FAMES)和 EUV 光刻。 Kurt Ronse 的贡献尤其预测了到 2040 年纳米技术的预期发展。虽然半导体行业的领先公司即将推出具有技术节点 N2 的高端工艺(例如,最密集布线层的导体轨道宽度约为 11nm),但节点 A1 中只能实现约 6nm(!)的线宽(根据 2040 年的当前路线图)。
摘要:20 世纪 90 年代末,锁模飞秒激光器被引入作为合成和测量光频率的重要新工具。飞秒激光器的简单性、稳定性和更高的精度使其在光频率计量领域占有重要地位。此外,它们的使用正在开发基于精确控制载流子包络相位的重要新时域应用。预计参考原子和离子中的光学跃迁的窄线宽激光器将很快成为任何类型的最佳电磁频率参考,预计分数频率不稳定性低于 1 × 10 -15 τ -1/2,不确定性接近 1 × 10 -18 。与此类超精密频率标准结合使用时,飞秒激光器可充当宽带合成器,将输入光频率相位相干地转换为跨越数百太赫兹的光频率阵列和可计数的微波频率。合成过程中引入的过量分数频率噪声可接近 1 × 10 -19 的水平。
摘要:20 世纪 90 年代末,锁模飞秒激光器被引入,成为合成和测量光频率的重要新工具。飞秒激光器的简单性、坚固性和更高的精度使其在光学频率计量领域占有重要地位。此外,它们的使用正在开发基于载波包络相位精确控制的重要新时域应用。预计参考原子和离子中的光学跃迁的窄线宽激光器将很快成为任何类型的最佳电磁频率参考,其预计分数频率不稳定性低于 1 × 10 -15 τ -1/2,不确定性接近 1 × 10 -18 。当与这种超精密频率标准结合使用时,飞秒激光器可用作宽带合成器,将输入光频率相位相干地转换为跨越数百太赫兹的光频率阵列和可计数的微波频率。综合过程中引入的过量分数频率噪声可接近1×10 -19 的水平。