在过去的几十年中,数字和模拟集成电路的集成密度和性能经历了一场惊人的革命。虽然创新的电路和系统设计可以解释这些性能提升的部分原因,但技术一直是主要驱动力。本课程将研究促成集成电路革命的基本微制造工艺技术,并研究新技术。目标是首先传授构建微型和纳米器件的方法和工艺的实际知识,然后教授将这些方法组合成可产生任意器件的工艺序列的方法。虽然本课程的重点是晶体管器件,但许多要教授的方法也适用于 MEMS 和其他微型器件。本课程专为对硅 VLSI 芯片制造的物理基础和实用方法或技术对器件和电路设计的影响感兴趣的学生而设计。30260133 电子学基础 3 学分 48 学时
对于所有超过 10 英亩的项目,都需要进行环境评估。评估可能采用航空照片;根据佛罗里达州土地使用分类代码 (FNAI.org/gisdata.cfm) 进行的土地使用和覆盖分类;国家湿地清单 SJRWMD (SJRWMD.com/gisdevelopment) 或地面实况调查确定的湿地;佛罗里达州鱼类和野生动物保护委员会的佛罗里达州自然区清单和佛罗里达州环境保护部确定的野生动物走廊和战略栖息地保护区,并酌情辅以实地调查。拟议开发的规划应考虑自然系统,并鼓励开发商使用保护设计技术,例如聚类、密度转移、干墙基础、树井和其他技术,以生产可销售的项目,同时保护自然和历史资源。场地开发计划影响被确定为濒危、受威胁或特别关注物种的潜在栖息地的区域,如 FAC 规则 68A-27 所列,应在获得概念批准之前向佛罗里达州鱼类和野生动物保护委员会 (FWCC) 提供提交证据。考古和历史资源应参考佛罗里达州主站点文件来识别。
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在脑类器官中[58]。 (f)TPP制造光子晶体微纳米传感单元[59]。 (g)成像在脑类器官中[58]。(f)TPP制造光子晶体微纳米传感单元[59]。(g)成像
(b),6.000 nm(c),8.900 nm(d)和9.300 nm(e),其中颜色表示不同的局部晶体结构:蓝色-BCC,绿色-FCC,RED-HCP和White-Inninnown; (f)在1860 PS和d = 9.300 nm的纳米线内的应变分布,其中原子是通过其局部剪切应变颜色的。