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181,《电力法》,2003年(2003年3月36日),第42节,第61节和第86节第42节阅读181,《电力法》,2003年(2003年3月36日),第42节,第61节和第86节
将 DLW 制备的微结构应用于功能设备中,需要具有不同电学、光学、机械和化学特性的各种材料。自适应性材料(即其特性可以在制造后进行定制)是人们所迫切需要的,而可降解性则是人们所最需要的自适应特性之一。[7–9] 然而,DLW 过程中产生的交联聚合物结构(尤其是使用商用光刻胶时)是永久性的。降解此类材料通常需要苛刻的条件,例如经典 (甲基) 丙烯酸网络中酯键的高温水解或激光烧蚀。[7,8] 光刻胶配方中加入了各种化学功能,使印刷结构在特定刺激下破裂,例如化学试剂、[10–12] 酶、[13] 温度或光。[14] 其中,光是首选触发器,可对降解过程进行空间和时间控制。为了将光降解性引入微结构,必须在光刻胶的化学结构中整合一个光不稳定部分。设计光可降解 DLW 光刻胶的一个关键挑战是选择合适的、在写入过程中稳定的光不稳定基团。某些光化学反应,例如香豆素、蒽和肉桂酸酯等化学实体的可逆光二聚化可能适合这些目的,因为它们的二聚化/交联可以在 300 至 400 nm 的紫外线下诱导,而环消除可以在较短波长的紫外线(≤ 260 nm)照射下发生。[15] 然而,这种高能量的 UVA/UVB 照射对于许多应用来说可能过于剧烈,特别是细胞支架。可能更合适的可见光响应光不稳定部分在紫外线下会迅速降解,因此无法在写入过程中存活,而写入过程大多采用这种紫外线波长。 [16] 到目前为止,我们团队只有一份关于从 DLW 中获得光降解网络的报告,其中书写和
2020 当选为美国国家发明家科学院 (NAI) 院士 2017 当选为美国国家工程院 (NAE) 院士 2015 印度理工学院孟买分校杰出校友奖 2015 年 P4 论文荣获 SIGCOMM CCR 最佳论文奖 2014 年 SIGCOMM 终身奖,表彰其“对网络算法的持续和多样化贡献,对研究和工业界都产生了深远影响” 2014 年 Koji Kobayashi 计算机与通信奖,表彰其“对网络算法领域及其在高速分组网络中的应用所做出的贡献” 2014 年 SIGCOMM 最佳论文奖,表彰其“分布式拥塞感知负载平衡” 2014 年 IETF 应用网络研究奖,表彰其“报头空间分析” 最佳论文奖,ANCS 2013,表彰其“数据包解析器的设计原理” 2010-2011 斯坦福大学计算机科学系杰出访问学者 2008 OSDI 最佳论文奖,OSDI 2008 论文“Harnessing Memory Redundancy” 2002,当选为 ACM 会士 2001 计算机科学最佳教师奖,加州大学圣地亚哥分校,2001,由毕业本科生投票选出 1998 最佳导师奖,SIGMETRICS 1997 Big Fish,年度导师奖,华盛顿大学研究生工程学生协会 (AGES) 1997。 1996 ONR 青年研究员奖 1996(在 416 名科学领域的申请者中,有 34 人获奖,1996 年选出 2 名计算机科学家) 1996 PODC 最佳学生论文,与学生 Mahesh Jayaram 合作撰写的论文。 1993 1989-1991 DEC 研究生教育项目 (GEEP) 学者