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俄罗斯国家原子能公司 ROSATOM ...
1. ROSATOM 战略实施 2. 核与辐射安全 3. 核电行业发展前景 4. RAW 和 SNF 管理以及解决“核遗留问题” 5. 北极发展 6. 应急准备 7. ROSATOM 知识管理系统和知识产权保护 8. 公司治理 9. ROSATOM 生产系统 (RPS) 的绩效 10. ROSATOM 新业务的发展，包括 MIC 的多元化
原子频率和时间标准部分
长度计量学并不是频率计量学产生根本影响的唯一领域。Kamper 和 Zimmcrmnn 1971 已经完成了一些绝对温度测量，这些测量涉及频率标准和频率计量学 [Kamper 和 Zimmcrmnn 1971]。他们测量了约瑟夫森结振荡器的频率噪声，该振荡器与浸没在低温浴中的电阻耦合。温度 T 与频率噪声通过涉及 h、e 和 k（分别为普朗克常数、电解质电荷和玻尔兹曼常数）的基本物理关系相关。目前，直流电位差（电动势，EMF）的最佳 [即最清晰、最稳定、最便携] 二级标准是约瑟夫森结
化学1：原子结构和周期表
生命周期评估评估产品的环境影响。LCA评估在以下阶段的水，资源，能源和某些废物生产的使用：•提取和加工原材料•制造和包装•一生中使用和运行•在其使用寿命结束时处置，包括在每个阶段的运输和分发。
原子层沉积薄膜中的界面
和压力，并在每次前体暴露之间进行吹扫循环。[3] 需要彻底了解以选择前体、基材和发生自饱和沉积的温度窗口。之前已全面介绍了 ALD 类型和前体化学，重点是金属硫化物及其应用。[4] 本综述重点介绍 ALD 生产的薄膜中的界面相互作用。术语“界面”是指两相之间的边界——前一层结束和下一层开始的分离边界。理想情况下，这两层在化学上不具有相互作用，界面充当向下一种材料的突然转换。然而，在实践中，接触区域中的物理、化学和电子相互作用是不可避免的。这些相互作用引起的各种现象为与界面相关的研究开辟了新的途径。例如，最明显的相互作用可能是涉及晶格的相互作用。Short 等人。 [5] 报告称，他们在沉积 ZnS 和 Cu x S 多层薄膜的过程中发现，薄膜的结构取决于最先沉积的材料：Cu 2 S 主要呈现单斜结构，而 CuS 和 ZnS 则呈现六方取向。[6]
石墨烯上 AlN 的原子层沉积
M. Beshkova*、P. Deminskyi、C.-W Hsu、I. Shtepliuk、I. Avramova、R. Yakimova 和 H. Pedersen Docent M. Beshkova 电子研究所，保加利亚科学院 72 Tzarigradsko Chaussee Blvd, 1784 Sofia, Bulgaria 电子邮件：mbeshkova@yahoo.com P. Deminskyi 博士、Dr. C.-W Hsu，I. Shtepliuk 博士，林雪平大学物理、化学和生物系 SE-58183 林雪平，瑞典 保加利亚科学院普通与无机化学研究所讲师 I. Avramova。 G.邦切夫街BL。 11，1113 索非亚，保加利亚 R. Yakimova 教授，H. Pedersen 教授 林雪平大学物理、化学和生物系 SE-58183 林雪平，瑞典 关键词：AlN、SiC、石墨烯、ALD、SEM、AFM、XPS 摘要
通过原子随机性计算碳化物的熵
高熵碳化物 (HEC) 备受关注，因为它们是超高温和高硬度应用的有希望的材料。为了发现具有增强屈服强度和硬度的碳化物，需要基于机制的设计方法。在本研究中，提出了位错核原子随机性作为提高硬度的机制，其中位错核处不同元素之间的随机相互作用使位错更难滑移。基于密度泛函理论计算了 a ∕ 2 ⟨ 1 ̄ 10 ⟩ {110} 刃位错的 Peierls 应力，其中通过增加位错核处的元素数量来增加原子的随机性。结果表明，Peierls 应力在统计上随着元素数量的增加而增加，表明加入更多元素可能会产生更高的硬度。基于这一指导原则，我们制备了三种八阳离子 HEC（Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、X、Y）C（X、Y = Mo、W、Cr、Mo 或 Cr、W），其成分由从头计算的形成焓和熵形成能力决定。单相致密陶瓷均表现出约 40 GPa 的高纳米压痕硬度。位错核心处不同元素之间的随机相互作用为提高结构陶瓷的硬度提供了一种机制。
芯片的选择性原子层沉积
实现 AS-ALD 的一种常见方法是使用自组装单分子层 (SAM) 作为抑制剂，以优先阻止一种表面材料上的 ALD 而不是另一种。 [7–14] SAM 是一种有机分子，由头部基团（也称为锚定基团）、主链（通过范德华相互作用参与自组装过程）和尾部官能团组成，其中尾部官能团会影响 SAM 形成后的最终表面特性。通过选择仅与特定表面反应的 SAM 分子头部基团，可以实现选择性 SAM 形成。例如，已证实烷硫醇和烷基膦酸可在金属基材上形成 SAM 结构，但不会在 SiO 2 上形成。 [15–21] 通过使用这两种 SAM 分子作为金属表面 ALD 抑制剂，已有多次成功演示在金属/电介质图案的电介质区域上选择性沉积电介质膜（电介质-电介质，或 DoD）和金属膜（金属-电介质，或 MoD）。[7–12,22,23]
第七部分 原子能设施的许可
第七部分 原子能设施的许可证颁发 目录 页码 I. 一般规定 第 1 节 目的说明 1 第 2 节 定义 1 第 3 节 解释 4 第 4 节 通讯 4 II. 许可证要求和例外 6 节 所需许可证 4 第 7 节 临时许可证 5 第 8 节 例外 5 第 9 节 特定豁免 5 III. 临时许可证的申请、许可证、表格和内容 第 11 节 提交申请 5 第 12 节 合并申请 6 第 13 节 消除重复 6 第 14 节 一般信息 6 第 15 节 技术信息—施工前阶段 7 第 16 节 技术信息—施工 P 8 第 17 节 技术信息和规范—运行阶段 10 IV.临时许可证和执照标准 第 26 节 临时许可证标准 12 第 27 节 执照的通用标准 13 第 28 节 轻水核动力反应堆应急堆芯冷却系统（ECCS）的验收标准 13 第 29 节 轻水冷却动力反应堆可燃气体控制系统标准 14 第 30 节 应急计划 16 第 31 节 防火 17 V. 执照的颁发、限制和条件 第 41 节 执照的颁发 18 第 42 节 执照期限；续展 19 第 43 节 合并许可证 19 第 44 节 许可证的共同固有条件 19 第 45 节 建设许可证的条件 21 第 46 节 运营许可证的条件 22 第 47 节 作为建设许可证和运营许可证条件的行业规范和标准 23
芯片大小的原子时钟的协作开发
“将原子钟从大宫殿束管缩小到碎屑尺度设备而不侵蚀性能需要重新思考几个关键组件，包括真空泵和光学隔离器，以及组件集成的新方法，” Aces计划经理John Burke博士指出。，例如，在微电子学中，几乎所有一个人的工作都是平坦的，克里斯纳指出。但是，基准的客户设计了一个倾斜的部分，这是设计所必需的，但是系统集成的问题。基准团队设计了等同于小型吸力杯的解决方案。此外，基准团队必须开发一种使用传统的微电子设备来制造客户独特的MEMS“脚手架”的方法，以实现小型化解决方案。