ganciclovir抗性突变体759R1)100源自人类巨细胞病毒菌株AD169含有两个抗性突变,其中一个是UL97基因,导致受感染细胞中ganciclovir磷酸化的降低[V. V. V.。 Sullivan,C。L. Talarico,S。C. Stanat,M。Davis,D。M. Coen和K. K. Biron,Nature(伦敦)358:162-164,1992]。在本研究中,我们将第二个突变映射到包含DNA聚合酶基因的4.1-kb DNA片段,并表明它赋予了Ganciclovir抗性而不会损害磷酸化。对4.1-kb区域的序列分析显示,在DNA聚合酶的保守区域V中,在987的位置导致了单个核苷酸变化。重组病毒构建为含有DNA聚合酶突变,但不显示与原始突变体759RD100(22倍)相对于Ganciclovir的中间电阻(4至6倍);重组病毒还表现出对ganciclovir循环磷酸盐(7倍),1-(二羟基-2-二羟基甲基) - 环胞嘧啶(12倍)和磷酸二甲基烷基衍生物(S)-1-(S)-1-(3-羟基-2-磷酸磷酸盐)的抗性。 (S)-1-(3-羟基-2-磷酸甲氧基)胞嘧啶(8至10倍)。但是,重组病毒仍然容易受到某些相关化合物的影响。这些结果表明,人类巨细胞病毒DNA聚合酶是Ganciclovir的抗病毒活性的选择性靶标,Ganciclovir是其某些衍生物和磷酸氧基烷基衍生物的选择。支持区域V在底物识别中的作用;并提出由于聚合酶突变而导致人类巨细胞病毒对这些化合物的临床抗性的可能性。
立面是控制建筑物太阳能流并影响其能量平衡和环境影响的主要接口。最近,已经探索了半透明聚合物的大规模3D打印(3DP),作为一种制造具有定制特性和功能的立面组件的技术。透射率对于建筑外墙至关重要,因为对太阳辐射的响应对于获得舒适感至关重要,并且会极大地影响电力和冷却需求。但是,仍不清楚3DP参数如何影响半透明聚合物的光学性质。本研究建立了一个实验程序,将PETG组件的光学特性与设计和3DP参数相关联。观察到打印参数控制层沉积,该沉积控制层中的内部光散射和整体光传输。此外,层分辨率决定角度依赖性属性。表明,可以调整打印参数以获得量身定制的光学特性,从高正常透明度(≈90%)到透明度(≈60%),并且具有一定范围的雾霾水平(≈55-97%)。这些发现为大规模3DP的定制立面提供了机会,可以有选择地接纳或阻止太阳辐射,并提供空间的均匀日光。在建筑部门脱碳的背景下,这种组件具有减少排放的巨大潜力,同时确保乘员舒适。
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摘要 当今科技发展迅速,各种新奇有趣的材料层出不穷。智能聚合物就是其中一种材料。智能聚合物是具有特殊分子结构的聚合物材料,这些分子结构可以响应不同的外部影响并改变形状。这些聚合物可以响应环境变化而改变形状、体积或其他特性。智能聚合物最显著的特点是它们能够直接响应环境刺激。智能聚合物的形状改变能力通常取决于环境因素,例如热量、湿度、pH 值、光或电。当聚合物分子内的键发生结构变化时,就会发生这种情况。智能聚合物的使用领域非常广泛。它们在医药、纺织、汽车、电子和能源等许多行业中发挥着重要作用。人们对智能聚合物的兴趣日益浓厚,智能聚合物经常用于药物输送系统、生物材料和智能材料的开发。考虑到这些因素,本综述提供了有关智能聚合物、其特性和应用领域的信息。
我们描述了一种分析复杂微生物种群遗传多样性的新型分子方法。该技术基于通过变性梯度凝胶电泳 (DGGE) 分离编码 16S rRNA 的聚合酶链式反应扩增基因片段,这些片段的长度相同。对不同微生物群落的 DGGE 分析表明,分离模式中存在多达 10 个可区分的条带,这些条带很可能来自构成这些种群的许多不同物种,从而生成了种群的 DGGE 图谱。我们表明,可以识别仅占总种群 1% 的成分。使用针对硫酸盐还原菌 16S rRNA 的 V3 区特异性的寡核苷酸探针,可以通过杂交分析识别某些微生物种群的特定 DNA 片段。对在有氧条件下生长的细菌生物膜的基因组 DNA 进行分析表明,尽管硫酸盐还原菌具有厌氧性,但它们仍存在于这种环境中。我们获得的结果表明,该技术将有助于我们了解未知微生物种群的遗传多样性。
将氧等离子体处理的石英晶片切割成1cm2用于PPMS(霍尔、磁阻、温变电导)和XPS测量中的所有电学测量。由于尺寸要求,将氧等离子体处理的ITO基板切割成0.5 cm * 0.5 cm用于PES和IPES测量,将氧等离子体处理的石英晶片切割成0.6 cm * 0.4 cm用于高场霍尔测量。所有基板在使用前分别在丙酮和异丙醇中通过超声波清洗工艺清洗10分钟。将C 14 -PBTTT溶液以3000 r/min的转速旋涂到相应的基板上,形成厚度约25nm的PBTTT薄膜,然后将获得的薄膜在150°C下退火10分钟,让其冷却至室温。将Cytop溶液旋涂到所有掺杂后的电学测量薄膜上进行封装,再通过光刻和氧离子刻蚀实现霍尔棒结构的图形化。掺杂工艺
镍磷酸催化剂,遵循Tamao等人报告的程序。34电化学合成和环状伏安法(CV)在EG&G PAR 273型Potentiostat/galvanostat上进行。用饱和的钙胶电极(SCE)用作参考和铂金箔作为工作和反电极,用饱和的钙胶电极(SCE)用作。 用铬酸洗涤工作电极,然后用水洗涤,并将其抛光至CA的最终平滑度。 0.1 PRM,含氧化铝抛光粉,然后用蒸馏水和乙腈彻底冲洗。 在Perkin-Elmer 1610 FTIR光谱仪上记录了聚合物-KBR颗粒的红外光谱。 使用测量电导率。用铬酸洗涤工作电极,然后用水洗涤,并将其抛光至CA的最终平滑度。0.1 PRM,含氧化铝抛光粉,然后用蒸馏水和乙腈彻底冲洗。在Perkin-Elmer 1610 FTIR光谱仪上记录了聚合物-KBR颗粒的红外光谱。使用
基于小分子受体(SMA)的全PSC。 [1–8] 近年来,随着新型高效PD和聚合小分子受体(PSMA)的快速发展,全PSC的能量转换效率(PCE)已升至16%。 [9–14] 然而,目前报道的PCE超过13%的全PSC仅有少数,仍然远低于最先进的基于SMA的全PSC。更重要的是,它们的机械性能还远远达不到可穿戴设备的要求(即要求裂纹起始应变(COS)至少为20–30%)。阻碍基于PSMA的全PSC性能的主要障碍是强烈相分离的共混物形貌,这是由于高分子量PD和PSMA的分离导致的,从而导致电荷产生和传输无法优化。 [15,16] 这些非最优形态通常包括共混膜中的许多缺陷位点(即尖锐的畴-畴界面和大的聚合物聚集体),限制了低 COS 下的机械强度和拉伸性。[17–19] 此外,聚合物共混物的相分离受 PD 和 PA 的聚集和结晶行为的影响。特别是,含有高度结晶、刚性 SMA 单元的 PSMA 通常具有非常强的结晶和聚集特性,导致强烈的相分离
这项迷你审查将重点放在过去3年中乙烯基聚合物的光催化升级和解聚的发展。首先简要讨论聚苯乙烯的升级,以及有关其他不可生物降解聚合物的升级的最新报道。有关聚苯乙烯升级的全面摘要,鼓励读者参考最近的出色评论。[6,7b,c,8]相反,这项迷你综述旨在对乙烯基聚合物的光催化降解进行严格讨论,包括聚甲基丙烯酸酯,聚丙烯酸酯,聚丙烯酸酯和其他材料,例如聚乙烯基醚。尽管当前的聚合物晶体降解策略不会像聚苯乙烯那样产生高增值的小分子,但它们可以通过高效的光催化过程将其完全解散回成单体。最后但并非最不重要的一点是,在讨论我们对令人兴奋的新方向的愿景中提供了关键的未来前景。
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