该项目旨在对以过渡金属二硫属化物 (TMD) 和金刚石材料为代表的二维和三维异质结构进行全面的实验研究。其主要重点是两种不同配置的 TMD/金刚石异质结构的制造和表征,即金刚石上的 TMD 和 TMD 上的金刚石。将通过各种传统和先进的分析技术来表征形态、化学和光电特性以及物理过程。结果将用于从根本上理解所制备的 TMD/金刚石异质结构的生长机制、相互作用和特性。同时,将制造选定的 TMD/TMD 异质结构,以将其生长机制和特性与 TMD/金刚石异质结构进行比较。此外,还将研究通过内部(掺杂、诱导应力、局部缺陷)和外部(电场和磁场、压力和光激发)调制定制的 TMD/金刚石异质结构特性。预计在 TMD/金刚石界面和本体处,可以控制诸如金属与半导体的转变现象、带隙排列、费米能级偏移或发光等效应。
v.yu.dolmatov。技术科学博士,SDTB Tekhnolog研究实验室负责人。电子邮件:dimondcentre@mail.ru当前的研究兴趣:爆炸纳米座的合成和化学净化的理论和应用原理,开发用于生产经过修饰和掺杂的纳米座的新方法,纳米材料的表面化学,纳米材料的表面化学,用于使用Nano-Diaonds of Lighonds技术的技术。A.N.ozerin。 化学科学博士,ISPM RAS的科学主管。 电子邮件:ozerin@ispm.ru当前的研究兴趣:高分子重量化合物;聚合物和聚合物复合材料的物理和力学;大分子化合物的化学;处理聚合物和聚合物复合材料的技术;凝结物理学;化学物理学;聚合物的X射线衍射分析;计算机模拟。 I.I.Kulakova。 PhD化学,MSU化学系石油化学和有机催化的领先研究员。 电子邮件:inna-kulakova@yandex.ru当前的研究兴趣:异质性催化,固体的表面化学,爆炸纳米座量的化学修饰,改良纳米符号在催化和生物医学中的应用。 O.O.BOCHECHKA。 技术科学博士,乌克兰ISM NAS研究副主任。A.N.ozerin。化学科学博士,ISPM RAS的科学主管。电子邮件:ozerin@ispm.ru当前的研究兴趣:高分子重量化合物;聚合物和聚合物复合材料的物理和力学;大分子化合物的化学;处理聚合物和聚合物复合材料的技术;凝结物理学;化学物理学;聚合物的X射线衍射分析;计算机模拟。 I.I.Kulakova。 PhD化学,MSU化学系石油化学和有机催化的领先研究员。 电子邮件:inna-kulakova@yandex.ru当前的研究兴趣:异质性催化,固体的表面化学,爆炸纳米座量的化学修饰,改良纳米符号在催化和生物医学中的应用。 O.O.BOCHECHKA。 技术科学博士,乌克兰ISM NAS研究副主任。电子邮件:ozerin@ispm.ru当前的研究兴趣:高分子重量化合物;聚合物和聚合物复合材料的物理和力学;大分子化合物的化学;处理聚合物和聚合物复合材料的技术;凝结物理学;化学物理学;聚合物的X射线衍射分析;计算机模拟。I.I.Kulakova。 PhD化学,MSU化学系石油化学和有机催化的领先研究员。 电子邮件:inna-kulakova@yandex.ru当前的研究兴趣:异质性催化,固体的表面化学,爆炸纳米座量的化学修饰,改良纳米符号在催化和生物医学中的应用。 O.O.BOCHECHKA。 技术科学博士,乌克兰ISM NAS研究副主任。I.I.Kulakova。PhD化学,MSU化学系石油化学和有机催化的领先研究员。 电子邮件:inna-kulakova@yandex.ru当前的研究兴趣:异质性催化,固体的表面化学,爆炸纳米座量的化学修饰,改良纳米符号在催化和生物医学中的应用。 O.O.BOCHECHKA。 技术科学博士,乌克兰ISM NAS研究副主任。PhD化学,MSU化学系石油化学和有机催化的领先研究员。电子邮件:inna-kulakova@yandex.ru当前的研究兴趣:异质性催化,固体的表面化学,爆炸纳米座量的化学修饰,改良纳米符号在催化和生物医学中的应用。O.O.BOCHECHKA。 技术科学博士,乌克兰ISM NAS研究副主任。O.O.BOCHECHKA。技术科学博士,乌克兰ISM NAS研究副主任。
钻石中的色心已成为一系列量子技术(从量子传感到量子网络)的主要固态“人造原子”。目前,协同研究活动正在进行中,以识别新的色心,这些色心将钻石中氮空位(NV − )的稳定自旋和光学特性与硅空位(SiV − )中心的光谱稳定性相结合,最近的研究还发现了其他具有优异特性的 IV 族色心。在本文中,我们从第一原理研究了一类新的钻石量子发射体,即 III 族色心,我们表明它们在自旋为 1、电场不敏感的结构中具有热力学稳定性。从从头算电子结构方法,我们表征了这些 III 族色心激发态流形中存在的乘积 Jahn-Teller (pJT) 效应,我们在那里捕捉到了与强电子-声子耦合相关的对称性破坏畸变。这些预测可以指导 III 族空位中心的实验识别及其在量子信息科学和技术应用中的使用。
摘要 纳米金刚石是一种极具吸引力的抗癌药物载体。纳米金刚石颗粒在医学应用方面的主要优势在于它们与非癌细胞具有高相容性、表面可修饰治疗和癌细胞靶向分子,以及制造成本相对较低。此外,纳米金刚石载体可显著提高所载药物的治疗效果,因此抗癌药物在较低剂量下可发挥更有效的作用。因此,较低的药物剂量可减少副作用。修饰有靶向分子的载体主要在肿瘤组织中积聚,而这些纳米金刚石颗粒会削弱药物从癌细胞中流出。考虑使用纳米金刚石载体的治疗方法已在体外和体内进行了测试。现在,研究人员特别关注全身应用纳米金刚石载体可能产生的副作用。纳米金刚石载体的行为在很大程度上取决于其表面涂层,因此必须分别评估每种治疗复合物。一般而言,纳米金刚石载体的位点特异性应用似乎是一种相当安全的治疗方法,但静脉应用需要进一步研究。纳米金刚石载体的益处是显著的并且代表着克服多种癌症耐药性的有效方法。
抽象的钻石量子处理器由氮气散布中心和周围的核自旋组成,一直是室温量子计算,量子传感和显微镜的显着进步的关键。这些处理器的优化对于开发大型钻石量子计算机以及下一代增强的量子传感器和显微镜至关重要。在这里,我们提供了一个多量子钻石量子处理器的完整模型,并开发了一种用于设计栅极脉冲的半分析方法。此方法在存在随机控制误差的情况下优化了门的速度和实现,并且与反馈优化例程很容易兼容。从理论上讲,对于单量门门,在接近10-5的限制中,并确定了证据表明,这也可以实现两倍的CZ门。因此,我们的方法将控制误差的效果降低到高细胞未对准的误差和处理器内部固有的不可避免的破坏性。开发了这种最佳控制后,我们通过计算量子傅立叶变换来模拟钻石量子处理器的性能。我们发现,模拟的钻石量子处理器能够以低误差概率实现快速操作。
摘要量子达尔文主义的理论旨在解释我们的客观经典现实是如何从量子世界中产生的,它是通过分析涉及量子系统的信息的分布,该量子系统可访问多个观察者,这些观察者可以通过拦截该系统来拦截该系统的环境片段。先前的工作表明,当环境碎片的数量增长时,建模从系统到观察者的信息流的量子通道变得越来越接近 - 按照钻石规范距离的术语 - 以“测量和播放”通道,从而确保可观察到的客观性;收敛是由钻石标准距离上的上限形式化的,该距离随着碎片数量的增加而降低。在这里,我们在有限尺寸的量子系统的客观性中得出了更严格的钻石规范范围,提供了一种可以在有限次和有限二维的情况下桥接的方法。此外,我们通过考虑纯损耗通道给出的系统环境动力学的特定模型来探测边界的紧密度。最后,我们概括为有限的维度,这是品牌〜Ao等人获得的结果(2015Nat。社区。6 7908),它提供了量子不和谐的操作表征,从与许多当事方的相关性的单方面重新分布。我们的结果提供了一个统一的框架,可以定量基准在量子到古典过渡中的客观性上升。
近年来,金刚石中的氮空位 (NV) 中心已经成为一个类似原子的系统,在精密测量、量子信息处理和量子基础研究方面有许多应用。在本文中,我们重点研究了 NV 中心作为光激发和局部温度传感的函数的特性。为了证明 NV 中心对基础科学研究和技术应用的巨大潜力,对 NV − 缺陷中心,特别是在各种光激发下的了解仍然不足。在本文中,我们探讨了影响 NV − 中心 ODMR 信号的几个因素,例如微波辐射源的功率、磁场强度、光激发强度和光学系统的检测效率。用于这些实验的光谱方法称为光学检测磁共振 (ODMR)。实验旨在测量不同类型样品在不同光激发强度下NV − 中心的对比度特性,并通过能级模拟模型估计能级间的布居分布,从而得到实验结果。这些观察结果和模型为理解不同光激发下NV 中心成像的对比度分析提供了良好的理解,也为改进NV − 检测奠定了基础。之后,利用实验所得知识,采用第 3 1 章中提出的无背景成像技术,该方法被用于绘制神经元细胞培养中接种的纳米金刚石的图像。为了了解不同光激发强度下NV − 中心对比度的一般特征,对多个单晶样品进行了实验,并在第 4 章中报告了实验结果。第 5 章研究了NV − 中心的温度检测特性。介绍了一种称为跳频法的新方法来检测所需表面的局部温度变化。该方法首先在单晶金刚石样品上进行测试,然后在纳米金刚石上进行测试。最后,该技术被应用于测量局部温度变化的实际问题
在过去的十年中,单晶钻石(SCD)生长的显着技术进步导致了高质量SCD底物的商业产品,通常以尺寸的几个平方毫米的良好特定板的形式获得[1]。同时,此类板的成本已大大降低[2],这引发了重要的研发工作,旨在利用SCD的特性[3],热[4]和机械性能[5] [5]用于电子学中的各种应用[6],光(光(光环)[7-10],光学和光学技术[11] [11] [11] [11] [11] [11] [11] [11])[11] [11] [11] [11] [11] [11] [11] [11] [11] [11] [11] [11] [11] [11]。高质量的SCD板是通过化学蒸气沉积(CVD)[13,14]或高压高温(HPHT)[15]技术生长的。记录示范最近产生的SCD底物直径为10 cm [16],但如今更典型的尺寸为1 mm – 10 mm,厚度为50μm -1 mm。基板以不同的“等级”类别提供(例如电子[6,17],光学[18]或机械[19])根据其杂质的程度,这表明底物性质已被遗忘,特别适合特定的应用区域。SCD的精确成型主要是使用激光切割和烧蚀技术以毫米尺度的目标维度进行的,具有几微米的精确性要求,例如切片钻石板或制造切割工具,用于转弯,敷料或铣削。微丝[41-47]和光栅[48,49])和光子学(例如用于耦合器[50-54]和谐振器[52,55-59])。激光处理也用于千分尺尺度的结构,例如复合折射率[20-23],埋入的波导[24-26]和微通道[27,28]。离子束蚀刻(IBE)可以有效地平滑并抛光SCD板[29,30],而聚焦的离子束(FIB)铣削已用于制造悬浮的结构[31-33],砧[34,35]和固体膜片[36-38]。尽管这些图案技术对于一组特定形状和设备最有效,但基于反应性离子蚀刻(RIE)制造方法是最常用的方法,用于广泛的应用,需要亚微米精度[39,40],例如微观典型(例如,与Rie相比