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揭露潜在的：胶质母细胞瘤中溶瘤病毒的神经炎性调节机制
胶质母细胞瘤是一种侵略性和致命的脑肿瘤，提出了巨大的临床挑战，包括分子异质性，高复发率，对常规疗法的耐药性以及在血脑屏障中的治疗渗透有限。以细胞和非细胞成分的动态相互作用为特征的胶质母细胞瘤微环境是肿瘤生长和治疗性耐药性的关键驱动力。神经炎性细胞因子，尤其是白细胞介绍和肿瘤坏死因子 - α-在这种微环境中起关键作用，有助于肿瘤进展和免疫逃避。这篇评论将溶瘤病毒疗法作为一种有希望的治疗途径，重点是其调节神经炎症反应的潜力，诱导局部免疫反应并将免疫调节因子直接传递到肿瘤部位。虽然已经观察到了令人鼓舞的结果，但诸如克服血脑屏障，管理宿主抗病毒药的挑战以及减轻正常神经元细胞的潜在风险仍然是临床翻译的关键障碍。通过分析溶瘤病毒与临床前和临床试验中的胶质母细胞瘤微环境和合成发现的复杂相互作用，该综述为基于Oncoloty Virose Papy
通过使用纳米球自组装掩模直接蚀刻来改进 PDMS 模具制造，以制造软 UV-NIL 亚波长超表面
随着超表面在光学应用领域的应用越来越广泛，在其开发中需要一种能够以低成本实现大表面和亚100纳米尺寸的制造方法。由于其高吞吐量和小结构化能力，软纳米压印光刻是制造此类器件的良好候选方法。但是，由于必须使用低粘度聚合物才能达到所需尺寸，因此阻碍了其在可见光波长下超表面的应用，这使得最终的压印件更易碎，且该过程更昂贵、更复杂。在此，我们提出了一种PDMS模具制造方法，该方法依赖于PDMS的自组装掩模，然后直接蚀刻模具，从而与聚合物粘度无关可达到的最小尺寸。我们对使用我们的方法获得的模具制造的超表面进行了表征，验证了其在大表面器件纳米制造中的应用。
新型深紫外微型 LED 阵列推动无掩模光刻技术发展
光刻技术在集成电路芯片制造中发挥着至关重要的作用，是半导体和微电子工业的关键核心技术之一。20世纪90年代以来，低成本、高分辨率无掩模光刻系统成为先进光刻技术研究的热点。然而，该项前沿技术的专利主要掌握在欧洲、美国、日本和韩国手中，技术壁垒较高。
静态掩蔽技术在磁控溅射技术中线性可变滤光片生产中的应用
从设计角度来看，获得可变滤波器的可能性取决于多层涂层的光谱特性与某些层（如果不是全部）厚度的依赖关系。在由两个金属镜形成的法布里-珀罗滤波器的特定情况下，腔层厚度的简单变化会使其中心波长发生偏移。这种简单的结构具有自然提供宽抑制带的优势，但不足以提供尖锐的过渡带通，并导致高吸收损耗。为了改善最后一点，一种解决方案是使用所谓的感应透射滤波器方法，其中金属层放置在介电法布里-珀罗滤波器腔内电场分布最小处 [2-4]。然而，生产具有任意指定抑制、宽度和锐度特性的滤波器的唯一方法是使用标准的全介电方法，该方法由多腔法布里-珀罗结构与附加介电短波长和长波长通断滤波器相关联形成。在这种情况下，所有层的厚度必须通过一个公共因子进行调整，从而产生比例的波长偏移，以产生可变滤波器[5,6]。
揭开正常血糖糖尿病酮症酸中毒的面纱
我们报告了一名 35 岁孕妇的病例，该孕妇有 2 型糖尿病、高血压和高脂血症病史，出现发冷、肩痛和活动范围减少两天病史。患者对度拉糖肽有顺应性，但不服用胰岛素。她有慢性左肩疼痛病史，通过关节内注射皮质类固醇治疗，影像学显示无骨折迹象。患者因左肩化脓性关节炎入院。住院期间，她出现阴离子间隙升高代谢性酸中毒，血糖略有升高。她的酮尿和糖尿检测呈阳性。入院后，她的病情恶化，被转入重症监护室接受 EDKA 治疗。开始胰岛素滴注，导致她的阴离子间隙和酮症酸中毒得到解决。
揭示血钙正常的原发性甲状旁腺功能亢进症......
钠-葡萄糖协同转运蛋白 2 (SGLT2) 抑制剂与骨代谢具有复杂的相互作用，包括甲状旁腺激素 (PTH) 水平升高。我们在此报告一例由原发性甲状旁腺功能亢进引起的 SGLT2 抑制剂诱发的高钙血症病例。在正常钙血性原发性甲状旁腺功能亢进症亚组中，开始使用 SGLT2 抑制剂可以揭示导致明显高钙血性甲状旁腺功能亢进症的疾病。虽然正常钙血性原发性甲状旁腺功能亢进症是一种罕见疾病，但我们建议在钙水平处于正常上限和正常总 25-羟基维生素 D 水平的患者中，在开始使用 SGLT2 抑制剂之前获取基线 PTH 水平，尤其是在他们正在补充维生素 D 的情况下。应重新检查 PTH 以排除明显的原发性甲状旁腺功能亢进症。
EUV 掩模吸收层的优化
极紫外光刻 (EUVL) 是最有前途的技术之一，它可将半导体器件制造的极限扩展到 50 纳米及以下的临界尺寸 [1]。EUVL 需要制造反射掩模，它不同于紫外可见光光刻技术所用的传统透射掩模。极紫外 (EUV) 掩模由一个 EUV 波长的反射镜组成，反射镜上沉积了吸收图案堆栈。干涉镜由高折射率和低折射率材料的交替堆栈制成，通常是沉积在基板顶部的 40 个 Mo/Si 双层。通过调整 Mo 和 Si 层的厚度，可以针对 13.5 纳米的波长优化反射率。对于“双层工艺” [2]，吸收图案堆栈由缓冲层顶部的导电吸收层制成，缓冲层用作蚀刻停止层以及吸收层修复步骤中的保护层。过去几年，人们评估了多种材料（Ti、TiN、Al-Cu、TaSi、Ta、TaN、Cr）[2–4] 作为 EUV 掩模的导电吸收材料的可能性。图 1 描述了这种基本的减法 EUV 掩模工艺流程，其中采用了“双层”吸收堆栈。
揭露塞尔维亚和波斯尼亚和黑塞哥维那的生物质困境
24合并版本：欧洲议会的指令2003/87/EC 2003年10月13日的理事会建立了一个在工会内建立温室气体排放津贴和修订理事会指令96/61/EC，OJ L 275，OJ L 275，2003年10月25日，2003年10月25日，第14条，委员会及其委员会（EU MONIPERING of MONIPERING of MONIPERING of GREENERING of GREEN HORIPENTING 2018 ANDERING of GREEN HOLITHENTING 2018 ANFORINGING）2018年2018年12月20日。根据欧洲议会的2003/87/EC指令的排放，安理会和修订委员会法规（EU）第601/2012号，OJ L 334，2018年12月31日，第38.5条。2018/2066的委员会实施法规（EU）的改编版本在2022年被能源社区部长委员会采用，并于2023年12月31日进行了换位截止日期。
揭穿 Deepfakes：利用增强和特征可变性进行 Deepfakes 语音检测
随着深度伪造技术的快速发展，深度伪造语音的检测变得越来越具有挑战性。在本文中，我们提出了一种用于深度伪造语音检测的混合架构，将用于特征提取的自监督学习框架与分类器头相结合，形成端到端模型。我们的方法结合了音频级和特征级增强技术。具体而言，我们介绍并分析了用于增强原始音频频谱图和在训练期间增强特征表示的各种掩蔽策略。我们在特征提取器的预训练阶段加入了压缩增强，以解决小型单语言数据集的局限性。我们在 ASVSpoof5（ASVSpoof 2024）挑战赛上对该模型进行了评估，在封闭条件下在 Track 1 中取得了最佳结果，等错误率为 4.37%。通过使用不同的预训练特征提取器，该模型实现了 3.39% 的增强 EER。我们的模型表现出了抵御未知深度伪造攻击的强大性能，并在不同的编解码器中表现出了强大的泛化能力。
Contramae：癌症生存预测的对比度对齐掩盖自动编码器框架
摘要 - 随着多模式融合技术的快速发展，病理图像与基因组学数据的整合已在癌症生存预测中取得了令人鼓舞的结果。但是，大多数现有的多模型模型不是通过结合病理学和基因组学模态来预训练的，而忽略了不同模态之间固有的任务无关联的关联。尽管某些自我监督的方法通过预训练的目标（例如相关性和均方误差）来对齐多模式信息，但它们缺乏深入的多模式相互作用。为了解决这些问题，我们提出了Contramae，这是一种对比度对齐的掩盖自动编码器框架，以融合病理学图像和基因组学数据，以进行癌症存活预测。具体而言，我们引入了一个对比目标，以使多形态保持一致并构建其内在的一致性。此外，我们设计了两个重建目标，以通过互补偿双方所缺乏的信息来捕获多模式之间的复杂关系。在生存预测中，将Contramae编码器的病理和基因组学编码串联为产生生存风险评分的最终表示。实验结果表明，在五个癌症基因组图集（TCGA）中，CONTORAMA的表现优于五个癌症数据集的现有最新方法。该代码可从https://github.com/suixuewang/contramae获得。