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World File Search System剖析
解决和缓解人寿保险的偏见
模型偏差。人寿保险部门内的后果是深远的，影响了围绕政策定价，承保和风险评估的关键决策，以及潜在的歧视性影响的资格。本节段深入研究模型偏差的理论基础，对其各种表现进行了分类，并通过特定于部门的场景说明了其发生。通过剖析偏见无意间编码为预测模型的实例，我们旨在阐明这种偏见使社会差异永久存在的途径，从而挑战精算专业，以严格评估和完善其分析方法。
肯尼亚反恐战略面临的挑战和经验教训
本研究采用文献综述来了解肯尼亚反恐面临的挑战。文献综述的使用为了解肯尼亚反恐所面临的挑战提供了基础。通过这种方法，本研究调查并综合了现有的学术文章、报告、政策文件和相关文献。这项全面的审查为确定影响该国反恐形势的关键概念、历史背景和流行趋势奠定了基础。然后采用主题分析来系统地剖析所审查的文件，以便确定反复出现的主题、关键见解和潜在模式。这种综合方法促进了
成瘾相关的遗传变异暗示着成瘾神经生物学中的脑细胞类型和特定区域的顺式调节元素
最近的大型基因组关联研究已经确定了与成瘾相关行为性状相关的多个自信风险基因座。与成瘾相关性状相关的大多数遗传变异位于基因组的非编码区域，可能破坏顺式调节元件（CRE）功能。cres倾向于特异性细胞类型，并可能有助于基本成瘾的神经回路的功能发展。然而，缺乏一种系统的系统方法，用于预测风险变异对特定细胞群体的影响。为了剖析与成瘾相关性状的细胞类型和大脑区域，我们应用了分层的连锁不平衡评分回归，以将全基因组关联研究与从人类和小鼠分析中收集的开放染色质收集的基因组区域进行比较，这与CRE活性有关。我们发现，在神经元（Neun 1）核中以开放式染色质（Neun 1）核中标志性的成瘾相关变体的富集，这些核是从多个前额叶皮质区域和已知在奖励和成瘾中起主要作用的主要角色的核心。为了进一步剖析与成瘾相关性状的细胞类型特异性基础，我们还确定了雌性和雄性小鼠神经元亚型的开放染色质区域的人类直系同源物的富集：皮质兴奋性，D1，D2和PV。最后，我们开发了机器学习模型，以预测小鼠细胞类型特异性开放染色质，从而使我们能够进一步对人Neun 1
现有药物的多药理学：如何破解密码？
肿瘤药物开发极具挑战性，临床试验的成功率不到 5%。这个令人震惊的数字表明，需要更详细地研究药物在特定情况下的多种生物学效应。事实上，对药物多药理学的全面评估可以深入了解它们的治疗和副作用，以优化它们的利用率并最大限度地提高临床试验的成功率。最近的技术进步使得深入研究药物多药理学成为可能。本综述首先重点介绍了用于揭示现有药物新作用机制的高通量方法。然后，我们讨论了新兴的化学蛋白质组学策略如何以无监督的方式有效地剖析药物的多药理学。
哈佛大学埃德温·斯蒂尔实验室
实体肿瘤是由癌细胞和宿主基质细胞组成的器官，这些细胞由血管滋养，由淋巴管排出，均嵌入细胞外基质中。这些细胞、周围基质和局部细胞微环境之间的相互作用影响各种基因的表达，这些基因的蛋白质产物控制肿瘤的病理生理特征、控制肿瘤进展并影响肿瘤对各种疗法的反应。我们研究的总体目标是剖析肿瘤微环境在肿瘤进展和治疗耐药性中的作用，并将这些知识转化为改进的人类癌症检测、预防和治疗。实验室和临床的紧密结合以及将工程原理应用于肿瘤学是我们研究的标志。
生物医学数据科学的年度审查，利用多模式OMICS数据整合中的人工智能：为下一个额头铺平道路
电子健康记录中的多构想数据与详细的表型见解的整合标志着生物医学搜索的范式转移，从而对健康和疾病途径提供了无与伦比的整体观点。本综述描述了多模式法数据集成的当前景观，强调了其在对复杂生物系统的综合理解中的变革潜力。我们探索了可靠的数据集成方法，从基于串联到基于转换的基于转换和基于网络的策略，旨在利用各种数据类型的复杂性。我们的讨论范围从无数的大规模种群生物库中到剖析单一单元级别的高维度层。评论强调了
Bosch 工艺中 Al2O3 硬掩模的蚀刻机理
通过 Bosch 工艺在硅中蚀刻高深宽比结构对于微机电系统 (MEMS) 和硅通孔 (TSV) 制造等现代技术至关重要。由于蚀刻时间长，该工艺对掩模选择性的要求非常高，并且事实证明 Al 2 O 3 硬掩模在这方面非常合适，因为与传统的 SiO 2 或抗蚀剂掩模相比，它提供了高得多的选择性。在这项工作中，我们结合使用扫描电子显微镜 (SEM)、光谱椭圆偏振仪 (SE) 和 X 射线光电子能谱 (XPS) 深度剖析来仔细研究 Al 2 O 3 掩模蚀刻机理，从而探究超高选择性的来源。我们证明，通过增加钝化步骤时间，在 Al 2 O 3 上会形成更厚的氟碳聚合物层，然后以微小的平均蚀刻速率 ~0.01 nm/min 去除 Al 2 O 3。 XPS 深度剖析显示，在采用 Bosch 工艺进行深反应离子蚀刻 (DRIE) 的过程中，聚合物和 Al 2 O 3 之间会形成一层 AlF x 层。由于 AlF x 不挥发，因此需要溅射才能去除。如果聚合物层足够厚，可以衰减进入的离子，使其能量不足以导致 AlF x 解吸（例如当使用较长的钝化时间时），则掩模不会被侵蚀。通过研究不同次数 DRIE 循环后的表面，我们还获得了有关 AlF x 的形成速率以及 DRIE 工艺过程中 Al 2 O 3 和聚合物厚度变化的信息。这些发现进一步扩展了对 DRIE 的认识，并可帮助工艺工程师相应地调整工艺。