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用于紫外、激光和电子束光刻的负性光刻胶
主要应用 • 通过 DLW 和 2PP 进行快速非接触式原型制作 • 微系统技术中的光学应用 • 用于湿法和干法蚀刻工艺的蚀刻掩模 • 用于电镀的模具 • 用于印章制造/模板制造的模具
用于紫外、激光和电子束光刻的负性光刻胶
主要应用 • 通过 DLW 和 2PP 进行快速非接触式原型制作 • 微系统技术中的光学应用 • 用于湿法和干法蚀刻工艺的蚀刻掩模 • 用于电镀的模具 • 用于印章制造/模板制造的模具
4 输出：5+12 / 5+12v - 反激变压器
尺寸 ETD39 - 4 输出：5+12 / 5+12v - 反激变压器 初级/次级绝缘 ≥ 4000V 初级/辅助绝缘 ≥ 1500V 初级/次级爬电距离 ≥ 8mm 环境温度 < 50°C 结构符合 IEC950、IEC335、IEC61558 加强绝缘标准 仅使用 UL94-V0 列出的材料
2 输出：5V 和 12V - 反激变压器
S1 9 - 10 6 3.3 – 7 Vdc 3 Adc S2 7 - 8 14 8 – 16.5 Vdc 1.4 Adc 74021 18 w Pri 4 - 6 108 65 – 130 (VOR) 1.1 Apeak 900µH Aux 2 - 1 12 7 – 14 Vdc 0.1 Adc S1 9 - 10 6 3.3 – 7 Vdc 3 Adc S2 7 - 8 14 8 – 16.5 Vdc 1.4 Adc 集成电路应用示例：MYRRA 控制 IC 控制 IC 输入电压 电源频率
2 输出：5V 和 12V - 反激变压器
尺寸 E16 - 2 输出：5 和 12v - 反激变压器 初级/次级绝缘 ≥ 4000V 初级/辅助绝缘 ≥ 1500V 初级/次级爬电距离 ≥ 6mm 环境温度 < 70°C 结构符合 IEC950、IEC335、IEC61558 加强绝缘标准 仅使用 UL94-V0 列出的材料
用于紫外、激光和电子束光刻的负性光刻胶
主要应用 • 通过 DLW 进行快速非接触式原型设计 • 微系统技术中的光学应用 • 用于湿法和干法蚀刻工艺的蚀刻掩模 • 用于电镀的模具 • 用于印章制造/模板制造的模具
NIH动荡激发了对其未来的焦虑...
在美国国立卫生研究院（NIH）（NIH）资助的全球研究人员（世界上最大的生物医学研究机构）资助，在美国总统多诺纳德·特朗普（Donald Trump）在该机构中播种了动荡之后，面临着对赠款的未来的不确定性。数十个国家的科学家获得了NIH的赠款，该国际卫生组织每年在癌症和传染病等领域的科学资金支付约470亿美元。尽管国际NIH政策的最新政策变化似乎并没有特别威胁到国际资金，但一些海外研究人员说，对该机构资金的未来的担忧促使他们寻求其他来源的支持。“全球研究的努力是非常复杂的，并且非常相互构成，如果其中很大一部分开始溅射，那么整个事情就会减慢。“很难高估美国NIH是全球生物医学研究背后的主要引擎之一。”
熔融池湍流对用激光和粉末
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用于紫外线、激光和灰度光刻的正性光刻胶
1) N. Gerges、C. Petit-Etienne、M. Panabière、J. Boussey、Y. Ferrec、C. Gourgon；优化的紫外线灰度处理，用于光谱成像仪的高垂直分辨率；J. Vac. Sci. Technol. B 39 (2021)；doi：10.1116/6.0001273
TOPSwitch® 反激式设计方法 - Thierry LEQUEU
此设计过程使用 AN-17 电子表格（可从 Power Integrations 获得），其中包含 TOPSwitch 反激式电源设计所需的所有重要方程式，并可自动执行大多数计算。因此，设计人员无需再进行复杂且高度迭代的设计过程中繁琐的计算。只要计算涉及参数，无论是输入还是输出，该参数的单元格位置都会显示在页面右侧的括号中。例如 (A1) 表示 A 列和第 1 行。请注意，所有用户提供的输入都在 B 列中，所有电子表格计算结果都在 D 列中。C 列保留用于某些复杂计算所需的中间变量。在适当的情况下，还提供查找表和经验法则，以简化设计任务。如果您对此过程的任何特定步骤有疑问，请参阅信息部分中的相应步骤，其中提供了深入的解释。