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评估整体和多层的断裂韧性
这项维特罗研究的目的是比较单片氧化锆和多层氧化锆的骨折韧性，这是义齿修复体中的两种常用材料。断裂韧性是一个关键的机械性能，它决定了材料在压力下对裂纹传播的抗性，这对于牙齿修复的寿命和性能至关重要。使用计算机辅助设计和计算机辅助制造（CAD/CAM）技术制造了共有20张锆石（10个单片和10个多层）。使用Vickers Micro-Hardness测试仪使用压痕法测量椎间盘进行负载和断裂韧性。整体锆石的断裂韧性值（第1组）明显高于多层锆石（第2组）的断裂韧性值，平均值为5.394±0.378 MPa·M 1/2和4.358±0.394 MPa·M Pa·M 1/2（p <0.0001）。这些发现表明，整体氧化锆提供了出色的机械性能，使其成为更合适的高应力应用材料，而多层氧化锆则是前恢复的多层氧化锆，在前修复学位优先级。这项研究强调了在选择用于牙科修复体的氧化锆材料中的机械强度和美学吸引力之间的权衡，并为优化临床假体的材料选择提供了宝贵的见解。引言固定义齿牙齿领域的高级材料的开发显着影响了牙科修复体的寿命和性能。两种材料均根据其在固定假牙和氧化锆，特别是由于其出色的机械性能，包括高强度和断裂韧性，成为一种流行材料，使其成为牙冠和桥梁的理想选择[1]。单片氧化锆是用单个材料制成的，具有优异的强度和最小的分层风险[2]。然而，最近的进步引入了多层氧化锆，它结合了不同的层与不同的特性，以改善美观的同时试图维持结构完整性[3]。断裂韧性是评估牙科材料性能的关键参数，因为它决定了材料在压力下抵抗裂纹传播的能力[4]。氧化锆修复体的断裂性可能会受到几个因素的影响，包括材料的组成，层数，制造过程以及在功能过程中假体受到机械力的条件[5]。整体锆石虽然以其强度而闻名，但可能缺乏天然牙齿的美学特性，导致了多层氧化锆系统的引入[6]。这些多层系统结合了更透明的表面层，试图平衡强度和美学吸引力[7]。本文旨在评估和比较肢体修复应用中整体和多层锆的断裂韧性。通过研究这两种不同的氧化锆结构的机械性能，该研究旨在考虑功能性和美学需求，以洞悉牙科修复体的最佳材料选择。这些发现将有助于更好地理解这些材料在临床环境中的优势和局限性，最终指导未来的假体牙科进步。材料和方法材料在本研究中使用了两种类型的氧化锆材料：单片氧化锆和多层氧化锆。
使用陶瓷多层的3D功能推进包装解决方案
基于LTCC的包装解决方案与其他主要包装材料相比，提供了一些广告。，它们的可靠性从有机多层人士而异，从氧化铝和ALN厚膜技术通过更大程度的微型化，HTCC的功能性和可用性原因以及来自Silicon的生产运行和工具的成本。与有机技术相比， LTCC提供了出色的可靠性性能。 因此，X/ Y中的FRX材料的高CTE导致热循环和冲击过程中疲劳通常是不使用FRX的原因。 还吸收湿度，明显的衰老和低机械强度或寄生虫和较大的损失切线会激发人们要求替代材料是否需要更好的特性。 另一方面，它们只是整体半导体整合的开发成本的一小部分。LTCC提供了出色的可靠性性能。因此，X/ Y中的FRX材料的高CTE导致热循环和冲击过程中疲劳通常是不使用FRX的原因。还吸收湿度，明显的衰老和低机械强度或寄生虫和较大的损失切线会激发人们要求替代材料是否需要更好的特性。另一方面，它们只是整体半导体整合的开发成本的一小部分。
绝热横向热电转换通过人工倾斜多层的热电流操纵增强
我们在现象学上制定并在实验上观察到通过人工倾斜多层（ATML）中的热电流重新定位增强了绝热的热电转换。通过交替堆叠具有不同导电性的两种材料，并相对于纵向温度梯度旋转其多层结构，诱导导热性张量中的非分子分量。这种非对角线热传导（ODTC）在绝热条件下产生有限的横向温度梯度，并在绝热条件下产生了seebeck效应诱导的热电器，该温度是由异热横向热电器上置于由外diagonal驱动的热量热电器上的。在这项研究中，我们计算和观察包括热电CO 2 MNGA Heusler合金和BI 2-A SB A TE 3化合物的ATML中的二维温度分布以及所得的横向热电器。通过将倾斜角从0°更改为90°，横向温度梯度显然出现在中间角度，横向热电图在CO 2 MNGA/BI 0.2 MNGA/BI 0.2 SB 1.8 TE 3 te 3 te 3 te的ATML中以45°的倾斜度为45°的ATML，均来自45°的贡献。这种从ODTC得出的混合动作导致横向热电转化率最大降低效率的显着差异从等热极限的3.1％到绝热极限的8.1％。
改善了具有内在血浆治疗的ALD ALD AL2O3/SIO2多层的硅表面钝化
总固定负电荷密度q tot≈1×10 13 cm - 2结合使用，低界面缺陷密度D IT为≈1×10 11 ev -1 cm -2。[4-9]虽然低d表示相当好的化学表面钝化，但高负q tot会导致表面上的电子密度降低，从而导致重要的田间效应对C-SI表面钝化产生了贡献。因此，这种高负q TOT诱导n型Si表面上的反转层，而在P型表面上形成了积累层。n型Si表面上的内部层使其易于使用n型金属触点处的寄生分流作用。[10] There- fore, Al 2 O 3 is predominantly applied to p -type c-Si surfaces, such as the rear surface of passivated emitter and rear cell (PERC) passivated emitter and rear cell solar cells – the current mainstream cell design in high-volume production [11,12] – or the front-side boron-doped p + emitter of n -type c-Si tunneling oxide passivating接触（TopCon）太阳能电池，由于其效率更高，目前变得越来越有吸引力。[11,13–15] Al 2 O 3对于高级细胞设计的效率也非常相关，范围为26％，例如后部发射极（TopCon）细胞[16]或在氧化物相互作用的背部接触（polo-ibc）细胞（Polo-ibc）细胞上的聚晶体中的多层si，但有效的效果（均为有效的）（未经跨度） - 未经有效的态度（未经） - 未经有效的态度 - 不及格（Untercive）。 必需的。与单层相比，厚度只有几个纳米层的多层层为在纳米尺度上修改材料特性的机会。[19]最近，对不同表面钝化方案的直接比较表明，Al 2 O 3 [3]仍然有改进的余地，随着设备的效果的改善，这变得越来越重要。一个有趣的例子是所谓的界面偶极层，目前对其进行了强烈的侵略，尤其是用于在金属 - 氧化物 - 氧化导管现场效应晶体管（MOSFET）中的应用以调整所需的平板电压。[18-20]它们是由两个或三个不同的介电层组成的多层，可以简单地通过改变双层或三层的数量来提供增加平坦电压的可能性。这种平流电压偏移的起源是偶极子，仅在该多层的特定接口处形成，仅具有一个极性。例如，已经报道了SIO 2 /Al 2 O 3堆栈，其中仅在一个极性的SiO 2 /Al 2 O 3接口处形成偶极子，但在Al 2 O 3 /SiO 2界面上却没有相反的极性。
诉讼程序 - OSTI.GOV
玻璃上 22 层氧化锆/二氧化硅多层的 2.2MeV RBS。光谱和 DataFurnace 拟合（上图）和计算深度分布（下图：为清晰起见，省略了玻璃基板）。DataFurnace 只需要元素名称：在这种情况下，我们提供分子。氧化锆含有一些 Hf。该多层的典型层厚度为 40nm，精度约为 5%。必须正确包含此多层涂层的能量散乱。
诉讼程序 - OSTI.GOV
玻璃上 22 层氧化锆/二氧化硅多层的 2.2MeV RBS。光谱和 DataFurnace 拟合（上图）和计算的深度分布（下图：为清晰起见，省略了玻璃基板）。DataFurnace 只需要元素名称：在这种情况下，我们提供分子。氧化锆含有一些 Hf。该多层的典型层厚度为 40nm，精度约为 5%。必须正确包含此多层涂层的能量散乱。
基于Fe的偏光多层中子光学
封面显示了我们对Fe/Si + 11 B 4 C（前）和Fe/Si（后）多层的研究结果。可以比较电子衍射图像，Gisaxs原始数据和X射线反射率（也可以用于艺术目的）。也可以在反射率曲线之间的区域内显示多层的示意图。，fe/si + 11 b 4 c（前）代表未来，而fe/si（背面）描绘了过去。此外，艺术品也可以看作是电子衍射图像中心中的中子源，而gisaxs和XRR则展示了更改梁特性的外向光束和光学元件，在梁的末端，您会找到样品本身，模仿我研究的中心部分。封面的脊柱还显示了Fe/Si + 11 B 4 C（上）和Fe/Si（下图）多层的TEM图像。
Mihai Gabor
（1） - Enea，Frascati，罗马，意大利（研究实习 - 氧化物多层的激光沉积，低温磁性和磁通型传输测量值）； （2）-CEA -Spintec，Grenoble，法国（大师实习 - 纳米结构中交换偏差的数值建模）； （3）-lpm，大学”亨利·庞加莱（HenriPoincaré）。
在果蝇硅二氧化硅患者模型中揭示了结直肠癌的最佳组合疗法
图2。堆栈条形图的细胞命运倾向（ISC），肠和基础隔室，肠细胞（EBS）和肠细胞（EC）（ECS）中的肠道干细胞（ISC）表示。（a）ISC - apical细胞采用九种不同的细胞命运，而在三个环境条件下仍然没有表征。在正常条件下，观察到挤压的最高倾向，然后按顺序进行细胞凋亡，增殖和EB命运。在压力的情况下，最高的倾向是挤出，其次是EB命运和增殖。在癌症中，最高的倾向是多层的倾向，其次是细胞凋亡和挤压。（b）ISC – Basal采用九种不同的细胞命运，在正常条件下，EE命运的倾向最高，在癌症情况下，在压力条件下凋亡，而在癌症，多层和凋亡的倾向上显示出最高的倾向。（c）EB中的七个细胞命运，在正常情况下挤出，压力凋亡和癌症多层的倾向最高。（d）EC中的五个细胞命运，在正常，压力和癌症条件下，DPP产生的倾向最高。