XiaoMi-AI文件搜索系统
World File Search System热合
结构降解导致硅胶密封剂故障
图1。PDMS-“随机分裂”机制的热降解a）分子内重新分布和b）分子间重新分布.......................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................（a）新鲜制备的商用硅胶密封剂样品（b）提取的硅氧烷降解产物的离子电流热量计学的EGA-MS总离子电流热图。................................... 23 Figure 3.EGA-MS热合器用于控制和老化商用硅胶密封剂样品。 (a) Level 3 aging samples, (b) Level 2 aging samples, (c) Level 1 aging samples & (d) Control sample .................... 25 Figure 4. 比较加热速率不同的对照密封剂的TD-PYR-GC-MS曲线用于对照密封剂（从90°C到790°C）获得的对照密封剂（五个步骤）。 比较了两个加热速率：（a）600°C/min和（b）20°C/min。 ............................................................................................ 27 Figure 5. 对于两个新鲜制备的样品，获得了 GC-MS色谱图，并使用优化方法进行了比较。 ........................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................... 28图6。 Siloxane Degradation Product Identification ............................................................................... 29 Figure 7. EGA-MS热合图和GC-MS色谱图，用于L3的代表性样品。 ............................................................................................................................................................. EGA-MS热合图和GC-MS色谱图，用于L2的代表性样品。 .... 33图11。EGA-MS热合器用于控制和老化商用硅胶密封剂样品。(a) Level 3 aging samples, (b) Level 2 aging samples, (c) Level 1 aging samples & (d) Control sample .................... 25 Figure 4.比较加热速率不同的对照密封剂的TD-PYR-GC-MS曲线用于对照密封剂（从90°C到790°C）获得的对照密封剂（五个步骤）。比较了两个加热速率：（a）600°C/min和（b）20°C/min。............................................................................................ 27 Figure 5.GC-MS色谱图，并使用优化方法进行了比较。........................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................... 28图6。Siloxane Degradation Product Identification ............................................................................... 29 Figure 7.EGA-MS热合图和GC-MS色谱图，用于L3的代表性样品。 ............................................................................................................................................................. EGA-MS热合图和GC-MS色谱图，用于L2的代表性样品。 .... 33图11。EGA-MS热合图和GC-MS色谱图，用于L3的代表性样品。.............................................................................................................................................................EGA-MS热合图和GC-MS色谱图，用于L2的代表性样品。.... 33图11。.............................................................................................................EGA-MS热合图和GC-MS色谱图，用于L1的代表性样品。 ........................................................................................................................................................................................................................................................................................................................ EGA-MS和L0代表性样品的相应GC-MS色谱图。 不同降解水平L3，L2，L1 vs Control L0的代表性样品的定量数据。 在EGA-MS热合图和GC-MS色谱图，用于L1的代表性样品。........................................................................................................................................................................................................................................................................................................................EGA-MS和L0代表性样品的相应GC-MS色谱图。不同降解水平L3，L2，L1 vs Control L0的代表性样品的定量数据。在
支持能量和动态的信息破坏...
°熔化曲线。θD由拟合FTIR 2 ND SVD组件确定为两态模型（等式s12）（a），δcp = 0和（b）δcp固定在从ITC确定的值下（图s3）。（c）从两态拟合到FTIR 2 ND SVD组件的双链分离（K d）的温度依赖性平衡常数，其δCP = 0（实线）和δCP设置为从ITC（透视线）设置为值。k d值在以ITC为单位的选定温度下确定为圆。误差线表明，将ITC热合器拟合到单位点结合模型的95％置信区间。
基于红外热成像的平板轨道上表面裂纹的定量检测方法
摘要：表面裂纹是高速导轨（HSR）平板轨道中的典型缺陷，可以导致结构性恶化并降低轨道系统的服务可靠性。但是，如何有效检测和量化表面裂纹的问题目前尚未解决。在本文中，采用了一种基于红外热成像的新型裂纹检测方法来量化轨道板板上的表面裂纹。在这种方法中，首次使用非缩放的Contourlet变换（NSCT）基于图像 - 增强算法处理的红外摄像头的轨道平板的热合器，并且裂缝是通过边缘检测算法的。接下来，为了定量检测表面裂纹，提出了一种像素安排方法，从而可以获得裂纹宽度，长度和面积。最后，在实验室测试中验证了所提出方法在不同温度下的检测准确性，在该测试中，倒入平板的比例模型，并使用温度控制的柜子来控制温度变化过程。结果表明，所提出的方法可以有效地增强图像中表面裂纹的边缘细节，并且可以有效地提取裂纹区域。裂纹宽度的量化的准确性可以达到99％，而裂纹长度和面积的量化的准确性为85％，这基本上满足了HSR-SLAB-TRACK-TRACK-TRACK检查的要求。这项研究可以打开基于IRT的轨道板检查在HSR操作中的可能性，以提高缺陷检测的效率。
利用先进的纳米表征技术对 CuO 纳米花瓣进行表面研究，以增强光学和催化性能
摘要：本研究采用简单的一步水热合成方法合成了定义明确的稳定化 CuO 纳米花瓣，并通过先进的纳米表征技术研究了其表面，以增强光学和催化性能。透射电子显微镜 (TEM) 分析表征证实了高结晶度 CuO 纳米花瓣的存在，其平均长度和直径分别为 1611.96 nm 和 650.50 nm。纳米花瓣单分散，表面积大，形貌可控，并表现出具有单斜结构的纳米晶体性质。通过拉曼光谱和 X 射线衍射 (XRD) 图案确认了合成样品的相纯度。在 CuO 纳米花瓣中观察到高达 800 nm 的明显宽吸收和增加的带隙。利用 X 射线光电子能谱 (XPS) 测得 CuO 表面的价带 (VB) 和导带 (CB) 位置分别为 + 0.7 和 − 1.03 eV，这对于高效的催化性能非常有前景。此外，在过氧化氢 (H 2 O 2 ) 存在下获得的 CuO 纳米花瓣对黑暗条件下降解亚甲蓝 (MB) 具有优异的催化活性，90 分钟后的降解率 > 99%，明显高于文献报道的水平。增强的催化活性归因于单分散 CuO 纳米花瓣的形貌可控、H 2 O 2 的协同作用和能带结构。这项工作为环境改善的广泛应用机会提供了一种新方法。