本文介绍了为麻省理工学院林肯实验室开发的机载平台相位干涉测向系统的开发。相位干涉仪使用相位差来确定接收信号的到达角 (AoA),但无法区分超过一个周期的相位差,从而导致相位模糊。该团队利用三个天线来解决相位模糊问题,并能够在包括 170 ◦ 视场的真实噪声模型的模拟中将 X 波段接收电磁信号的方位角 AoA 确定在 ± 0.1 ◦ 以内。使用基于 FPGA 的板子实现了原型,该板子用于数据采集,通过 USB 连接到 PC 进行分析,该 PC 通过 TCP 连接连接到另一台 PC 进行跟踪和显示。硬件只能使用两个通道。此限制导致 AoA 计算中的解决方案不明确。该团队为系统开发了一个图形用户界面,以向系统操作员显示结果。
人们正在考虑在下一代光刻节点中使用 Ta 基吸收体的替代品,以减少 3D 掩模效应并通过相位干涉改善图像调制。低复折射率 (n-ik) 材料可以在比传统吸收体所需厚度更薄的情况下提供相移行为,本质上充当衰减相移掩模 (attPSM) 膜。确定 attPSM 吸收体厚度和随之而来的相位需要确定最佳相移掩模反射率。使用高反射率吸收体进行成像可显示出更好的成像性能。吸收体厚度是在干涉效应导致高吸收体反射率的地方确定的。因此,低折射率 (n) 材料是理想的 attPSM 吸收体候选材料。使用维纳边界和有效介质近似 (EMA) 建模确定的低 - n 材料组合使用吸收体反射率在线空间和接触孔图案针对 NILS 和 MEEF 进行优化。使用反射近场强度成像将接触孔最佳厚度的吸收体候选物与传统的 Ta 基吸收体进行了比较。