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World File Search System硅振膜
麦克风手册第 1 卷 - 理论 - Brüel & Kjær
简介 ................................................................................................................ 2 – 7 设计说明 .............................................................................................................. 2 – 7 材料和工艺要求 .............................................................................................................. 2 – 9 传导原理 .............................................................................................................. 2 – 11 振膜和空气刚度 ...................................................................................................... 2 – 15 静压均衡 ............................................................................................................. 2 – 16 低频响应和通风口位置 ............................................................................................. 2 – 17 高频响应 ............................................................................................................. 2 – 20 麦克风灵敏度 ............................................................................................................. 2 – 24 通过等效电路进行麦克风建模 ............................................................................. 2 – 25 振膜系统的声阻抗 ............................................................................................. 2 – 27 振膜系统的等效体积 ............................................................................................. 2 – 28
谷川热技术振兴基金事业报告书vol.42
KOMO RAW Thermal Technology Technology Award的获奖者已确定如下。 演讲仪式于2023年11月8日在XXI Tokyo Hall与客人和相关方参加。
日本学术振兴会与英国国际联合研究计划...
https://www.ukri.org/opportunity/epsrc-uk-japan-collaboration-in-advanced-function-
颤振：创建视听触摸反馈引起的颤振幻觉
图3。左：要确定振动声音的最大截止频率，我们计算了频率在不再可识别的区域中的频率。在-165 dB和12866 Hz的频率达到这一点。垂直虚线表示截止频率。右：截止频率的表示。可以看出，在每个条件上的声音相同。取决于截止频率，不存在截止声音频谱中的所有音调（灰色），只是下面的音调（黑色）。此示例用于3525 Hz的截止频率。
合成本振设计注意事项...
可调振荡器的闪烁噪声是一个特殊问题，而可调振荡器是捕获接收信号所必需的。直接数字合成 (DDS) 为这个问题提供了一个现成的解决方案，但可能会引入不需要的杂散信号产物。本文介绍了一种将这些产物降低到普遍令人满意的水平的新型专利方法，该方法确保了所提出的新型集成发射机合成器方法的可行性。为了在微波频率下从 DDS 提供合成的本地振荡器，必须使用一些额外的技术。本文介绍了一种使用阶跃恢复二极管 (SRD) 的方法。本文介绍了一项深入研究，表明
对高温超导薄膜的表面和保护性绝缘膜的研究
高表面特性。tc ba-y-cu-o和通过薄绝缘子过层钝化。Takashi Hirao，Kentaro Setsune和Kiyotaka W asa。中央重新建筑实验室，Matsushita Electric Industrial Co.，Ltd.，3-15，Yagumonakamachi，Moriguchi，Osaka，Osaka 570
使用阵列测量不同温度下硅膜中的声子平均自由程谱
了解声子平均自由程 (MFP) 是理解材料和纳米结构热性质的关键。尽管已有几个实验测量了块体硅中的声子 MFP，但是尚未通过实验直接测量薄膜中的 MFP 光谱。在这项工作中，我们通过实验探测了悬浮硅膜中的声子 MFP 光谱。首先，我们测量不同温度下带有狭缝阵列的膜的热导率。接下来，我们开发了一种完全分析程序来提取累积热导率与 MFP 的关系。由于膜边界的散射，在表面粗糙度为 0.2 nm 的 145 nm 厚的膜中测得的声子 MFP 比块体中的短。在室温下，声子 MFP 不超过 400 nm。然而，在 4 K 时，MFP 变得更长，并且一些声子可以弹道传播长达一微米。这些结果揭示了长期存在的一个问题：在基于硅膜的纳米结构中，不同温度下弹道声子传输范围。
基于硅后硅技术的半导体物理
摘要摩尔的定律终于接近了最终的物理限制，因为最先进的微处理器现在的晶体管在频道中仅宽14纳米，并且微电子行业已经进入了后期的时代。将需要真正的新颖物理学来通过开发新材料，原理，结构，设备和新型体系结构来扩展它。鉴于硅的成功主要从其高质量的本地氧化物SIO2和现有的广大专业知识和基础设施中受益，因此硅的完全替代很快就不太可能在很快发生。在这次演讲中，我将介绍我们最近对基于硅后的技术的半导体物理学的研究（3）GE孔自旋量子材料的理论设计，以加快量子操作的速度超过GHz。参考文献[1] Ruyue Cao，Qiao-lin Yang，Hui-xiong Deng*，Su-huai Wei*，John Robertson和Jun-Wei Luo*，通过降低原子间键合强度，降低光学声子，自然634，1080（2024）。[2] G. Wang，Z.G。Song*，Jun-Wei Luo*和S.S. Li，物理学。修订版b 105，165308（2022）。[3] J.X.Xiong，S。Guan *，Jun-Wei Luo *和S.S. Li，物理。修订版b 103，085309（2021）。[4] Jun-Wei Luo *，S.S。Li和A. Zunger *，物理。修订版Lett。Lett。119，126401（2017）。 查询：3943 6303119，126401（2017）。查询：3943 6303