注意:本稿件由 UT-Battelle, LLC 撰写,合同编号为 DE-AC0500OR22725,与美国能源部签订。美国政府保留,出版商在接受文章发表时,承认美国政府保留非独占、已付费、不可撤销的全球许可,可以出于美国政府目的出版或复制本稿件的已出版形式,或允许他人这样做。能源部将根据 DOE 公共访问计划 (http://energy.gov/downloads/doe-public-access-plan) 向公众提供这些联邦资助研究的结果。
在进行各种研究的过程中,观察到保护环光电二极管的暗电流水平不受控制地增加的问题,这种问题在温度T 293 K 时和(很大程度上)在高温(T 358 K)下测试设备时都表现出来。众所周知,微电子技术总是使用半导体器件和集成电路的表面保护(钝化)。在这种情况下,最好的解决方案是热生长SiO 2 层。然而,即使是受介电层保护的表面也并不总是保持稳定。本文介绍了基于高电阻率p型硅的ap-i-n光电二极管的开发结果,该光电二极管具有更高的响应度和更低的保护环在1064 nm波长处的暗电流水平。在提出的光电二极管设计中,晶体外围氧化物的厚度减小,以减少电流和电荷态的位错分量对逆特性的影响。磷扩散(驱入)后,除去磷硅酸盐玻璃,并进行额外的光刻,在此期间整个外围氧化物层都被蚀刻掉。在磷扩散(蒸馏)的第二阶段,在光敏区域和晶体外围生长厚度为190-220 nm 的抗反射氧化物。光敏区域、保护环和晶体外围部分由在第一次热操作中生长的650-700 nm 厚的氧化物隔开。光电二极管的生产采用与商业生产相同的操作条件,并将其参数与标准设计制造的器件进行了比较。分析表明,与商用器件相比,所提出设计的光电二极管不仅在室温下,而且在358 K 的温度下都具有更低、更稳定的暗电流。
注意:本稿件由 UT-Battelle, LLC 撰写,合同编号为 DE- AC0500OR22725,与美国能源部签订。美国政府保留,出版商在接受文章发表时,承认美国政府保留非独占、已付费、不可撤销的全球许可,可以出于美国政府目的出版或复制本稿件的已出版形式,或允许他人这样做。能源部将根据 DOE 公共访问计划 (http://energy.gov/downloads/doe-public-access-plan) 向公众提供这些联邦资助研究的结果。
Seungmin Lee、Jin-young Kim、Junyoung Kim、Ali Kafash Hoshiar、Jongeon Park、Sunkey Lee、Jonghyun Kim、Salvador Pané、Bradley J. Nelson 和 Hongsoo Choi * S. Lee、J. Kim 博士、J. Kim、J. Park、S. Lee、J. Kim 教授、H. Choi 教授 * DGIST-ETH 微型机器人研究中心机器人工程系 大邱庆北科学技术研究所 (DGIST) 333, Techno jungang-daero, Hyeonpung-eup, Dalseong-Gun, Daegu, 42988, Republic of Korea 电子邮件:mems@dgist.ac.kr AK Hoshiar 博士 埃塞克斯大学计算机科学与电子工程学院 科尔切斯特,CO4 3SQ,英国 S. Pané 博士、BJ Nelson 教授,ETH 机器人与智能系统研究所苏黎世,苏黎世,CH-8092,瑞士 关键词:微型机器人;磁控;药物输送;靶向输送;固定
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