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World File Search System穆拉特
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80.444 瓦伦施塔特 - 下特尔岑 - 穆尔格
Murg，火车站 11 54 12 28 12 58 13 28 14 28 15 28 15 58 16 28 17 00 17 28 Unterterzen，火车站 11 59 12 33 13 03 13 33 14 33 15 33 16 03 16 33 17 03 17 05 17 33 18 03 Mols，火车站 12 01 12 35 13 05 13 35 14 05 14 35 15 05 15 35 16 05 16 35 17 05 17 35 18 05 Walenstadt，火车站 12 06 12 40 13 10 13 40 14 10 14 40 15 10 15 40 16 10 16 40 17 10 17 40 18 10
特拉科人工智能
人工智能元数据丰富 Traco AI 使用机器学习和神经网络提供自动人脸识别搜索和字幕。通过与 Avid Interplay MediaCentral | CloudUX™ 和 Viz One 集成，Traco AI 可充当独特的服务器，与其他云解决方案相比，具有巨大的性能优势。借助 Traco AI，您现在可以自动丰富存档元数据，然后随时随地轻松地从庞大的存档（广播、体育、真人秀内容等）中搜索视频。此外，Traco AI 还会自动添加建议字幕，准确度极高。 应用程序功能： 人脸检测功能 Traco 的“AI Facer”搜索可根据眼睛和鼻子的独特生物特征信息自动识别人脸。然后，它会为检测到的人脸分配一个 ID，以便您可以搜索以该人为主角的视频内容。AI Facer 还允许您搜索同一场景中的人群。 快速搜索功能 得益于我们强大的可扩展节点系统，AI Facer 可以使用五个同时进行的进程，以比实时快 25 倍的速度扫描文件！自动介绍字幕功能 Traco AI 允许您将图形介绍字幕直接添加到直播中。数据库中的任何个人都具有基于其元数据的唯一 ID，因此在任何给定的广播中，Traco AI 都可以自动添加介绍字幕，包括该个人的姓名和头衔。自动 CC 生成功能 Traco AI 结合了语音到文本识别，允许自动生成隐藏式字幕 (CC)。使用 Traco AI，您还可以从识别的文本中提取关键字以改进视频搜索，并且语音元数据可以集成到 Avid MediaCentral、Viz One 等中。
拉特科新闻
我很高兴向大家呈现《LATECOERE 新闻》的第一期。这个新公式展现了该团体的所有技能和实体。它适用于我们的老客户和潜在客户。 LATECOERE 的业务范围覆盖各个大洲，订单量相当于四年的营业额。我们对此感到高兴。但为我们未来的发展奠定基础也很重要。这就是为什么从今天开始，我们致力于提高运营绩效并增强我们的竞争力。我们的所有行动不能简单地概括为执行 Boost 计划的绩效部分。该计划包括一个进攻部分，旨在确定我们营业额额外增长的潜在来源。尽管我们因巨额债务而面临财务限制，但我们绝不能忽视这一点。在缺乏新项目的环境下，我们的团队正在加倍努力与我们的客户和潜在客户拓展新业务。我们只有追求业务的盈利性和持续性增长才能增强竞争力。通过以下页面，您将能够发现我们的员工每天在现场部署的才能，为未来的增长创造条件。每个人都做出了贡献，不仅仅是我们的销售团队。这是一个心态的问题。这就是LATECOERE的精神。大家读起来非常精彩！
凯瑟琳·拉默特
41 Lammert，C。和*** Weidenhamer，S。（印刷中）。建立小学教师的舒适和知识，以选择描绘残疾的儿童文学。英语教育。40 Lammert，C。，＆** Godfrey，V。C.（印刷中）。利用复杂性理论来研究德克萨斯州的教学阅读标准科学。德克萨斯州教育评论。 39 Lammert，C。，** Godfrey，V.C。，＆*** Ramos，J. （2025）。 阅读干预者对与教师候选人互动的阅读科学的表示。 阅读心理学。 （影响因素：1.2）https：//doi.org/10.1080/02702711.2025.2453204 38 *Okumo，O.，Lammert，C。，＆ *Hargura，H。（2024）。 教师候选人对同伴和讲师反馈的看法：他们喜欢谁的建议？ 教育科学，14（12），1361。 （影响因素：2.5）https：//doi.org/10.3390/educsci14121361德克萨斯州教育评论。39 Lammert，C。，** Godfrey，V.C。，＆*** Ramos，J.（2025）。阅读干预者对与教师候选人互动的阅读科学的表示。阅读心理学。（影响因素：1.2）https：//doi.org/10.1080/02702711.2025.2453204 38 *Okumo，O.，Lammert，C。，＆ *Hargura，H。（2024）。教师候选人对同伴和讲师反馈的看法：他们喜欢谁的建议？教育科学，14（12），1361。（影响因素：2.5）https：//doi.org/10.3390/educsci14121361
旋转l特殊研讨会
di效力MRI利用水分子不同的运动来创建反映生物组织微结构的图像，以类似于虚拟活检的非侵入性方法。最初通过实现早期诊断和有效的干预措施，这种创新最初彻底改变了急性脑缺血的管理。随着时间的流逝，DI效率MRI已成为临床和研究环境中的基石，为组织完整性，结构异常和早期发现其他模式的变化提供了关键的见解。它在研究和医学方面有广泛的应用，尤其是在神经病学和肿瘤学用于癌症检测和治疗监测中。在不同的使用成像中的显着开发是二量张量成像（DTI），它允许在3D中映射脑白质连接。该技术在开放精神病学的新研究途径的同时，对脑部疾病，神经发生和衰老提供了更深入的了解。概括，扩散框架还将大脑功能和相对论理论的概念联系起来，提出意识是从大脑的4D连接组中作为5D全息构造而产生的，将神经活动与相对论的时空框架融合在一起。这些关键概念即将使用新开发的11.7T MRI扫描仪探索，从而实现了人脑的介绍成像。该扫描仪已成功捕获了大脑的体内图像前所未有的，没有观察到不良影响。这一突破为神经科学社区提供了一种强大的工具，可以以新的规模研究神经退行性和精神疾病。通过促进我们对大脑结构和功能的理解，该项目表明了超高领域MRI解决脑部疾病复杂性的潜力，从而进一步促进了科学知识和医学实践。
即时发表经办代理: David Moreno (大卫穆锐农) Open Sky ...
业界精英调查其它要点（ 2024 年 7 月进行） - 74% 的受访者认为，曲线形状的 逆向 光刻技术（ curvilinear ILT ）对非 EUV 的 193i 前沿节点有 用 —— 其中 29% 的人强烈同意这一说法，而去年这一比例为 24% 。 - 55% 的受访者表示，前沿节点的一些关键层已经在使用 逆向 光刻技术（ ILT ），这一比例较去 年的 46% 和两年前的 35% 有所上升。 - 光罩制造中的软件基础设施仍然是生产曲线形状光罩的最大挑战。 - 对深度学习应用的预测有所延迟，今年有 54% 的受访者预测深度学习将在 2025 年之前成为 光罩制造过程中任何环节的竞争优势，而去年这一预测为 2024 年。 “ 我们期待在 SPIE 光罩技术会议期间度过激动人心的一周，届时 eBeam Initiative 将举办第 15 届年度光罩会议，展示半导体生态系统对这一合作论坛的持续支持， ”eBeam Initiative 的 的主办 管理公司 D2S 的首席执行官 藤村 (Aki Fujimura) 表示。 “ 现在是加入光罩行业的绝佳时机，近年 来该行业取得了强劲增长 —— 这证明了光罩社区内杰出人才的贡献，也彰显了该行业在推动半 导体创新方面的重要性。今年 eBeam Initiative 业界精英 调查的绝大多数参与者 —— 他们代表了 行业内顶尖的商业和技术专家 —— 都认为这一增长趋势将在 2024 年继续，这无疑是个好消息。 ” About The eBeam Initiative 关于 eBeam Initiative （电子束倡议团） eBeam Initiative 是一个致力于推广和倡导电子束技术在半导体制造全新应用的团体；为有关 电 子束技术的教育和促进活动 提供相应的论坛。 eBeam Initiative 的目标是增加电子束技术应用在 半导体制造各领域中的投资；降低电子束技术应用的障碍，能够使更多集成电路设计完成，并 且更快投进市场成为可能。会员公司 , 涵盖整个半导体生态系统，包括 : aBeam Technologies; Advantest; Alchip Technologies; AMD; AMTC; Applied Materials; Artwork Conversion; ASML; Averroes.ai; Cadence Design Systems; Canon; CEA-Leti; D 2 S; Dai Nippon Printing; EQUIcon Software GmbH Jena; ESOL; EUV Tech; Fractilia; Fraunhofer IPMS; FUJIFILM Corporation; Fujitsu Semiconductor Limited; GenISys GmbH; GlobalFoundries (GF); Grenon Consulting; Hitachi High-Tech Corporation; HJL Lithography; HOLON CO., LTD; HOYA Corporation; IBM; imec; IMS CHIPS; IMS Nanofabrication AG; JEOL; KIOXIA; KLA; Micron Technology; Multibeam Corporation; NCS; NuFlare Technology; Petersen Advanced Lithography; Photronics; QY Mask; Samsung Electronics; Semiconductor Manufacturing International (Shanghai) Corporation (SMIC); Siemens EDA; STMicroelectronics; Synopsys; TASMIT; Tokyo Electron Ltd. (TEL); TOOL Corporation; Toppan Photomask Corporation; UBC Microelectronics; Vistec Electron Beam GmbH and ZEISS. eBeam Initiative 面向和欢迎所有电子工业的公司和协会加盟。细节请查看 www.ebeam.org .