摘要。采用质量保护,薄聚合物纤维的时间分辨易碎实验允许实时确定动态接触角和滑移长度。此外,基于聚合物刷的界面特性的系统变化,脱水使得可以计算从其自身熔体中提取单个聚合物链所需的力。在接近玻璃跃迁的粘弹性状态下,可以通过旋转涂层的纤维制备而导致的残留应力的弛豫时间和分子量的体重,可以从脱水的RIM的形状的演变中获得。所提出的例子表明,脱水代表了一种强大的方法,用于对薄聚合物的流变,摩擦和界面特性的敏感表征。
,我们基于通过介电油中的水滴进行了短路,开发了一种新的方法,用于传递可渗透细胞的分子。将细胞悬架液滴放在具有强烈直流电场的一对电极之间,液滴弹跳和液滴变形,这会导致瞬时短路,这取决于电场强度。我们已经证明了使用短路成功地转移了各种哺乳动物细胞。但是,分子机械主义仍有待阐明。在这项研究中,用Jurkat细胞进行流式细胞仪测定。用液滴弹跳或短路处理含有jurkat细胞的水滴和带有荧光蛋白的质粒。短路可导致24小时孵育后足够的细胞活力和荧光蛋白表达。在很重要的情况下,液滴弹跳并未导致成功转染基因转染。通过摄取可耐细胞荧光染料yo-pro-1和钙离子的涌入来研究瞬态膜孔的形成。结果,短路增加了Yo-Pro-1氟-1荧光强度和细胞内钙离子浓度,但液滴弹跳没有。我们还研究了内吞作用对转染的贡献。用内吞作用抑制剂对细胞的预处理以依赖性的方式降低了基因转染的效率。此外,使用pH敏感的染料偶联物表明在短路后内体中形成了酸性环境。内吞作用是细胞内递送外源性DNA的可能机制。
Materials • Substrate: 200mm Silicon • Adhesion Promoter: AP9000C • Dielectric: CYCLOTENE TM 6505 Dielectric (positive tone) Bonding Evaluation 1) Priming with AP9000C: 200mm Wafer Track • 2000rpm spin coat, 150˚C/60sec 2) Spin Coat: 200 mm Wafer Track • 1250 rpm/45 sec targeting 5.5 um after development • 90˚C/90秒3)曝光工具:掩模对准器•ABCD面膜平方柱(1-300 UM功能)•20 UM接近差距4)曝光后延迟延迟:〜15分钟5)开发:200mm Wafer Track
受益于子波长厚度内的突然变化,跨波长已被广泛应用于轻质和紧凑的光学系统。同时宽带和高效特征对跨境的实际实施极大地吸引。然而,当前的元表设备主要采用离散的微/纳米结构,这些结构很少同时认识两者。在本文中,提出了由准连续纳米带组成的介电元面积来克服这一限制。通过准连续的纳米弹簧跨表面,正常的聚焦金属和超级振荡镜头克服了衍射极限,并通过实验证明了衍射极限。准连续的MetadeVices可以在450 nm至1000 nm的宽带波长中运行,并保持高功率效率。与先前报道的具有相同厚度的金属镜相比,制造金属的平均效率达到54.24%,显示出很大的提高。可以轻松地扩展所提出的方法,以设计其他MetadeVices,具有宽带和高效率在实践光学系统中的优势。
介电微球内的光能流通常与光波矢量同向。同时,如果微球中的光场与高质量空间本征模式(回音壁模式 - WGM)之一共振,则阴影半球中会出现反向能量流区域。由于增加了光学捕获潜力,该区域具有相当大的实际意义。在本文中,我们考虑了一个沿粒子直径制造的带有充气单针孔的穿孔微球,并对纳米结构微球中 WGM 激发的特性进行了数值分析。针孔隔离了共振模式的能量回流区域,并将穿孔微球变成了高效的光镊。据我们所知,这是第一次揭示 WGM 共振时针孔中回流强度的多次增强,并讨论了其操纵方式。
锗(GE)表现出较高的载流子迁移率和较低的加工温度的优势。这些使GE成为超老式CMOS逻辑设备和薄膜晶体管(TFTS)的应用,作为三维集成电路中的顶层[1-3]。在过去的几年中,针对GE P通道金属 - 氧化物 - 氧化物 - 氧化物 - 氧化物 - 局部效果晶体管(MOSFET)的表面钝化,栅极介电和通道工程的巨大努力已有助于显着改善设备的电气性能。但对于GE N-通道MOSFET,低有效载体迁移率(μEFF)极大地限制了晶体管的性能。各种表面钝化技术,包括SI钝化[1],氧化后血浆[4]和INALP钝化[5]和几种高κ电介质,包括HFO 2,ZRO 2,ZRO 2 [6-8],Y 2 O 3 [9]和LA 2 O 3 [10],已在GE NMosfets中探索。证明,与GE通道集成的ZRO 2电介质可以提供强大的界面,因为GEO 2界面层可以反应并与ZRO 2层反应[7]。在GE P通道晶体管中有一个不错的孔μEFF[6-8],而其对应物仍有很大的改善电子μEFF。
摘要 - 许多研究表明,在大气压力(也称为“冷大气等离子体”(CAP))处的非平衡放电有效地去除各种材料表面的生物污染物。最近,由于其产生的化学和生物活性自由基,CAP已迅速作为微生物清洁,伤口愈合和癌症治疗的技术,统称为活性氧和氮种(RONS)。本文回顾了与称为介电屏障排放(DBD)的一种有关的研究,该研究已广泛用于用微生物处理材料,以进行静脉化,消毒和去污染。为了推动在冷大气血浆应用中的研究,本综述讨论了屏障排放的各种类型和配置,反应性物种和其他DBD-CAP剂的作用以及其他导致其抗菌功效的DBD-CAP剂,其中一些DBD-CAP过去的过去研究专门在表面上以及DBD-CAP Tech-Tech-Tech-nology的出现应用。我们的审查表明,由DBD产生的非热/平衡等离子体可以对材料进行灭菌或消毒,而不会造成任何热损害或环境污染。
dmitriev,P.A.,Lassalle,E.,Ding,L.,Pan,Z.,Neo,D.C.J.,Valuckas,V.,Paniagua -dominguez,R.,Yang,J.K.W.,Demir,H。V.(2023)。杂种介电 - 质量纳米antena,具有子波长光子源的多散性。ACS Photonics,10(3),582-594。https://dx.doi.org/10.1021/acsphotonics.2c01332