XiaoMi-AI文件搜索系统
World File Search System贾穆纳
MMU 出版物 - MMU，穆拉纳
Gidugu Venkata Ramdas、Sumit Gupta、Raj Kumar Arion、Amit Mittal、Rikki Singal 磁共振成像在区分椎体塌陷良恶性病因中的作用 2016 国际外科与外科科学杂志 4 3 55 60
穆贾希德呼吁世界终止对阿富汗的制裁
伊斯兰酋长国处在应对气候变化的前沿。为了更好地保护环境，政府应制定一项全国性的综合计划，制定具体战略来保护水资源、防止森林砍伐和防止水土流失。政府应引进能够适应气候变化的农业新技术和系统，如节水技术和适合干旱气候的种子。政府还应启动公众意识计划，教育公众了解气候变化的危险和保护环境的重要性。该国教育部应将环境保护科目纳入教育课程，并在学校为学生开展有关气候变化危险的意识计划。此外，政府应加强合作
拉玛娜·库马尔·文贾穆里
• 设计和控制高维脑机接口 • 将仿生控制算法应用于假肢和康复 • 运动控制和运动障碍建模 教育 • 匹兹堡大学电气工程博士学位，宾夕法尼亚州匹兹堡（2008 年 8 月）。论文导师：毛志宏博士，匹兹堡大学电气工程教授。论文题目：人手控制和协调的降维。 • 维拉诺瓦大学电气工程硕士学位，宾夕法尼亚州维拉诺瓦（2004 年 8 月）。论文导师：Pritpal Singh 博士，维拉诺瓦大学电气工程教授。论文题目：用于便携式除颤器的锂离子电池充电状态计的设计和实现。 • 印度卡卡蒂亚大学电气与电子工程学士学位（2002 年 5 月）。 专业经历
博士克里希纳·基肖尔·穆加达
• 10 天 GIAN 课程，主题是科学和工程中的计算方法和并行处理，2017 年 12 月 20 日至 2017 年 12 月 30 日，NIT Warangal 机械工程系。 • 5 天 GIAN 课程，主题是焊接冶金学和有色合金的可焊性，2017 年 12 月 11 日至 2017 年 12 月 15 日，IIT Madras 冶金与材料科学工程系。 • 5 天 GIAN 课程，主题是不锈钢的焊接冶金学和可焊性，2017 年 12 月 11 日至 2017 年 12 月 15 日，IIT Madras 冶金与材料科学工程系。 • SERB 学校晶体纹理，2017 年 10 月 3 日至 2017 年 10 月 7 日，IIT Bombay 冶金工程与材料科学系。 • 材料特性 TEM 和 HRTEM 短期课程 (TEM/HRTEM- 2017)，2017 年 9 月 18 日至 22 日，IIT 坎普尔材料科学与工程系。 • NRC-M 材料纹理研讨会，2015 年 2 月 15 日至 19 日，IISC-班加罗尔材料系。
体超导铟对一维锌超导纳米线超导电性的抑制效应'
（！“＃$”％＆'％（）＃'*+），“ - +。“＃+”）＃/ 0“ 1）％$ 2”＃$'＆345*。+*，3“ ##*5,6）＃。） div>- $）$“ 7＃.6”％*。
即时发表经办代理: David Moreno (大卫穆锐农) Open Sky ...
业界精英调查其它要点（ 2024 年 7 月进行） - 74% 的受访者认为，曲线形状的 逆向 光刻技术（ curvilinear ILT ）对非 EUV 的 193i 前沿节点有 用 —— 其中 29% 的人强烈同意这一说法，而去年这一比例为 24% 。 - 55% 的受访者表示，前沿节点的一些关键层已经在使用 逆向 光刻技术（ ILT ），这一比例较去 年的 46% 和两年前的 35% 有所上升。 - 光罩制造中的软件基础设施仍然是生产曲线形状光罩的最大挑战。 - 对深度学习应用的预测有所延迟，今年有 54% 的受访者预测深度学习将在 2025 年之前成为 光罩制造过程中任何环节的竞争优势，而去年这一预测为 2024 年。 “ 我们期待在 SPIE 光罩技术会议期间度过激动人心的一周，届时 eBeam Initiative 将举办第 15 届年度光罩会议，展示半导体生态系统对这一合作论坛的持续支持， ”eBeam Initiative 的 的主办 管理公司 D2S 的首席执行官 藤村 (Aki Fujimura) 表示。 “ 现在是加入光罩行业的绝佳时机，近年 来该行业取得了强劲增长 —— 这证明了光罩社区内杰出人才的贡献，也彰显了该行业在推动半 导体创新方面的重要性。今年 eBeam Initiative 业界精英 调查的绝大多数参与者 —— 他们代表了 行业内顶尖的商业和技术专家 —— 都认为这一增长趋势将在 2024 年继续，这无疑是个好消息。 ” About The eBeam Initiative 关于 eBeam Initiative （电子束倡议团） eBeam Initiative 是一个致力于推广和倡导电子束技术在半导体制造全新应用的团体；为有关 电 子束技术的教育和促进活动 提供相应的论坛。 eBeam Initiative 的目标是增加电子束技术应用在 半导体制造各领域中的投资；降低电子束技术应用的障碍，能够使更多集成电路设计完成，并 且更快投进市场成为可能。会员公司 , 涵盖整个半导体生态系统，包括 : aBeam Technologies; Advantest; Alchip Technologies; AMD; AMTC; Applied Materials; Artwork Conversion; ASML; Averroes.ai; Cadence Design Systems; Canon; CEA-Leti; D 2 S; Dai Nippon Printing; EQUIcon Software GmbH Jena; ESOL; EUV Tech; Fractilia; Fraunhofer IPMS; FUJIFILM Corporation; Fujitsu Semiconductor Limited; GenISys GmbH; GlobalFoundries (GF); Grenon Consulting; Hitachi High-Tech Corporation; HJL Lithography; HOLON CO., LTD; HOYA Corporation; IBM; imec; IMS CHIPS; IMS Nanofabrication AG; JEOL; KIOXIA; KLA; Micron Technology; Multibeam Corporation; NCS; NuFlare Technology; Petersen Advanced Lithography; Photronics; QY Mask; Samsung Electronics; Semiconductor Manufacturing International (Shanghai) Corporation (SMIC); Siemens EDA; STMicroelectronics; Synopsys; TASMIT; Tokyo Electron Ltd. (TEL); TOOL Corporation; Toppan Photomask Corporation; UBC Microelectronics; Vistec Electron Beam GmbH and ZEISS. eBeam Initiative 面向和欢迎所有电子工业的公司和协会加盟。细节请查看 www.ebeam.org .
三维导电聚合物微纳电极在脑类器官研究中的应用与展望
在脑类器官中[58]。 （f）TPP制造光子晶体微纳米传感单元[59]。 （g）成像在脑类器官中[58]。（f）TPP制造光子晶体微纳米传感单元[59]。（g）成像