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World File Search System超纯水
超纯水生产。pdf
Engineering, manufacturing and assembly Installation and multi-phases commissioning PP-H low-pressure piping, Skids in SS316 Technologies: MMF, RO, EDI, UV, IEX, UF filtration and membrane degassers 2 x 100% redundancy for all technologies Advanced parameters monitoring (TOC, particles, resistivity,…) UPW loop capacity of 40 m3/h with production flexibility from 25 to销售服务后的100％，包括网站的预防维护
使用 NexION 5000 ICP-MS 表征超纯水
超纯水 (UPW) 是半导体器件生产中最重要的化学品之一，广泛用于所有湿法处理步骤，包括晶片冲洗和化学槽中使用的化合物稀释。在这些关键步骤中，化学槽和冲洗水中的污染物可以通过一系列化学和电化学反应吸附并沉淀到硅表面。成品关键区域中存在的浓度为 50 ppq 的金属污染物会改变集成电路元件的电气参数，并导致其无法通过最终电气测试。由于 UPW 对半导体材料生产商至关重要，因此测量其纯度至关重要。
ionkleen™aq净化器-Pall Shop
Ionkleen AQ净化器是专门设计用于从超纯水中去除金属离子的。它非常适合在半导体行业最关键的最终清洁过程中使用。利用PALL的最新技术发展，Ionkleen AQ膜已被修改，以在其表面上掺入离子交换组，从而从超纯水中自发和直接的金属去除。
评估基于铂的离子聚合物金属复合材料作为超纯水系统中溶解臭氧的电位传感器
监测纯净水中溶解的臭氧的含量通常是必须的，以确保适当的消毒和消毒水平。然而，由于比色测定需要费力的分析，因此量化构成挑战，而用于电化学过程分析的市售仪器却很昂贵，并且通常缺乏小型化和酌情安装的可能性。在这项研究中，提出了电位离子聚合物金属复合材料（IPMC）传感器，用于确定超纯水（UPW）系统中溶解的臭氧。通过浸渍还原方法处理市售的聚合物电解质膜以获得纳米结构的铂层。通过应用25种不同的合成条件，可获得2.2至12.6μm的层厚度。支持射线照相分析表明，浸渍溶液的铂浓度对获得的金属载荷具有最高的影响。传感器响应行为是通过langmuir pseudo-ishotherM模型来解释的，并允许溶解的臭氧定量以痕量痕迹小于10μgl-l-1。其他统计评估表明，可以高精度和显着性预测预期的PT加载和放射线降低水平（R 2
E-Cell-3X 堆栈
• 为电力、半导体和一般工业等工业应用提供超纯水。 • 连续生产混床质量的水。 • 无需使用苛性碱或酸来再生堆内的离子交换树脂。 • 保证无泄漏。 • 无需盐水注入和浓缩液再循环，简化系统设计。
2300N 钠分析仪
2300Na 钠分析仪为微电子纯水/超纯水和动力循环化学监测提供高度可靠的在线钠测量。该分析仪可保证水的纯度，并提前警告可能发生的离子突破 - 最大限度地减少发电厂涡轮机腐蚀的影响以及半导体工艺的中断。
Sievers* M9 TOC 分析仪
M9 在线不间断分析：• 连续监测，能够轻松引入离散抓取样品和标准样品。• 壁挂式安装，采用 IP-45 级外壳，可承受苛刻的工艺水环境。• 宽广的线性 TOC 范围可为超纯水分析提供出色的低水平灵敏度，并为清洁验证或其他具有挑战性的水样提供高水平能力。• 可选 Turbo 模式，适用于微电子（回收应用）和制药（清洁验证）。
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