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超纯水 (UPW) 是半导体器件生产中最重要的化学品之一，广泛用于所有湿法处理步骤，包括晶片冲洗和化学槽中使用的化合物稀释。在这些关键步骤中，化学槽和冲洗水中的污染物可以通过一系列化学和电化学反应吸附并沉淀到硅表面。成品关键区域中存在的浓度为 50 ppq 的金属污染物会改变集成电路元件的电气参数，并导致其无法通过最终电气测试。由于 UPW 对半导体材料生产商至关重要，因此测量其纯度至关重要。
使用 NexION 5000 ICP-MS 表征超纯水
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