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World File Search System钻石
关于石墨和钻石中的摩擦机制
*通讯作者摘要。提出了石墨摩擦模型。在此模型中，摩擦过程被描述为表面层弹性变形的过程。此外，包含3-5个原子单层的纳米层，根据Griffiths方案的弹性和迅速崩溃，形成像固体润滑剂这样的层。接下来，中层进入摩擦过程。如果石墨的摩擦被认为与粘性液体的摩擦相似，那么从这种方法中可以得出摩擦取决于运动速度，其结构与贝纳德细胞相似，这意味着发生自组织和摩擦协同作用。不能使用通常的Amonton定律或基于流体动力学理论来解释石墨的摩擦，这是由于它与溶液的粘度相关的事实，其理论尚未完成。由于其表面的重建，亚稳态钻石的表面层变成石墨，其摩擦系数为相同的值k≈0.1。如果您卸下了亚稳态钻石的表面层，即将其变成钻石，然后其摩擦系数为k≈0.6。关键字：石墨，钻石，摩擦，表面，自组织，协同学，速度，润滑，弹性。简介
工程师显示钻石量子传感器的工业潜力用于电动电动电动电动电池监控
使用连续波的光学检测到的磁共振光谱在纤维顶传感器构型中，团队估计NV浓度和T₂*（DeCherence时间）分别为0.05 ppm和0.05μs。传感器的渐变计设置，两个传感器位于母线的两侧，在没有磁性屏蔽的情况下显示出小于20 nt/hz 0.5的噪声底。此外，磁场噪声的艾伦偏差保持在0.3μt以下，这使得在10 ms至100 s的累积时间内检测到低至10 mA的母线电流。
突破方法产生灵活的钻石膜
Zhiqin Chu受到启发，使用粘性胶带通过单层石墨烯发现故事从硅表面上删除钻石胶片。Konstantin Novoselov和Andre Geim赢得了2010年诺贝尔物理奖，因为您可以使用粘性胶带从石墨（铅笔线索中的材料）剥离一层石墨烯。
激光振动激发自由基的激发，以防止由钻石中的硼掺杂引起的结晶度降解
追求高水平的掺杂而不会恶化结晶度是非常困难的，但对于释放材料的隐藏力至关重要。这项研究证明了通过激光至关重要的自由基，硼龙二氢化合物（BH 2）的激光振动激发（BH 2）在燃烧化学蒸气期间保持晶格完整性的有效途径。改进的钻石结晶度归因于硼氢化硼（BH）的相对丰度的激光，热抑制的热抑制，其过度存在会诱导硼隔离并扰乱结晶。BDD的硼浓度为4.3×10 21 cm -3，膜电阻率为28.1毫米·CM，孔迁移率为55.6 cm 2 v -1 s -1，超过了商业BDD。高导电和结晶的BDD在传感葡萄糖方面具有提高的效率，证实了激光激发在产生高性能BDD传感器方面的优势。在掺杂过程中重新获得激光激发的结晶度可以消除半导体行业的长期瓶颈。
从激光减震石墨和碳氢化合物目标中恢复释放云：寻找钻石
1 Institute of Radiation Physics, Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf, 01328 Dresden, Germany 2 Institute of Solid State and Materials Physics, TU Dresden, Haeckelstraße 3, 01069 Dresden, Germany 3 Institute of Physical Chemistry, TU Dresden, Haeckelstraße 3, 01069 Dresden, Germany 4 SLAC National Accelerator美国孟洛克公园，美国孟洛公园，美国美国5物理研究所，阿尔伯特·恩斯坦 - 斯特林大学。
钻石禧年计划CALENDER 2025
21-FEB 11:00 AM校友会见PoliɵcalSciencePoliɵcalScience 21-FEB 21-FEB 11:00 AM校友会见物理学部21:00 AM校友会会面动物学动物学系22-FEB 22-FEB 22-FEB 11:00 AM AM alumni Alumni Gepter of Geagraphy of Geography of Geography of Geography。 地理21-FEB 11:00 AM校友会见PoliɵcalSciencePoliɵcalScience 21-FEB 21-FEB 11:00 AM校友会见物理学部21:00 AM校友会会面动物学动物学系22-FEB 22-FEB 22-FEB 11:00 AM AM alumni Alumni Gepter of Geagraphy of Geography of Geography of Geography。地理
改进o 2等离子体蚀刻钻石功率MOSFET制造
为了最大程度地减少或消除沟槽，最好有利于蚀刻过程的化学成分。因此，我们决定继续使用ICP-RIE进行O 2等离子体蚀刻，这是因为在表面形态和各向异性蚀刻方面具有令人鼓舞的结果，因此我们已经研究了血浆参数的影响ICP和偏置功率，尤其是使用两种类型的口罩：铝和硅二氧化物（Sio-dioxide）（Sio 2）。3- O 2在Sentech Si500-Drie设备上进行了用铝面膜钻石蚀刻的等离子体蚀刻。测试样品是（100）方向的单晶CVD钻石底物和元素六的3 x 3 mm 2尺寸。第一步涉及溶剂和酸的化学清洁，以去除可能影响蚀刻和产生粗糙度的污染物。然后将钻石底物涂在光线器上，并用激光光刻降低，以定义掩模图案。然后通过热蒸发沉积700 nm厚的铝面膜。金属薄膜，例如铝，由于其在钻石上的良好粘附性[24]及其良好的蚀刻选择性[25]，因此将其用作单晶钻石蚀刻的硬面膜材料。此外，由于血浆中的寿命不足，尤其是在氧气中，因此与光致剂相比，金属面膜仍然是更好的选择。3.1 o 2等离子蚀刻的p icp = 500W和p偏见= 5W我们研究的第一个蚀刻条件是：p icp = 500 w，p sial = 5 w，压力= 5吨，气体流量= 25 sccm，温度= 18°C。每个蚀刻步骤都限制为30
请批准钻石尾部太阳能和电池项目
安全！此消息源于您的组织之外。在单击任何链接或打开任何附件之前，请谨慎行事。如果此电子邮件看起来可疑，请立即将其报告给IT部门。亲爱的专员凯瑟琳·A·布鲁克（Katherine A.我正在写信，以敦促您对桑多瓦尔县的钻石尾太阳能项目的支持。该项目将在施工期间提供良好的当地就业机会，并向该县提供数百万美元的持续收入，以帮助支付道路，学校和其他需求。它也将进一步过渡到最清洁的电力，太阳能。我已经听到了赞成和反对的论点，并坚信该项目将为当地社区，县和州提供巨大的净收益。请投票以批准它。真诚的，托马斯·所罗门·阿尔伯克基（Thomas Solomon Albuquerque），NM 87122-1155 tasolomon6@gmail.com