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World File Search System镍层
铁路车辆的新镍金属氢化物电池系统
•不包含环境危险物质（PB，CD）•体重较小且重量轻，可以在车辆上弹性安装•由于足够长的寿命而节省替换时间•由于不需要电解质补充而无需维护，因此不需要远程监控功能诊断•无需运输限制（无需9级）
加压三层镍Pr 4 ni 3 O 10
Enkang Zhang 1,2 † , Di Peng 3 † , Yinghao Zhu 1 † , Lixing Chen 1 , Bingkun Cui 1 , Xingya Wang 4 , Wenbin
镍铝青铜（NAB）评论：添加剂制造和焊接性
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镍铼合金涂层的电解生产和表征，
从而更能抵抗开发的影响。目前，已有多种已知且广泛用于工业的涂层沉积方法，例如选择性激光熔化、使用微米和纳米级粉末的 HVOF 技术以及反应爆炸喷涂 [1-3]。电沉积是另一种可以生产具有特定功能特性的现代涂层的方法。通过控制电沉积参数（即电流、电压、温度和镀液成分），可以影响所得材料的结构，从而影响其性能。该方法的本质是可以同时共沉积几种金属以形成合金，甚至将金属粉末掺入涂层结构中 [4-18]。镍是广泛用于各种电化学过程中的金属之一，因为它具有良好的耐腐蚀性。为改善镍镀层，人们采用了各种改性方法，例如使用合金代替纯元素 [5,6,12]。电解镍镀层中一种有趣的添加剂是铼，它是地球上最稀有、最昂贵的金属之一。金属铼类似于铂，通常被归类为贵金属。纯净的铼是一种银色、有光泽且硬度较高的金属。它可精炼金属合金，显著提高其硬度和耐腐蚀性。铼只溶解在氧化性酸中：硝酸和热浓硫酸。大量铼用于生产特殊合金或超级合金，例如在航空工业中用于生产喷气发动机部件。铼还用于生产热电偶、加热元件、电触点、电极、电磁铁、真空和 X 射线灯、闪光灯泡、金属涂层，也可用作复分解和环氧化等反应的催化剂 [19-22]。由于铼属于“耐腐蚀金属”类，因此亚铁族阳离子的存在对于电解合金涂层的形成是必要的。含铼合金涂层的电沉积研究已成为许多研究的主题。此类材料可通过电流和化学沉积方法生产 [23-25]。
三层镍中密度波不稳定性的起源...
在以相互交织的电子订单和超导性为特征的非常规超导体的错综复杂的相图中，了解超导机制的关键步骤是研究超导性通过掺杂或压力出现超导性的母体化合物。在这项研究中，我们采用了光谱和超快反射率测量，以检查三层镍镍4 Ni 3 O 10中的密度波不稳定性，它显示出高达30 K的压力诱导的超导性。我们的光学频谱测量表明，La 4 Ni 3 O 4 ni 3 O 10具有高pLASMA频率的金属。冷却后，我们观察到在光学电导率和泵探针测量中，密度波能隙的明显形成。与双层镍LA 3 Ni 2 O 7相比，间隙特征更为明显。通过将实验确定的等离子体频率与第一原理计算进行比较，我们将LA 4 Ni 3 O 10分类为一种中等电子相关的材料，类似于基于铁的超导体的母体化合物，但与Bielayer NikeLate La 3 Ni 2 O 7相比表现出较弱的相关性。LA 4 Ni 3 O 10中增强的间隙特征和较弱的电子相关性可能解释了其在高压下的较低的超导性过渡温度。这些发现显着提高了我们对三层镍LA 4 Ni 3 O 10中密度波和超导性机制的理解。
人工智能与公司层面的生产力
人工智能 (AI) 通常被视为下一代通用技术，可在众多工业领域快速、深入和深远地应用。新型通用技术的主要特征是能够实现可能提高生产率的新生产方式。然而，到目前为止，只有极少数研究调查了人工智能在企业层面对生产力的可能影响；大概是因为缺乏数据。我们利用企业采用人工智能技术的独特调查数据，并使用德国企业样本估计其生产力效应。我们同时使用横截面数据集和面板数据库。为了解决人工智能采用的潜在内生性，我们还实施了 IV 方法。我们发现人工智能的使用对企业生产力产生了积极而显著的影响。这一发现适用于人工智能使用的不同衡量标准，即人工智能采用的指标变量，以及公司在其业务流程中使用人工智能方法的强度。
花费的锂离子电池的射层回收
锂离子电池（LIBS）在我们的现代世界中已经变得无处不在，自1991年通过Sony Inc.发现以来，从智能手机到电动汽车，更多的一切都提供了更多的动力。市场对Libs的需求迅速增加，原材料价格的不可预测的上升为将来的大规模生产带来了不可避免的障碍。根据报道，在过去的十年中，Lith IUM价格几乎增加了两倍。未来的制造汇总可能会遇到挑战，这也是由于基本要素的全球稀缺（Li，Co和Ni）[1-4]。尽管这些电池提供了令人印象深刻的能量密度，低自减电率，轻巧和效率，但它们的广泛使用引起了人们对环境心理影响和资源耗竭的担忧[5,6]。在这次迷你审查中，我们探讨了回收锂电池以减轻问题和促进可持续未来的重要性。Hydorementallurgy和Py Rometallurgy是用于回收花费的两种主要方法。我们在更多的尾巴中介绍了提到的回收用过的锂电池的方法之一。
芯片的选择性原子层沉积
实现 AS-ALD 的一种常见方法是使用自组装单分子层 (SAM) 作为抑制剂，以优先阻止一种表面材料上的 ALD 而不是另一种。 [7–14] SAM 是一种有机分子，由头部基团（也称为锚定基团）、主链（通过范德华相互作用参与自组装过程）和尾部官能团组成，其中尾部官能团会影响 SAM 形成后的最终表面特性。通过选择仅与特定表面反应的 SAM 分子头部基团，可以实现选择性 SAM 形成。例如，已证实烷硫醇和烷基膦酸可在金属基材上形成 SAM 结构，但不会在 SiO 2 上形成。 [15–21] 通过使用这两种 SAM 分子作为金属表面 ALD 抑制剂，已有多次成功演示在金属/电介质图案的电介质区域上选择性沉积电介质膜（电介质-电介质，或 DoD）和金属膜（金属-电介质，或 MoD）。[7–12,22,23]