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美国商务部 (DOC)、美国国家标准与技术研究所 (NIST) 2025 财年 CHIPS AI/AE 用于快速、行业知情的可持续半导体材料和工艺 (CARISSMA) 竞争资助通知机会 (NOFO) 2025-NIST-CHIPS-AIAE-Sustainability-01 根据资金情况，此 NOFO 寻求以行业为导向、以大学为基础的人工智能驱动的自主实验 (AI/AE) 合作的申请，包括研究和开发、教育和劳动力发展以及与可持续半导体材料和工艺相关的相关活动。如果成功，根据此 NOFO 颁发的奖项将支持下一代国内半导体制造的长期可行性，加速材料和工艺的发现、设计、合成和采用，以及培养满足行业技术、经济和可持续发展目标所需的新研究人员。公告类型：初始。
美国商务部 (DOC)、国家标准与技术研究所 (NIST) 2025 财年 CHIPS AI/AE 快速、行业知情的可持续半导体材料和工艺 (CARISSMA) 竞赛资助机会通知 (NOFO) 2025-NIST-CHIPS-AIAE-Sustainability-01 根据资金情况，此 NOFO 寻求行业知情、以大学为基础的人工智能驱动的自主实验 (AI/AE) 合作的申请，包括研究和开发、教育和劳动力发展以及与可持续半导体材料和工艺相关的相关活动。如果成功，根据此 NOFO 颁发的奖项将支持下一代国内半导体制造的长期可行性，加速材料和工艺的发现、设计、合成和采用，以及培养满足行业技术、经济和可持续发展目标所需的新研究人员。公告类型：初始。
“1. AFCS 表 9、项目 2、9 级（化脓性关节炎或其他需要关节融合或全关节置换的病症）中有多少奖项将过度使用、损耗、重复或重复动作列为原因？
2. 表 9、第 2 项、第 9 级中所有成功授奖的记录原因是什么？“我将您的来信视为《2000 年信息自由法》（FOIA）下的信息请求。国防部内的信息搜索现已完成，我可以确认您请求范围内的所有信息均已保存。问题 1 – 表 9、第 2 项、第 9 级下的 11 个奖项将过度使用、人员流失、重复或重复行动列为原因。问题 2 – 表 9、第 2 项、第 9 级下所有成功授奖的记录原因可在以下附件 A 中找到。如果您对这封信的内容有任何疑问，请首先联系本办公室。如果您想投诉对您的请求的处理方式或此回复的内容，您可以通过联系信息权利合规团队（地址：Whitehall, SW1A 2HB，国防部主楼底层，电子邮箱：CIO-FOI- IR@mod.gov.uk）申请独立内部审查。请注意，任何内部审查请求均应在收到此回复之日起 40 个工作日内提出。如果您在内部审查后仍不满意，您可以根据《信息自由法》第 50 条的规定直接向信息专员投诉。请注意，信息专员通常不会在国防部内部审查过程完成之前调查您的案件。信息专员的联系方式：信息专员办公室，威克利夫大厦，水巷，威姆斯洛，