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吹扫气体的选择也是此解决方案的重要组成部分。根据与领先的曝光工具 OEM 合作保护扫描仪光学元件的经验，Entegris 已测试并确定了一种行之有效的吹扫气体源，以最大限度地降低和消除光刻工艺的风险。吹扫气体系统已获批准，可与这些相同曝光工具中的透镜组件一起使用。此外，高光学纯度对光罩的数值孔径没有影响。这种吹扫气体源对操作员也更安全，并提供最低的运营成本。Clarilite 系统使用的气体是 Entegris 的极度洁净干燥空气 (XCDA ® )。
新型光罩防雾解决方案
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