声音事件的定位和检测(SELD)任务包括对不同类型的声学事件进行分类,同时将它们定位在3D空间中。在以前的《 Challenge》中,本地化等于预测AR-竞争对手的方向(DOA),而今年的挑战还涉及估计相对于麦克风阵列的距离。音频记录可以以两种格式使用:一阶Ambisonics(FOA),它结合了来自32个麦克风的记录,或来自四面体麦克风阵列(MIC)的4通道记录。近年来,大多数提交挑战的系统都使用了以前的格式,而后者的探索较少。在本报告中,我们关注如何更好地利用麦克风记录中的信息。具有相变(GCC-PHAT)[1]与光谱音频特征相结合的广义互相关是麦克风阵列大多数SELD方法的基础。频谱特征包含有关哪种类型的声音事件有效的重要提示,而GCC-PHAT的目的是提取麦克风对之间的到达时间差异(TDOA)。鉴于阵列的几何形状,可以将TDOA测量值映射到DOA。然而,GCC-Phat已知与噪声和混响有关[2]。GCC-PHAT也可能失败
量子计算机经常操纵在两个级量子系统上编码的物理Qubit。Bosonic Qubit代码通过将信息纳入无限二维的Fock空间的标子空间中,而脱离了这个想法。这个较大的物理空间提供了自然保护,以防止实验瑕疵,并允许玻体代码规避适用于受二维希尔伯特空间约束的状态的禁忌结果。通常以单个骨率模式定义了一个骨量子量子,但是寻找可以表现出更好性能的多模式版本是有意义的。在这项工作中,基于这样的观察,即猫代码生活在由有限数量的有限亚组索引的连贯状态的跨度中,我们考虑了居住在四个相干态的24个相干状态的两种模式概括,由二进制四面体组2 t索引。结果2 t-qutrit自然遗传了第2 t组的代数特性,并且在低损失方案中似乎非常健壮。我们启动其研究,并确定稳定器以及该玻感代码的一些逻辑操作员。
“理论化学”的起源始于大约400年前,当时17世纪,约翰内斯·开普勒[1]推测了雪花对称性以及球形物体的紧密包装。十九世纪后期紧密填充结构的对称布置导致许多晶体学和固态无机化学理论。John Dalton [2]表示化合物作为圆形原子的聚集,Johann Josef Loschmidt [3]使用二维类似物根据圆圈创建了图。August Wilhelm von Hofmann被认为是第一个实质上是拓扑结构的物理分子模型。Joseph Le Bel [5]和Jacobus Henricus van't Hoff [6]引入了立体化学的概念,范诺夫(Van't Hoff)显示了代表碳三维特性的四面体分子。约翰·戴斯蒙德·伯纳尔(John Desmond Bernal)给出了[7]的第一个液体水模型。现在已经在洛斯阿拉莫斯国家实验室(Los Alamos National Laboratories)使用最强大的疯子计算机对液体进行了第一台计算机模拟以来,已有30多年的历史了。
标题为“多量芯片拓扑的优化”的海报着重于设计用于多量量子处理器的可扩展和高效的ARCHITECTURES。该研究突出了超导量子位,以其可控性和作为量子计算中量子信息的基本单位而闻名。这项研究强调了参数的重要性,例如纠缠,量子误差校正和可扩展性在多Qubit芯片设计中。该团队提出了一个2D体系结构,其中包含三个量子位,并以等边三角形和一个3D体系结构排列,其中有四个量子位在四面体结构中。这些配置可以用作大型量子系统的模块化单元。未来的方向包括优化谐振器长度,能量参与率以及扩展较大多数阵列和系统的体系结构。在高能物理学中,量子系统用于量子模拟复杂的粒子相互作用。因此,易于扩展的多量芯片肯定是高能粒子碰撞的复杂计算和模拟的前进的道路,因此在不久的将来为其在新的和更令人兴奋的发现中为其在高能物理中的使用铺平了道路。
抽象的超低能离子植入已成为掺杂二维材料和超薄膜的有吸引力的方法。基于二进制碰撞近似的新的动态蒙特卡洛计划Imintdyn允许对低能植入培养物和目标组成变化的可靠预测,以及对高能光离子散射的有效模拟。为了证明这些预测和模拟的质量,我们提出了一个模型案例实验,在该实验中,我们将W离子植入具有低(10 keV)和超低(20 eV)离子能量的四面体非晶碳中,并分析了W植入W具有高分辨率的Rutherford redScatter-Scattrant-ReClanter-Files。使用新的Imintdyn程序将该实验与对实验的离子固定相互作用的各个方面进行了完整模拟。一种独特的新型模拟选项,也与植入2D材料有关,是将空缺作为具有动态空位产生和歼灭的目标物种。虽然忽略空缺形成的模拟不能再现所测量的植入物,但我们发现模拟和测量的HR-RBS光谱之间有很好的一致性。我们还证明了同时弱碰撞在低弹丸能量下二进制碰撞近似中的重要作用。
摘要 — 在本研究中,为了阐明磨损机理和碳转移层对磨损的作用,对ta-C涂层在空气中以不同的滑动循环在200 o C下进行摩擦试验。在完成约2,000次磨合循环后,获得0.02的稳定状态摩擦系数。在稳定状态下,ta-C的磨损率随着循环次数的增加而降低。磨损率的这种下降被解释为在磨合过程中在配合材料上形成了碳转移层。通过拉曼光谱和非接触式显微镜分析了这些摩擦学特性的机理。1.介绍 类金刚石碳(DLC)涂层是sp 2和sp 3键合碳原子的混合结构。DLC 涂层因其高硬度、高电阻率和低摩擦系数而备受关注。这些特性有望广泛应用于干加工、发动机部件和切削刀具的耐磨涂层等。然而,DLC 涂层的这些摩擦学性能在高温下会迅速恶化,并在接触过程中产生摩擦热 [1]。在 DLC 系列中,非氢化四面体无定形碳 (ta-C) 是摩擦学应用的理想候选材料,因为其结构中具有较高的 sp 3 键,具有良好的热性能。
该疾病三角形是一种结构简单但概念丰富的模型,用于植物病理学和其他研究领域,以解释不一致的疾病,这是宿主,病原体及其环境之间三向关系的结果。它也可以作为寻找治疗,预测和预防此类疾病的指南。凭借其以循证为基础的,基于证据的意识到,病原体的丰度和活性受到邻近性和与各种各样的其他微生物的相互作用的影响,并在同一宿主中殖民的多种微生物,该疾病三角形演变为四面体形状,这是添加了四个维度,该尺寸添加了宿主的尺寸,代表了宿主的微生物群。从最近制定的病原体范式中出现了另一种疾病三角形的变体,该范式从传染病的经典“一种病原体”病因中脱离,有利于一种疾病代表疾病代表宿主之间和宿主之间复杂相互作用的有条件结果的情况。结果是原始疾病三角形的一种版本,其中“病原体”用“微生物群”代替。在这里,作为对疾病三角疾病的起源,历史和用法的仔细而简洁的综述的一部分,我提出了下一步的进化,即用“健康”一词代替宿主 - 微生物群 - 环境三合会的“疾病”一词。这个三角形
摘要:具有层状晶体结构和高平面各向异性的材料(例如黑磷)具有独特的性能,因此有望应用于电子和光子器件。最近,GeS 2 和 GeSe 2 的层状结构因其高平面光学各向异性和宽带隙而被用于短波长区域的高性能偏振敏感光电检测。高度复杂、低对称(单斜)晶体结构是高平面光学各向异性的起源,但相应纳米结构的结构性质仍有待充分了解。在这里,我们展示了单斜 GeS 2 纳米结构的原子级表征,并通过 Cs 校正扫描透射电子显微镜量化了实空间中亚埃级的平面结构各向异性。我们通过密度泛函理论 (DFT) 计算和基于轨道的键合分析,阐明了这种高平面内各向异性的起源,即 GeS 2 单层中 [GeS 4 ] 四面体的有序和无序排列。我们还展示了单层 GeS 2 中的高平面内机械、电子和光学各向异性,并设想了单轴应变下的相变,可能用于非易失性存储器应用。关键词:二硫化锗、复合二维材料、亚埃成像、键合机制、平面内各向异性 T
在决定其组装行为中起着关键作用,基于各种形状的NP构建块可以制备出各种复杂的类似超结构,如晶体、塑性晶体和液晶。13 – 26 作为一个显著的例子,四面体最近被证明可以形成各种组装体,包括一维手性四螺旋、二维准晶体和三维基于簇的体心立方单超晶体。27 – 30 尽管在非球形NP方面投入了大量精力,但对具有特殊几何形状的各向异性NP进行系统的自组装研究仍然很少。哑铃在几何上由两个叶组成,由中间的杆连接,这是NP二聚体的最粗糙模型和最简单的非凸体。哑铃中部区域的扩大头部提供了额外的空间排斥力,以限制它们沿某些方向的组装,使它们成为自组装研究的有趣构建块。31 – 36 理论计算预测对称哑铃可以选择性地诱导取向无序退化晶体、人字形晶体和有序斜晶格晶体的形成。33,37 – 40 还进行了实验演示,包括金 ND 的平行排列和十字形二聚体,41,42 外部场下 ND 的受控取向,35,43 – 46 和
图2。y 3+x al 5-x o 12(0≤x≤0.4)的结构演变得出了SXRD数据的分析。(a)Y 3.4 Al 4.6 O 12(R WP = 8.79%,χ= 1.16)的Rietveld细化具有高角度拟合插图的变焦。Blue tick marks indicate garnet reflections (99.77(2) wt.%), green tick marks indicate perovskite reflections (YAlO 3 , 0.33(2) wt.%) (b) The garnet structure of Y 3.4 Al 4.6 O 12 projected along (100), and a fragment projected along (111) showing the three different cation environments (orange atoms = Y 3+ ; dark blue octahedra = Alo 6;浅蓝色四面体= ALO 4)。(c)具有线性拟合覆盖(实线)的精制晶格参数A,并通过y 3+对16个位点的精制占用率,名义占用覆盖(虚线)。(d)在三种不同的阳离子环境中精制的金属氧距离(m-o)x,在y 3 al 5 o 12(m- o)0时标准化为其值。蓝色三角形=直接结晶样品;洋红色倒三角=玻璃结晶样品。错误栏对应于细化中的10x ESD。