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改进的具有两个几乎...的半量子密钥分发
摘要 半量子密钥分发 (SQKD) 协议试图在用户之间建立共享密钥，以抵御计算不受限制的对手。与标准量子密钥分发协议不同，SQKD 协议包含至少一个量子能力有限的用户，并且本质上几乎是“经典”的。本文探讨了 Massa 等人引入的中介半量子密钥分发协议 (Experimental quantum cryptography with classic users, 2019. arXiv preprint arXiv:1908.01780)，其中用户只需要检测量子位或反映量子位的能力；他们不需要执行任何其他基础测量；也不需要准备量子信号。用户需要量子服务器的服务，而该服务器可能由对手控制。在本文中，我们展示了如何扩展此协议以提高其效率和噪声容忍度。我们讨论了一种允许更多通信轮次直接使用的扩展；我们在特定攻击类型的渐近场景中分析了此扩展的密钥率，并与以前的工作进行了比较。最后，我们评估了该协议在各种有损和有噪声的信道中的性能。
分散的联合政策梯度，具有拜占庭断层耐受性和快速收敛
在联邦强化学习（FRL）中，代理人旨在与每个代理商在其本地环境中行动而无需交换原始轨迹时进行协作。FRL的现有方法（a）都不提供任何容忍度的保证（针对行为不当的代理商），或（b）依靠可信赖的中央代理（单点失败）来汇总更新。我们提供了第一个分散的拜占庭式耐受性FRL法。为此，我们首先提出了一种新的集中式拜占庭故障稳定性政策梯度（PG）算法，该算法仅依赖于非耐受性PG的假设标准来改善现有方法。然后，作为我们的主要贡献，我们展示了如何利用强大的聚合和拜占庭式共识方法的结合，以消除对受信任的中央实体的需求。由于我们的结果代表了拜占庭式耐断层的非征料非凸优化的第一个样本复杂性分析，因此我们的技术贡献可能具有独立的利益。最后，我们为常见的RL环境证实了我们的理论结果，证明了分散的联邦W.R.T.的加速。对各种拜占庭攻击的参与代理的数量和弹性。
耐变异感测放大器电路的设计
摘要 在 DRAM 和 SRAM 等深亚微米存储器中，准确感测位线电压变得非常具有挑战性，因为制造工艺的固有变化导致晶体管特性失配，这带来了严重的挑战，导致电路故障和产量下降。本文解决了这些问题，并将补偿方案应用于各种感测放大器的原理图，从而对工艺引起的变化具有很高的容忍度。使用 DGFinFET 设计的原理图利用增强的自补偿技术来克服物理晶体管特性的差异。使用蒙特卡罗技术重建晶体管失配（阈值电压，V t ），表明即使在 40-50mV 的严重 V t 失配下，所提出的 CCLSA 原理图也能正确运行。将这些结果与文献中报道的相应电路进行了速度、面积和产量的比较。与未补偿的设计相比，该设计还提供了高达 20-30% 的产量，并且降低了电路和性能的复杂性。这些电路在 45nm 和 32nm 技术节点上很容易实现。关键词：补偿、工艺变化、DRAM、FinFET 感测放大器、稳健性
背景音乐对稳定状态下精神疲劳的影响......
摘要：作为一种广泛使用的脑机接口（BCI）范式，基于稳态视觉诱发电位（SSVEP）的BCI具有信息传输速率高、对伪影容忍度高、在不同用户之间表现稳健等优势。然而，长时间重复刺激导致心理疲劳的发生率是基于SSVEP的BCI的一个关键问题。音乐通常被用作一种方便、非侵入性的缓解心理疲劳的方法。本研究通过在长时间的SSVEP-BCI任务中引入不同模式的背景音乐，探讨音乐对心理疲劳的补偿作用。通过脑电图功率指数、SSVEP幅度和信噪比的变化来评估被试的心理疲劳。研究结果表明，在SSVEP-BCI任务中引入激动人心的背景音乐可有效缓解被试的心理疲劳。此外，对于连续的 SSVEP-BCI 任务，在休息间隔阶段使用舒缓背景音乐的音乐模式组合被证明能更有效地减少用户的精神疲劳。这表明背景音乐可以为长时间的基于 SSVEP 的 BCI 实现提供切实可行的解决方案。
基因组编辑
比较 EnGen Spy Cas9 NLS、EnGen Spy Cas9 HF1 和其他市售高保真 Cas9 变体的引导 RNA 序列与靶 DNA 序列之间的错配容忍度。允许编码与荧光标记的 dsDNA 底物单、双或三错配的几种引导 RNA 之一与五种 Cas9 变体中的每一种形成核糖核蛋白 (RNP) 复合物。包括完全匹配的引导 RNA 作为对照。将 RNP 与底物以 2:1 的比例在 37°C 下孵育 5 分钟。通过毛细管电泳测量每个 RNP 复合物的底物裂解百分比。结果绘制为热图，白色表示无裂解，蓝色强度增加表示裂解百分比增加。每行均标明引导 RNA 序列，错配以绿色表示。 DNA 原型间隔序列为 5´ – AGAACTGGCAGAGGAGGTAG – 3´，原型间隔相邻基序 (PAM) 为 5´– TGG – 3´。EnGen Spy Cas9 HF1 显示出最高的靶向切割与平均脱靶切割比率，从而表明对错配的敏感性增加。
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比较 EnGen Spy Cas9 NLS、EnGen Spy Cas9 HF1 和其他市售高保真 Cas9 变体的引导 RNA 序列与靶 DNA 序列之间的错配容忍度。允许编码与荧光标记的 dsDNA 底物单、双或三错配的几种引导 RNA 之一与五种 Cas9 变体中的每一种形成核糖核蛋白 (RNP) 复合物。包括完全匹配的引导 RNA 作为对照。将 RNP 与底物以 2:1 的比例在 37°C 下孵育 5 分钟。通过毛细管电泳测量每个 RNP 复合物的底物裂解百分比。结果绘制为热图，白色表示无裂解，蓝色强度增加表示裂解百分比增加。每行均标明引导 RNA 序列，错配以绿色表示。 DNA 原型间隔序列为 5´ – AGAACTGGCAGAGGAGGTAG – 3´，原型间隔相邻基序 (PAM) 为 5´– TGG – 3´。EnGen Spy Cas9 HF1 显示出最高的靶向切割与平均脱靶切割比率，从而表明对错配的敏感性增加。
避难所失落：太空中的网络物理战争。
摘要 — 在过去的几十年里，太空已经从一场纯粹的科学斗争（由展示一个政权优于另一个政权的愿望所推动）发展成为几乎所有发达国家经济的支点。许多企业都严重依赖卫星通信或数据采集，不仅用于国防目的，而且也越来越多地用于日常应用。然而，尽管到目前为止，航天国家都没有将地球冲突延伸到太空，但这一关键基础设施并不像常识所认为的那样坚不可摧。在本文中，我们分析了航天器面临的威胁以及必须做出哪些改变才能减轻这些威胁。特别是，我们将关注网络威胁，这些威胁很可能是由小国和恐怖组织发起的，它们的动机不一定包括太空领域的可持续性，也可能不会受到地面相互报复的威胁。我们调查事件，突出威胁，并提高人们对意外故障的一般准备（这在航天界已经广泛传播）的认识，以及对意外和恶意故障（例如网络恐怖分子和国家黑客的针对性攻击）的准备和容忍度。索引术语 — 空间、卫星、网络物理、系统、威胁载体、网络安全、网络安全
铁电拓扑超导体
二维拓扑超导体（TSC）代表一种外来的量子材料，在边界处以分散性majorana模式（DMM）表现出Quasiparticle激发。一个域壁dmm可以在两个TSC域之间的边界上出现，其配对间隙中的π相偏移或π相移，只能通过磁场调节。在这里，我们提出了铁电（Fe）TSC的概念，该概念不仅丰富了域壁DMM，而且显着使它们具有电气调谐。表明，配对间隙的π相移位显示在相反的Fe极化的两个TSC域之间，并通过反向Fe极化而切换。与铁磁（FM）极化结合使用，域壁可以容纳螺旋，手性的两倍和融合的DMM，可以通过更改电气和/或磁场的方向将其彼此转移。此外，基于第一原理的计算，我们证明α -In 2 SE 3是具有FM层和超导体底物的邻近性Fe TSC候选者。我们设想Fe TSC将通过电场显着缓解DMM的操纵，以实现容忍度的量子计算。
前比皮层活性预测高架的焦虑行为，以及迷宫码头A. Smoak 1,3，Karla J. Galvan 1,3，Daniel E. Calvo 2,4，
摘要内侧前额叶皮层（MPFC）在情绪调节中起着至关重要的作用，其失调与焦虑症有关。尤其是，MPFC的前比皮质（PRL）被认为可以调节与焦虑相关的行为，尽管其精确作用仍在争论中。在这里，我们使用内窥镜体内钙成像来评估在高高的迷宫（EPM）中进行的男性和雌性Sprague-Dawley大鼠的PRL神经元活性，这是一项广泛使用的任务，用于衡量焦虑样行为。我们发现，在张开手臂上花费较少时间的动物在张开的手臂上表现出较高的PRL活性，这表明PRL活动的增强可能反映出更大的焦虑或增加的回避行为。这些结果表明，PRL可能在调节对焦虑症情况的情绪反应中发挥作用，从而可能影响暴露于威胁性环境的容忍度。引言前额叶皮层（PFC）整合了皮质胶体输入以评估情绪意义和指导自适应行为（McLaughlin等，2014）。PFC活性的变化与报道的焦虑水平有关（Simpson等，2001），PFC活性的失调与精神疾病（如广义焦虑症（GAD））有关（Cha等，2014），
嵌段共聚物的组装
摘要：我们报告了一种嵌段共聚物 (BCP) 定向自组装 (DSA) 的方法，其中第一层 BCP 膜部署均聚物刷或“墨水”，这些刷或“墨水”在现有聚合物刷上方的聚合物膜热退火期间通过聚合物分子的相互渗透依次接枝到基材表面。通过选择具有所需化学性质和适当相对分子量的聚合物“墨水”，可以使用刷相互渗透作为一种强大的技术，以与 BCP 域相同频率生成自配准的化学对比模式。结果是一种对引导模式中的尺寸和化学缺陷具有更高容忍度的工艺，我们通过使用均聚物刷作为引导特征而不是更坚固的可交联垫来实现 DSA 来展示这一点。我们发现使用“油墨”不会影响线宽粗糙度，并且通过实施稳健的“干剥离”图案转移，验证了 DSA 作为光刻掩模的质量。关键词：定向自组装、嵌段共聚物、薄膜、先进光刻、缺陷率■ 简介