这份由标准政策跨部门委员会 (ICSP) 半导体和微电子工作组编写的报告概述了联邦政府半导体和微电子标准活动,并推荐了 ICSP 考虑的标准重点领域和优先事项。报告的“向 ICSP 提出的战略标准重点领域的建议”部分列出了联邦政府目前参与的与半导体和微电子相关的标准制定组织,确定了五个重点领域和优先事项,并确定了未来可能产生影响的差距和机会。概况回顾部分概述了每个参与机构的相关半导体和微电子标准活动,包括其使命、半导体和微电子目标、参与标准制定组织、半导体和微电子重点领域和优先事项以及半导体和微电子差距和机会。国家关键新兴技术标准战略表明了半导体和微电子工作组如何与国家关键新兴技术标准战略保持一致。
虽然半导体行业组织预测两年内芯片需求将增长 15%,但下游组织(依赖半导体供应来提供产品或服务和运营的组织)预计其芯片需求将以 29% 的更高增长率增长。人工智能 (AI) 和生成式人工智能 (Gen AI) 的普及推动了对专用神经处理单元 (NPU) 和高性能图形处理单元 (GPU) 的需求,这些单元可以高效处理大量计算和大型数据集。此外,下游组织预计未来 12 个月对人工智能芯片、定制硅片和内存密集型芯片的需求将增加。
B细胞急性淋巴细胞白血病(B-ALL)的高风险亚型经常与异常激活酪氨酸激酶(TKS)有关。这些包括由BCR-ABL驱动的pH+ B-all,以及类似pH的B-all,它带有其他染色体重排和/或基因突变,这些突变激活TK信号传导。目前,酪氨酸激酶抑制剂(TKI)dasatinib被添加到化学疗法中,作为pH+ B-all的护理标准,并且在临床试验中对TKIS进行了测试,以供PH样B-all。然而,即使在针对驱动癌基因的TKI治疗的细胞中,白血病微环境中的生长因子和营养也可以支持细胞周期和存活。这些刺激在激酶MTOR上汇聚,其升高的活性与预后不良有关。在pH+和pH样B-全部的临床前模型中,mTOR抑制剂强烈增强了TKI的抗白血病效率。尽管在B-all中靶向MTOR的概念性有很强的概念基础,但在临床上测试的第一代MTOR抑制剂(Rapalogs和MTOR激酶抑制剂)尚未显示出明确的治疗窗口。这篇评论的目的是将新的治疗策略引入类似于pH的B-All的管理。我们讨论了靶向MTOR的新方法,以克服先前MTOR抑制剂类别的局限性。一种方法是应用对MTOR复合物-1(MTORC1)选择性的第三代双层抑制剂,并以间歇性给药显示临床前的效率。一种独特的非药物方法是将营养限制用于恶性B-所有细胞中的靶向信号传导和代谢依赖性。这两种新方法可以增强pH样白血病中的TKI效率并提高生存率。
避免功能化会导致更好的原子经济以及毒性较小的反应性物种和副产品。这一切都会导致较低的SCI。尽管DAP具有明显的优势,但与其他常规途径相比,由此产生的材料表现不佳。与Stille制成的聚合物相比,直接芳基聚合物O e eN具有较低的分子量23,并且缺陷的患病率更高。24个同源物缺陷是由随后的链中重复自我的随后的单体而变化的。这是由芳基亲核试剂(AR - H)和DAP中的芳基电到(AR - BR)引起的,反应性更接近。Accordingly, the C – H bond must be su ffi ciently active to undergo reaction and prevent homocoupling of the dibrominated monomer – a side reaction also seen in Stille and Suzuki coupling despite highly orthog- onal reactivity of the monomers in those polymerization
毫米级、大面积均匀半导体器件分层用于物理故障分析和质量控制 Pawel Nowakowski*、Mary Ray、Paul Fischione EA Fischione Instruments,Export,宾夕法尼亚州,美国* 通讯作者:p_nowakowski@fischione.com 不断发展的微电子设备设计越来越复杂、越来越紧凑和越来越小。这些设计可能包括越来越多的层、三维 (3D) 垂直堆叠、气隙和不同的材料成分。大批量半导体器件制造需要强大的质量控制和故障分析过程。过去几十年来,已经开发出了许多故障分析技术,包括非破坏性和破坏性技术 [1-3]。一种非常流行的技术是器件分层,即从上到下控制地去除器件层。通过这种技术获得的信息可以支持质量控制、故障分析工作、成品和工艺改进数据以及逆向工程。
electrochem.org › Semiconductor_cle... PDF 2018 年 7 月 9 日 — 2018 年 7 月 9 日,清洁效率取决于多个因素,并且...在喷气式飞机客舱中分解臭氧,”国际贵金属研究所。410 页
应加快塑料封装 IC 进入军事系统,但不应盲目推广。测试数据显示,在大多数情况下,塑料封装 IC 与陶瓷 IC 一样可靠。然而,人们对于长期储存寿命和极端温度和湿度环境的担忧是合理的。不同供应商的塑料封装微电路 (PEM) 故障率差异很大。显然,它们可以很容易地用于许多非关键、相对无害的军事应用。在另一个极端,IC 必须在极端温度和湿度条件和周期下运行,或者在长期储存(长达 20 年)后保证运行非常重要(导弹和其他武器),军事供应商不愿意放弃经过验证的陶瓷封装可靠性。
芯片之间的数据通信超过了硅从硅的先前芯片架构的性能,并在不到以前的制造步骤中提高能源效率,从而降低了成本。雄心勃勃:根据以前的工业标准,可以在行业的开创性绩效中进行大规模生产。公司的技术和硬件促进了光学芯片到芯片连接,使各种芯片能够像单个芯片一样相互作用。通过克服硅芯片体系结构的当前限制,这项新技术在各个领域(例如更有效的数据中心,生成性和嵌入式AI和自动驾驶)开设了变革性应用程序。
人工智能将影响我们生活的各个方面。它在半导体制造中也发挥着越来越重要的作用。今年 5 月,在比利时安特卫普举行的由 imec 主办的 ITF World 大会上,NVIDIA 总裁、首席执行官兼董事会成员黄仁勋介绍了 NVIDIA 如何与台积电、ASML、应用材料 (AMAT)、D2S、IMS Nano Fabri- cation 和新思科技等公司合作,将人工智能引入芯片制造。黄仁勋表示:“第一波人工智能专注于计算机视觉和语音识别,已经实现了超越人类的能力,并在机器人、自动驾驶汽车和制造业开辟了数万亿美元的商机。先进的芯片制造需要一千多个步骤,要生产出生物分子大小的特征。要制造具有数千万亿个特征的芯片,每个步骤都必须近乎完美才能产生任何输出。每个阶段都会执行复杂的计算科学,以计算要图案化的特征并进行缺陷检测以进行在线工艺控制。芯片制造是 NVIDIA 加速计算和 AI 的理想应用。”黄仁勋表示,D2S 和 IMS Nano Fabrication 使用电子束构建掩模写入器,以在掩模上创建光刻胶图案。“Nvidia GPU 进行图案渲染和掩模工艺校正,”他说。台积电和 KLA 使用 EUV 和 DUV 照明进行掩模检查。“NVIDIA GPU 处理经典物理建模,
PWCR23000049 致瑞昱半导体股份有限公司董事会及股东 前言 我们已审阅瑞昱半导体股份有限公司及其子公司截至2023年3月31日及2022年3月31日的合并资产负债表、截至该日止三个月的合并损益表、股东权益变动表及现金流量表以及合并财务报表附注,包括重要会计政策摘要。 本公司管理层有责任按照金融监督管理委员会核准生效的《证券发行人财务报告编制准则》及国际会计准则第34号《中期财务报告》的规定,编制并公允列报此等合并财务报表。 我们的责任是在审阅基础上对这些合并财务报表发表结论。审阅范围 除下段所述外,本会乃根据中华民国《审阅业务准则第2410号——企业独立核数师审阅财务资料》进行审阅。审阅合并财务报表包括询问(主要询问财务及会计事宜负责人)及应用分析及其他审阅程序。审阅范围远小于审计,因此本会无法保证知悉审计中可能发现的所有重大事项。因此,本会不发表审计意见。 保留结论之依据 如附注4(3)及6(7)所述,若干不重大合并子公司、按权益法核算的投资之合并财务报表及附注13所披露之资料仅以该等子公司及被投资公司编制之报告为准,而该等报告并未经独立核数师审阅。该等子公司总资产分别为新台币 6,258,112 仟元及新台币 5,860,231 仟元,占本公司 102 年度及 102 年度合并总资产的 5.82%及 5.40%,总负债分别为新台币 846,101 仟元及新台币 996,120 仟元,占本公司合并总负债的 1.42%及 1.61%。
