摘要——如今,惯性测量单元已广泛应用于多种应用,例如汽车和自动驾驶汽车、无人驾驶飞行器、手机、机器人、人工智能等。尽管如此,最近的文献并没有正确涵盖微电子设备在真实环境条件下运行时的动态计量性能表征和可靠性分析。为了填补这一空白,本文提出了在振动条件下表征惯性测量单元的方法,即通过步进测试振动曲线来测试在不同频率下受到正弦振动的惯性平台的行为。从广为人知的正弦扫描振动曲线开始,制定了一个定制的测试计划,该计划基于正弦刺激随时间的频率递增,以研究惯性平台的频率响应。对一组真实设备的应用证实,所提出的测试可以识别机械应力对频域内微机电传感器计量性能的影响。所开发的测试计划还可用于调查特定频率的正弦振动是否会触发一些通常静止的故障机制。关键词 - 诊断;惯性测量单元;MEMS;测试;振动。
EUV 光刻胶材料对于实现下一代光刻技术至关重要,该技术旨在实现 5 nm 以下节点的大批量制造 (HVM)。在本研究中,我们报告了 EUV 光刻胶的广泛性能表征,用于未来的高 NA EUV 光刻。我们在 Paul Scherrer 研究所和 ASML 合作的框架内,使用瑞士光源 (SLS) 的 EUV 干涉光刻工具研究了各种光刻胶的性能。本文介绍了 2022 年下半年开展的工作的主要成果。本研究考虑的重要性能特征是分辨率或半节距 (HP)、剂量与尺寸比 (DtS) 和线宽粗糙度 (LWR)。为了评估光刻胶的整体性能,我们使用了 Z 因子。我们研究了化学放大光刻胶 (CAR) 和非 CAR 材料。两家供应商的 CAR 实现了低至 11 nm 半节距的分辨率,而多触发光刻胶 (MTR) 达到了 13 nm 的分辨率。相比之下,MTR 由于其高灵敏度而表现出更好的 Z 因子值。此外,我们研究了底层对金属有机光刻胶 (MOR) 性能的影响。最后,我们讨论了近年来光刻胶性能的总体进展。我们观察到多个光刻胶平台的稳步改进,这对全球 EUV 光刻胶向高 NA EUVL 的发展是令人鼓舞的。
粘合接头在组装承重结构的结构可靠性和耐久性中起着重要作用。这项研究的灵感来自风力涡轮机叶片的应用,风力涡轮机叶片由复合材料制成,并通过粘合剂连接在一起。与传统的粘合接头指导原则相反,风力涡轮机叶片接头厚度较大,约为 10 毫米。出现空隙和孔隙的概率很高。尽管如此,机器的经济寿命为 20 年,疲劳可能是一个关键现象。这项研究侧重于自下而上的粘合剂性能表征及其在复合材料接头中逐层验证。它从本体粘合剂的表征开始,直至粘合接头样品和子部件。本文重点关注粘合剂材料本身和接头的水平。经过大量的实验,特别关注粘合剂的孔隙率,开发了一种概率方法来确定最合适的失效准则。强度预测方法不仅考虑应力分布的大小,还考虑应力作用的体积,从而考虑材料强度的统计尺寸效应。该方法随后用于简单接头中接头强度的数值预测以及受风力涡轮机叶片启发的应用中。接头的预测阻力与实验接头测试非常一致。
致谢 iv 概要 v 目录 viii 表格列表 xi 图表列表 xiii 名词术语 xvi 引言 1 2. 文献综述 5 2.1 抗疲劳设计 5 2.2 应变控制疲劳试验程序 7 2.2.1 历史和理论 7 2.2.2 带钢的应变控制疲劳 14 2.3 制造变量对疲劳性能的影响 15 2.3.1 成分 15 2.3.2 取样位置 17 2.3.3 带钢厚度 17 2.3.4 疲劳性能的各向异性 18 2.3.5 总结及在实验项目中的应用 18 2.4 一般材料性能与疲劳性能之间的关系疲劳性能 19 2.4.1 硬度和抗拉强度性能之间的关系。 19 2.4.2 循环应力-应变性能与抗拉强度性能和硬度之间的关系 20 2.4.3 循环应变-寿命性能与单调抗拉性能和硬度之间的关系 24 2.4.4 微观结构的影响 39 2.5 结论 39 3. 实验设计、材料、技术和结果 41 3.1 实验设计 41 3.1.1 多种钢材的疲劳性能表征 41 3.1.2 制造变量对疲劳响应的影响 42 3.1.3 钢材性能对疲劳响应的影响 45 3.2 材料; 45 3.2.1 钢材的来源和取样 45 3.2.2 钢材的描述 46 3.3 疲劳试验 49 3.3.1 方法 49 3.3.2 结果 53 3.3 微观结构和硬度 55 3.4.1 方法 55 3.4.2
单细胞转录组学实验提供了跨细胞态杂基细胞群体的基因表达快照。这些快照已被用于推断轨迹和动态信息,即使没有基因表达相似性订购细胞的密集,时间序列数据。然而,尽管单细胞快照有时提供了对动态过程的有价值的见解,但当前的订购细胞的方法受到缺乏内在物理含义的“假频率”的描述性概念的限制。而不是伪赛,我们通过原则建模方法提出了“过程时间”的推断,以制定轨迹和推断对应于经受生物物理过程的细胞对应的潜在变量。我们对这种方法的实施称为Chronocell,提供了建立在细胞状态过渡的轨迹的生物物理表述。计时模型是可识别的,使参数推断有意义。更重要的是,当细胞状态位于连续体上并聚类时,当细胞聚集到离散状态时,计时核可以在轨迹推理之间插值。通过使用从类似群集到连续的各种数据集,我们表明计时赛使我们能够评估数据集的适用性,并在过程时间内揭示了与生物过程时间一致的过程。我们还将降解速率的参数估计值与来自代谢标记数据集的参数估计值进行了比较,从而展示了计时性的生物物理实用性。然而,基于模拟的性能表征,我们发现过程时间推断可能具有挑战性,突出了数据集质量的重要性和仔细的模型评估。
本书献给 A. L. Wilson (1929–1985)。Antony Leslie (Tony) Wilson 于 1929 年出生于布莱顿,就读于 Vardean 文法学校和伦敦国王学院,并获得了化学荣誉学位。他在原子能研究机构、Salwick 和中央电力研究实验室、Leatherhead 工作了 18 年,之后于 1968 年加入 Medmenham 的水研究协会(后来成为水研究中心的一个组成实验室)。他一直在该中心工作,直到 1980 年退休,担任分析和仪器部门经理。他作为一名分析化学家的声誉源于他非凡的工作能力和非凡的智慧,他不仅开发了广泛的方法,还研究了分析质量控制的基本原理。他在后者方面的工作尤其具有开创性,其重要性已得到广泛认可。他对分析性能的规范和评估以及分析误差的控制方法构成了英国发电和水工业标准实践的基础。多年来,前环境部在其协调监测计划中,以及世界卫生组织在其全球环境分析师常设委员会中,已将他对性能表征的想法纳入其已发布的方法中。1975 年,他因在《Talanta》杂志上发表的年度最佳论文而荣获路易斯·戈登纪念奖(这是他以连贯的方式汇集了在表征分析方法性能时需要考虑的重要因素的系列论文之一)。这本涉及水质各个方面的书应该献给这样一位杰出而敬业的人,这被认为是非常合适的。
euv抗材料在启用高量制造(HVM)的高级光刻技术方面起着至关重要的作用,该技术针对低于5 nm的节点。在这项研究中,我们报告了对未来高NA EUV光刻术的可用EUV光孔师的广泛性能表征。,我们使用Paul Scherrer Institute和ASML合作的框架内使用EUV干扰光源工具(SLS)在瑞士光源(SLS)上调查了各种抵抗的性能。本文强调了我们在2023年观察到的主要改进,并提出了最佳性能的6种不同供应商的半票(HP)14及以下。本研究中考虑的重要性能特征是分辨率或HP,剂量到大小(DTS)和线宽度粗糙度(LWR)。为了评估抵抗的整体绩效,我们使用了z因子。我们研究了化学放大的抵抗(CAR)和非车材料。来自两个供应商的汽车达到了一个低至11 nm的分辨率,而多触发器抵抗(MTR)达到了13 nm的分辨率。新的金属有机抗(MOR)的分辨率低至11 nm。MTR和一辆汽车材料达到了迄今为止最低的Z因子。此外,我们研究了卧式对MOR性能的影响,并将新MOR的性能与前身进行了比较。,我们最终讨论了近年来抵抗性能的总体进展。我们观察到了几个抗性平台的稳定改善,这对于全球EUV抗性向高NA EUVL的发展令人鼓舞。
模式识别算法通常用于简化亚原子物理实验中轨道重建的挑战性和必要步骤。在歧视相关相互作用的帮助下,模式识别旨在通过隔离感兴趣的信号来加速轨道重建。在高碰撞率实验中,这种算法对于确定是否保留或从给定相互作用中保留或丢弃信息至关重要,甚至在数据传输到磁带之前。随着数据速率,检测器的解决,噪声和效率低下的增加,模式识别在计算上变得更具挑战性,激发了更高效率算法和技术的发展。量子关联记忆是一种方法,旨在利用量子机械现象以获得学习能力的优势,或者可以存储和准确召回的模式数量。在这里,我们研究基于量子退火的量子关联记忆,并将其应用于粒子轨道分类。我们专注于基于量子关联记忆模型(QAMM)召回和量子内容 - 可调地理内存(QCAM)召回的歧视模型。我们使用D-Wave 2000Q处理器作为测试台将这些方法的分类性能表征为函数检测器分辨率,模式库的大小和效率低下。使用溶液状态能量和分类标签嵌入了溶液状态中的歧视标准。我们发现,基于能量的QAMM分类在较小的模式密度和低探测器效率低下的状态下表现良好。相比之下,基于州的QCAM可实现相当高的准确性回忆,以实现大模式密度和对各种检测器噪声源的最大回忆精度的鲁棒性。
摘要可持续的能源过渡刺激了最大程度地减少材料和能源浪费的技术的开发,例如增材制造(AM)。激光金属沉积(LMD)是一种有希望的AM技术,但其复杂性和有限的自动化阻碍了其在生产链中的实现。为提高生产率,已经开发了高沉积率LMD(HDR-LMD)技术,需要先进的设备和强大的激光来源。相比之下,常规的LMD(C-LMD)过程更简单,实施便宜。这项研究旨在通过调节激光功率,扫描速度,粉末进料速率和Inconel 718单轨道上的秒距离来优化C-LMD的生产率和效率。一种创新的方法消除了切割标本以评估单个轨道的必要性,从而可以通过有限的操作员参与,使整体的几何形状和性能表征更快,更强大。进行了广泛的实验运动,以研究过程参数对轨道几何,生产力和效率的影响。多目标优化过程确定了参数组合,同时保持高效率和理想的外壳形状。该研究达到的沉积率范围从700至800 g/h,粉末集水效率在75%至90%之间。使用包括1775 W激光功率的参数,扫描速度在960到1140 mm/min,粉末进料速率在810至1080 g/h之间以及9 mm的秒距离。该研究还清楚地表明,可以进一步提高C-LMD过程性能。本文收集的发现是工作第二部分中进一步优化的基础,该研究的重点是多通邮政多层,并达到1500 g/h的沉积速率,从而促进了工业级别的C-LMD过程。