UV-KUB 3 是基于掩模对准系统的 UV-LED,可用光源为 365nm。这是一款非常紧凑的台式系统,可兼容 4 英寸晶圆或 6 英寸晶圆(具体取决于版本)。由于特定的光学布置提供了最大发散角小于 2° 的准直光束,因此可实现的最小特征尺寸为 1µm。UV-KUB 3 系统兼容硬(物理)或软(接近)掩模接触模式,并提供低至 1µm 的对准分辨率。该掩模对准系统支持所有标准光刻胶,例如 AZ、Shipley、SU-8 和 K-CL。
Materials • Substrate: 200mm Silicon • Adhesion Promoter: AP9000C • Dielectric: CYCLOTENE TM 6505 Dielectric (positive tone) Bonding Evaluation 1) Priming with AP9000C: 200mm Wafer Track • 2000rpm spin coat, 150˚C/60sec 2) Spin Coat: 200 mm Wafer Track • 1250 rpm/45 sec targeting 5.5 um after development • 90˚C/90秒3)曝光工具:掩模对准器•ABCD面膜平方柱(1-300 UM功能)•20 UM接近差距4)曝光后延迟延迟:〜15分钟5)开发:200mm Wafer Track