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World File Search System洁净室
过滤风扇机组系统洁净室产品
CWIC® 系统是一种多功能系统：单个过滤风扇单元（CWIC® 模块）可以连接起来形成不同尺寸的洁净室天花板，例如用于机器外壳、洁净工作台或洁净工作舱。模块化设计可以快速且低成本地构建洁净室，可以将其悬挂在天花板上或通过底座支撑在地板上。根据附加组件的负载，可以实现 4.800 毫米的范围，而无需支撑底座或悬挂装置。
洁净室天花板系列 80S 2 型钢格栅天花板
金属天花板面板表面涂层，置于悬挂式钢格栅上，按照欧洲标准和 TAIM 标准生产。天花板系统 Line 80S Type 2 具有高气密性，易于清洁和消毒。设计符合 GMP 和 DIN EN ISO 14644 标准。表面平整、齐平，适合齐平安装，不含任何排气或颗粒发射材料。天花板接缝可选用适合洁净室的密封剂密封。
数据表 洁净室天花板夹 K3 夹入式/下摆式盒式天花板
盒式天花板采用粉末涂层天花板盒，按照欧洲标准和 TAIM 标准制造。Clip K3 天花板系统的特点是密封性高，易于清洁和消毒。符合 GMP 和 DIN EN ISO 14644 的设计。表面光滑、均匀，允许齐平安装，不含排气或颗粒发射材料。天花板接缝的密封性通过适合洁净室的密封实现。
从洁净室到脏水：硅谷的劳工、半导体公司以及污染和工作场所危害之争
HAL 是一个多学科开放存取档案库，用于存放和传播科学研究文献，无论这些文献是否已出版。这些文献可能来自法国或国外的教学和研究机构，也可能来自公共或私人研究中心。
半导体和微电子 - Techmation B.V.
AMC - 空气分子污染描述了在洁净室和超洁净室中基于硅晶片的半导体器件整个生产领域的问题。洁净室和超洁净室是特殊制造工艺所必需的，在这些工艺中，普通环境空气中存在的颗粒或化学物质会在微米范围内干扰集成电路的图案化。因此，该术语描述了洁净室空气中的固体、液体或气体污染物，这些污染物对制造的工件具有不良的化学或物理影响。这特别包括在硅晶片上半导体器件的所谓前端制造中生产过程各个步骤中使用的所有化学品。
从洁净室到机床：第一代脑刻板的委托晶圆尺度神经形态系统
摘要BrainScales的第一代，也称为Brainscales-1，是一种用于模拟尖峰神经元网络的神经形态系统。按照“物理建模”原理，其VLSI电路旨在模拟生物学示例的动力学：模拟回路与其电子组件的内在特性产生的时间常数实现神经元和突触。与生物学状态相比，它连续运行，动力学通常匹配10 000。尽管不可避免的模拟可变性和组件故障，但容忍故障设计使其能够实现晶圆尺度的集成。在本文中，我们介绍了Brainscales-1晶圆模块的调试过程，提供了对系统物理组件的简短描述，说明了其组装过程中采取的步骤以及对其进行操作所采取的措施。此外，我们反思了系统的开发过程以及所学到的经验教训，通过模拟晶圆尺度同步释放链来证明其功能，这是迄今为止最大的尖峰网络仿真，迄今为止，最大的尖峰网络模仿和单个突触。
John J. DuCongé - 建筑学院
描述：马库斯纳米技术研究中心可开展超洁净研究和教学活动，范围从微电子和半导体到纳米技术。光线充足的中央走廊将 30,000 平方英尺的洁净室区与办公室、会议空间和支持实验室的侧翼连接起来。该建筑包括一个三层开放式（“宴会厅”）洁净室区，其中有宽敞的灵活空间，可用于 10、100 和 1000 级研究。洁净室侧翼的肋状预制混凝土板由穿孔铜幕墙遮挡，实验室侧翼的金属遮阳板旨在减轻直接的太阳照射。角色：项目经理 – 从施工到搬入
ISO 14644 修订摘要
定义 为简化 ISO 14644-1:2015，以下对修订相关章节进行了总结。 ISO 14644-1:2015 洁净室和相关环境 第 1 部分 按粒子浓度对空气洁净度进行分类 本节以空气体积浓度表示的粒子数量规定了世界洁净室和受控环境的空气洁净度等级。要确定等级，需要采用指定的测试方法，包括选择取样位置。 ISO 14644-1 简介 ISO 14644-1 是一系列文件的第一章，这些文件描述了洁净室设计、操作和控制中要采用的方法、程序和限值。该标准用于微电子、制药、航空航天、医疗器械、医疗保健和食品生产等不同行业。它以空气体积浓度表示的粒子数量规定了世界洁净室和受控环境的空气洁净度等级。要确定等级，需要采用指定的测试方法，包括对采样位置进行战略性选择。 ISO 14644-1 范围 本国际标准的范围是提供用于洁净室认证的空气悬浮颗粒浓度方面的指南、规范和规则。 ISO 14644-1 涉及所有分类考虑因素，这些因素具有基于阈值（下限）尺寸的累积分布，范围从 0.1 µm 到 5 µm。 较低的颗粒尺寸浓度限值（纳米颗粒）在 ISO 14644-12 中讨论。