摘要:在生物材料的背景下,工程细菌的生物打印对于合成生物学的应用引起了极大的兴趣,但是到目前为止,只有少数可行的方法可用于打印托管活的Escherichia大肠菌细菌的凝胶。在这里,我们基于廉价的藻酸盐/琼脂糖墨水混合物开发了一种温和的基于挤出的生物打印方法,该方法将大肠杆菌打印到高达10毫米的三维水凝胶结构中。我们首先表征了凝胶墨水的流变特性,然后研究印刷结构内细菌的生长。我们表明,通过添加过氧化钙的产生系统,可以促进印刷结构内深处的荧光蛋白的成熟。然后,我们利用生物生产物来控制依赖于其空间位置的细菌之间不同类型的相互作用。我们接下来显示了基于群体感应的化学交流,在生物打印结构内部位于不同位置的工程发件人和接收器细菌之间,并最终证明了通过非损伤细菌定义的屏障结构的制造,可以指导凝胶内趋化细菌的运动。我们预计,3D生物打印和合成生物学方法的结合将导致含有工程细菌作为动态功能单元的生物材料的发展。关键词:合成生物学,细菌,生物材料,生物打印,细菌交流,趋化性
摘要:我们证明,尽管性质不同,但许多能量束控制深度加工工艺(例如水射流、脉冲激光、聚焦离子束)都可以使用相同的数学框架建模——偏微分演化方程,只需进行简单的校准即可捕捉每个工艺的物理特性。逆问题可以通过伴随问题的数值解有效地解决,并导致产生具有最小误差的规定三维特征的光束路径。通过使用三种在非常不同的长度尺度上操作且具有不同材料去除物理原理的工艺(水射流、脉冲激光和聚焦离子束加工)生成精确的自由曲面,证明了这种建模方法的可行性。我们的方法可用于探索各种时间相关过程的逆问题,从而实现生成具有定制属性的精确表面的阶跃变化。
电喷雾离子束中发射物质的角度分布尚未得到很好的表征,并且会对推进性能和发射器寿命产生负面影响。我们使用飞行时间质谱法对单个电喷雾离子束中发射物质的角度分布与发射电压的关系进行了实验表征。角电流分布表明发射中心轴与发射器尖端中心轴的最大偏差为 10 ◦。离子物质随角度的变化取决于发射电压。单粒子轨迹的模拟表明,离子团簇的碎裂会导致离子产物移近光束中心,而中性产物扩散至 47 ◦,具体取决于碎裂发生的速度。将实验结果与电喷雾发射的多尺度全光束模拟进行了比较,并讨论了未来使用这些模拟来解释角光束行为。
电喷雾离子束中发射物质的角度分布尚未得到很好的表征,并且会对推进性能和发射器寿命产生负面影响。我们使用飞行时间质谱法对单个电喷雾离子束中发射物质的角度分布与发射电压的关系进行了实验表征。角电流分布表明发射中心轴与发射器尖端中心轴的最大偏差为 10 ◦。离子物质随角度的变化取决于发射电压。单粒子轨迹的模拟表明,离子团簇的碎裂会导致离子产物移近光束中心,而中性产物扩散至 47 ◦,具体取决于碎裂发生的速度。将实验结果与电喷雾发射的多尺度全光束模拟进行了比较,并讨论了未来使用这些模拟来解释角光束行为。
摘要讨论了激光谐振电离技术在放射性离子束设备上产生的单个带电离子的生产中的应用。结合高效率和元素的选择性的abily是使谐振离子激光离子源(RILIS)成为许多放射性离子束设备的重要组成部分。在CERN,RILIS是Isolde设施中最常用的离子源,每年运营时间为3000小时。对于某些同位素,RILI也可以用作快速有意义的激光光谱工具,前提是光谱分辨率足够高以揭示核结构对原子光谱的影响。这可以研究具有生产率甚至低于每秒1个离子的同位素的核性质,在某些情况下,可以实现异构体选择性离子ization。总结了可用于在放射性离子束设备上实施共振激光离子的解决方案。涵盖了激光要求,离子源条件,选择性,效率和应用等方面。 还将描述在CERN ISOLDE设施实施的用于激光光束运输和控制,可靠性和易于操作的实际解决方案。涵盖了激光要求,离子源条件,选择性,效率和应用等方面。还将描述在CERN ISOLDE设施实施的用于激光光束运输和控制,可靠性和易于操作的实际解决方案。
重离子束育种基因组编辑育种大规模筛选菌株的选择,适用于低环境影响培养土地培养物,从单细胞到大藻类选择高蛋白和维生素含量的选择,通过细胞融合
Elaine Petro 教授 康奈尔大学 分子离子束和束表面相互作用的多尺度建模 电喷雾离子源是卫星推进、生化分析和各种表面处理行业领域的使能技术。这些应用推动了对扩展离子束的物理和粒子碰撞的化学的更深入了解。电喷雾离子羽流对最先进的等离子体建模技术提出了挑战,因为关键过程发生的长度和时间尺度范围很广(即纳米级发射点和厘米级操作体积)。伴随着这些空间梯度的是离子和中性群体中的大密度和速度梯度。此外,电喷雾羽流是具有非麦克斯韦分布的非中性等离子体。我们介绍了最先进的分子离子羽流动力学和化学数值模型,这些模型对于探索设计变量、了解操作条件和提高性能必不可少。除了卫星推进中的应用外,我们还将讨论在其他相关领域利用这些离子源的机会。
评估了使用脉冲 keV 离子束在透射几何中对薄膜和准二维系统进行灵敏的多元素分析的飞行时间反冲检测的潜力。虽然飞行时间方法允许同时检测多种元素,而最大程度上不受反冲电荷状态的影响,但 keV 射弹能量可保证高反冲截面,从而在低剂量下获得高灵敏度。我们展示了该方法的能力,使用 22 Ne 和 40 Ar 作为射弹,穿过具有可选 LiF 涂层和单晶硅膜的薄碳箔,以用于不同的样品制备程序和晶体取向。使用大型位置灵敏探测器(0.13 sr),深度分辨率低于 6 nm,灵敏度低于 10 14
第1周:简介,计量,报告准备1周:超声加工第3周:超声加工第4周:水上飞机加工,磨料喷气机加工第5周:磨料喷射加工,磨料水加工,冰射流加工,第6周,第6周:粉末沉积技术,磁性磨料技术,磁性磨蚀性培训2:磁性磨蚀性培训,磁性疗程,测试,大量验证,大量验证,大量验证,大量摩擦式液体,易流动,流动液体,流动,流动液体,中期考试,电气递减加工第9周:电气递减加工第10周:电递减机加工,激光束机加工第11周:激光束加工,电子束机加工第12周:等离子束机加工,离子束加工,化学铣削,第13周:13
聚焦离子束 (FIB) 装置是一项关键技术,在纳米技术领域已得到广泛应用,可用于局部表面改性、掺杂、原型设计以及离子束分析。这种 FIB 系统的主要组成部分是离子源及其可用的离子种类 1 。目前,大多数仪器都采用 Ga 液态金属离子源 (Ga-LMIS),但对其他离子种类的需求仍在增加 2 。一种非常受关注的元素是硼,它是元素周期表中最轻的元素之一,在微电子学中已得到广泛应用,可通过注入或扩散在硅中进行 p 型掺杂 3 。人们长期以来一直对硼在 LMAIS 中的应用感兴趣,并为此付出了很多努力,通过 FIB 对材料进行局部改性,从而避免 B 宽束注入和光刻步骤。硼有两种稳定同位素,质量为 10 u(19.9% 天然