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World File Search System超高真空
科学研究中的超高真空 - 产品
UNL 研究的核心领域之一是使用飞秒激光对材料进行表面结构化。本质上，这会产生明确的纳米结构，使表面具有一些非常有趣的特性，包括超疏水性、极高的发射率、防结冰特性和降低阻力。一旦理解了这些方面，将对功能表面和界面领域产生深远影响。UNL 与 Leybold 合作开发了一种高度专业化的 UHV 处理和表面分析工具，该工具基于 Leybold 的模块化 UHV 平台产品线。
在超高真空下，使用多环芳烃在Cu上（111）上的石墨烯生长
多环芳烃芳烃和pyr烯和吡啶的超高真空沉积在cu（111）表面上保持在1000 K的温度下，从而显示出导致石墨烯的形成。使用扫描隧道显微镜，X射线光电子光谱，角度分辨光发射光谱，拉曼光谱和低能电子衍射证明了石墨烯的存在。与更常用的甲烷或乙烯（例如甲烷或乙烯）相比，前体，倍吡林和吡啶是相对较大的芳香族分子。虽然当将pyrene用作前体时，可以天真地期待六边形石墨烯晶格的形成，但对于倍吡林来说，情况更为复杂。在这种情况下，只有5个和7元环的非替代叠层的非替代拓扑形成观察到的六边形石墨烯晶格。这样的重排，将非替代拓扑转化为替代拓扑，与先前描述类似拓扑改变的报道一致，包括分子倍吡林与pyrene的异构化。在此提出的热合成途径在相对较低的温度和超高真空条件下可以实现，这可以在严格控制和清洁的环境中进一步研究，而传统前体无法访问。
超高真空CF法兰接头在…的应用分析
分析类型 – 有限元分析 (FEA) 初始条件： - 软和硬（1/4 硬铜）垫片 - 法兰材料 – 不锈钢 (304L) - 垫片和法兰可变形 - 初始温度 24 ° C
稳定的高功率深伏脉增强腔，用氟化物涂料在超高真空中
我们证明了在高功率深度硫化物增强腔的长期真空操作中，氟化物涂层与氧化物涂层镜的出色性能。在高真空度（10 - 8 MBAR）中，液化光学器件可以在一个小时的时间尺度上保持高达稳定的腔内功率的10 W创纪录的10 W，而对于氧化物光学元件，我们观察到在较低的室内功率下的快速降解，速度会随着功率而增加。观察到高真空中的降解后，我们可以用氧气回收氟化物和氧化物光学物质。但是，经过多次应用程序，这种恢复过程变得无效。对于氟化物涂层，我们看到氧气中的初始紫外线条件有助于改善光学元件的性能。在富含10-4 MBAR到1 MBAR的氧气环境中，氟化物光学器件可以在几个小时的时间尺度上稳定地保持高达20 W的腔内功率，而对于氧化物光学元件，氧化物的速度可以立即降解，速率随降低氧气压力而增加。
Gemini™ MxG5xx ATM 至超高真空计 - INFICON
INFICON Gemini™ 倒置磁控管真空计是所有真空测量应用的主力。Gemini MPG50x 将两个传感器系统组合在一个小型设备中，可测量从大气压到 1x10– 9 mbar 的压力，而 Gemini MAG50x 是纯冷阴极传感器系统（无皮拉尼元件），可测量从 1x10-2 mbar 到 1x10– 9 mbar 的压力。获得专利的超低磁杂散场设计开辟了全新的应用范围。独特的可互换双腔传感器单元可避免清洁周期并减少维护，使 Gemini 成为同类产品中最坚固、最经济的真空计。