- 解释电信号和电子系统的概念。 - 识别电子设备的一般特性。 - 分析和设计带有二极管的简单电路。 - 分析和设计具有 BJT 和 MOSFET 晶体管的简单电路。 - 分析和设计带有运算放大器和比较器的简单电路。 - 使用低复杂度的模拟集成电路。
II。 课程描述:本课程介绍了原子结构,能带,半导体类型的基本原理和概念,以及如何形成递延类型的电子设备。 第一个要引入的电子设备是二极管,这是最简单的半导体设备,但在电子系统(例如电压整流器,夹具,夹具,夹具,电压乘数电路等)中起着非常重要的作用。 此外,我们将详细研究从结构,操作,参数和特征开始的两种主要类型的晶体管(BJT和FET),II。课程描述:本课程介绍了原子结构,能带,半导体类型的基本原理和概念,以及如何形成递延类型的电子设备。第一个要引入的电子设备是二极管,这是最简单的半导体设备,但在电子系统(例如电压整流器,夹具,夹具,夹具,电压乘数电路等)中起着非常重要的作用。此外,我们将详细研究从结构,操作,参数和特征开始的两种主要类型的晶体管(BJT和FET),
Module I: P & N Type Semiconductors, Diodes and Power Supplies, Theory of P-N Junction Diode, Junction Capacitance, Halfwave & Fullwave, Rectifiers, Filters, Ripple-Factor, Characteristics & Applications of Following Diodes, Zener as Regulators, Schottkey, Photodiode, LED, LCD, Varactor Diode &Tunnel Diode.模块II:连接晶体管操作理论,静态特性,分解电压,当前电压限制,BJT的偏置不同的偏置布置,稳定性因子,热失控,功率晶体管。模块III:BJT CE,CB,CC放大器的小信号分析和高频分析以及频率响应,增益带宽产品的高频分析计算。功率放大器分类A,B,AB,C类,效率,推拉配置,免费对称性,第二次谐波和交叉扭曲。模块IV:正反馈放大器分类,实际电路,应用,优势。振荡器稳定性,Barkhausen标准,RC,LC和晶体振荡器。模块V:现场效应晶体管和MOSFET,操作和特征原理。
在 BJT 中,TID 对氧化物电介质的损坏会导致:• 基极电流过大(通过与陷阱的复合增强和 β 退化)• 由于发射极面积增加(通过 N ot 的表面反转)导致 npn 器件中的集电极电流增加• 由于 CB 结中的载流子生成增加(通过陷阱),导致从集电极到基极 (CB) 的反向漏电流增加
低频噪声测量值(LFNM)的仪器是一种用于特征广泛的设备的工具[1]。它应用于许多技术,例如。g。,半导体[2,3],微电体材料[4-10],电化学设备[11],光电探测器[12-18]以及其他材料[19-21]。在这项研究中,广泛使用了一些特殊的放大器(超低噪声放大器 - 尺度)。他们的性能也用于检测技术[22,23](作为传感器信号调节中的前置放大器)或其他低噪声仪器的表征[24-27]。但是,这种放大器的设计需要对其组件进行噪声分析,并选择被动和主动元素的配置。首先,应做出双极连接晶体管(BJT)和效应晶体管(FET)技术之间的选择。bjts的特征是较低的电压噪声和高基本电流引起的较高电流噪声[26]。在这种情况下,BJT输入电流噪声随着在活动区域中设置晶体管工作点并获得高增益所需的基本电流而增加(电流增益系数也取决于基本电流)。使用这项技术,可以获得放大器输入的较低阻抗。但是,这些放大器需要在AC
模拟器和Layout编辑器。研究由于VLSI技术的进步,研究各种问题。使用各种逻辑方法及其局限性研究数字电路。在VLSI技术的背景下突出电路设计问题。课程内容:I单元I实践考虑和VLSI设计介绍,集成电路的大小和复杂性,微电子领域的大小和复杂性,IC生产过程,处理步骤,包装和测试,MOS流程,NMOS流程,CMOS流程,CMOS流程,双极技术,双极技术,混合技术,设计规则和过程参数。单元II设备建模DC模型,小信号模型,MOS模型,高频和小信号的MOSFET模型,短通道设备,子阈值操作,MOSFET的噪声源建模,二极管模型,双极模型,被动组件模型。单元III电路模拟引入,使用SPICE,MOSFET模型,1级大信号模型,2级信号模型,高频模型,高频模型,MOSFET的噪声模型,大信号二极管电流,高频BJT模型,BJT噪声模型,BJT的温度依赖性。单元IV结构化的数字电路和系统随机逻辑和结构化逻辑形式,寄存器存储电路,准静态寄存器单元,敏锐的寄存器单元,微观编码控制器,微处理器设计,收缩期阵列,位序列处理元件,Algotronix。单元V CMOS处理技术基本CMOS技术,基本的N-Well CMOS过程,双浴缸工艺,CMOS ProcessEnhancement,互连和电路元素,布局设计规则,锁存规则,锁存,物理起源,锁存触发,锁存触发,预防预防,内部闩锁预防技术。
E 330。(3-3)学分 4。FS 先决条件:201,学分或选修 EE 230、Cpr E 210。集成电路的半导体技术。集成器件建模,包括二极管、BJT 和 MOSFET。物理布局。电路仿真。数字构建块和数字电路综合。模拟构建块的分析和设计。使用 CAD 工具和标准单元进行实验室练习和设计项目。
了解正反馈和负反馈系统所需的功能。 UNIT I PN 结器件 9 PN 结二极管 – 结构、操作和 VI 特性、扩散和过渡电容 - 削波和钳位电路 - 整流器 – 半波和全波整流器 – 显示设备 - LED、激光二极管、齐纳二极管特性 - 齐纳反向特性 – 齐纳作为稳压器 UNIT II 晶体管和晶闸管 9 BJT、JFET、MOSFET – 结构、操作、特性和偏置 UJT、晶闸管和 IGBT - 结构和特性。 UNIT III 放大器 9 BJT 小信号模型 – CE、CB、CC 放大器分析 – 增益和频率响应 – MOSFET 小信号模型 – CS 和源极跟随器分析 – 增益和频率响应单元 IV 多级放大器和差分放大器 9 BIMOS 级联放大器、差分放大器 – 共模和差模分析 – FET 输入级 – 单调谐放大器 – 增益和频率响应 – 中和方法、功率放大器 – 类型(定性分析)。单元 V 反馈放大器和振荡器 9 负反馈的优点 – 电压/电流、串联、并联反馈 – 正反馈 – 振荡条件、相移 – 维恩电桥、哈特利、考毕兹和晶体振荡器。