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复合涂层中还原石墨烯的取向 可持续材料和技术
通过修改Hu等人实现了GO（方案1）的功能化（方案1）。的方法。28 Hu等。的28协议可重复地交付了无法分散的材料。，我们通过保持修改后将其分散在整个工作中，从而调整了该过程，从而获得了NAL产品作为稳定的分散体。我们期望与APTES进行合法化，这将通过 - cooh和 - nh 2之间的反应发生，分别在GO和APTES中产生酰胺功能。ftir Spec- trum显示了一个新形成的频带，以1657 cm-1的形式在反应产物中（图1），支持以下观点：功能确实是通过形成酰胺片段而发生的。XPS进一步支持此观点，如下所述。此外，在GO中分配给官能团的FTIR频段的强度较低，效果化，很可能
掺杂选择性蚀刻 - 脱毛 - 薄薄的...
摘要 - 背面照明（BSI）3D堆叠的CMOS图像传感器对于包括光检测和范围（LIDAR）在内的各种应用中引起了重大兴趣。这些设备的3D集成中的重要挑战之一涉及单个光子雪崩二极管（SPAD）晶圆的良好控制的背面稀疏，后者堆叠着CMOS WAFERS。背面晶圆稀疏通常是通过硅的回培养和掺杂敏感的湿化学蚀刻的组合来完成的。在这项研究中，我们开发了一种基于量身定制的HF：HNO 3：CH 3 COOH（HNA）化学的湿蚀刻过程，能够在P+/P硅过渡层中实现蚀刻层，具有高掺杂级别的选择性（> 90：1）。在300毫米晶片中证明了〜300 nm的极佳总厚度变化的可行性。此外，还表征了包括染色和表面粗糙度在内的HNA蚀刻硅表面的众所周知的特性。最后，提出了一种湿的化学尖端方法来减少表面粗糙度。
功能化聚酐纳米粒子用于改善线粒体功能障碍的治疗
图 1 (a) 描述功能化聚酐合成的示意图。靶向配体 CPTP 首先被乙酰化，然后在标准聚合物合成条件下与共聚物（“P”）发生反应。(b) 通过快速纳米沉淀法合成 NP，形成具有 COOH（即非功能化）或 CPTP（即功能化）端基部分的 NP。Mito-Met 结构示意图，被 NP 封装以进行功效研究，并针对可溶性剂量进行测试。Mito-Met C10（n = 9）用于研究。 (d) 功能化纯化聚合物的 1 H 核磁共振光谱显示 CPTP 苯基 CH 峰（δ 7.70 – 8.00，多重峰）以及聚合物 CPH 苯基 CH 峰（δ 8.02，双峰；δ 8.12，双峰）；(e) 傅里叶变换红外光谱 - 功能化纯化聚合物的衰减全反射光谱显示 CPTP α -CH 2 弯曲峰（1450 cm 1）。对照包括仅 CPTP（未显示）和仅非功能化聚合物（显示）
使用期限降解刚果红，由...
目前，基于时期的晚期氧化过程由于其在去除水性培养基的某些持续污染物（染料，氯和氮和氮的有机化合物29-33）方面引起了很多关注。与传统的氧化剂（例如过氧化氢和硫酸盐）相比，Pe-ryodates具有热稳定性，对于存储和运输32。氧化的主要缺点是其高选择性。这降低了含有不同类别的有机量的废水处理的效率。时期主要用于氧化具有阴影基（–OH，–CHO，= CO或–COOH）的化合物，以醛或酮的结构34。激活时期以降低周期氧化的选择性。区分了以下周期激活方法：通过紫外线辐射（光解）35-37，光催化激活38、39，热激活40、41，在美国领域的激活（SON解析）42、43，Microwaves 44，由Microwaves 44，由Microwaves 44，由氢Perogy Perox-indience及其构造29–3-31，通过Transe-29-3-3-3-3-3-3-19-3-3-3-3-3-3-3-3-3-3-3-3-3-3-3-3-3-3-3-3-3-3-3-3 ，通过金属纳米颗粒48-50，碳基材料51，52。
金属离子吸附在...
CNC宽度测量是通过在Gwyddion软件中与高斯曲线拟合AFM高度轮廓（图S6（a））完成的，然后使用等式的峰值最大值（FWHM）的一半宽度使用公式𝐹𝑊𝐻𝑀=√2ln 2𝑏，其中B是Gwyddion的拟合参数参数输出。要校正AFM尖端扩展，AFM尖端半径和CNC高度可用于计算尖端曲率造成的额外宽度。使用庇护研究的FS-1500 AFM尖端，尖端半径为10 nm，通过AFM测量的MXG-CNC-COOH 1100的高度为2.4 nm。使用图S6（b）中说明的三角学，可以使用公式𝐿=√𝑟2 -𝑑2计算CNC一侧的一半高度的额外宽度为4.75 nm，其中r是尖端radius（10 nm）d是尖端半径半径半径为CNC高度（8.8 nm），是额外的宽度。从13 nm的测得的宽度中减去2𝐿导致校正后的MXG-CNC-COOH 1100宽度为3.5 nm。
芒果果皮提取物对钢的腐蚀抑制效率...
如今，研究人员有兴趣探索用自然来源衍生的绿色有机物质代替有害无机化学物质的可能性。 这项研究着重于使用当地芒果果皮的植物提取物来获取绿色腐蚀抑制剂对低碳钢的潜力。 使用溶剂提取技术提取了Harumanis芒果果皮剩余的剩余，并通过傅立叶变换Infra-Red（FTIR）和UV可见光谱法表征化学化合物。 分析表明，Harumanis Mango Peel（HMPE）的粗提取物包含用于腐蚀抑制特性的活性官能团，例如-OH，-OCOOH，-C = O和芳环结构。 也检测到了Mangiferin和其他黄酮醇的存在，可能是酸的五十五。 通过常规腐蚀试验研究了HMPE作为碳钢腐蚀抑制剂的效率。 在不同的温度下，在30、40、50和60°C的不同温度下进行，有或不加入50至350 ppm的HMPE抑制剂在1 m盐酸盐中，HCl。 结果表明，随着Harumanis芒果果皮的浓度增加，酸性培养基中低碳钢的腐蚀抑制效率会增加。 最大抑制效率为85％如今，研究人员有兴趣探索用自然来源衍生的绿色有机物质代替有害无机化学物质的可能性。这项研究着重于使用当地芒果果皮的植物提取物来获取绿色腐蚀抑制剂对低碳钢的潜力。使用溶剂提取技术提取了Harumanis芒果果皮剩余的剩余，并通过傅立叶变换Infra-Red（FTIR）和UV可见光谱法表征化学化合物。分析表明，Harumanis Mango Peel（HMPE）的粗提取物包含用于腐蚀抑制特性的活性官能团，例如-OH，-OCOOH，-C = O和芳环结构。也检测到了Mangiferin和其他黄酮醇的存在，可能是酸的五十五。通过常规腐蚀试验研究了HMPE作为碳钢腐蚀抑制剂的效率。在不同的温度下，在30、40、50和60°C的不同温度下进行，有或不加入50至350 ppm的HMPE抑制剂在1 m盐酸盐中，HCl。结果表明，随着Harumanis芒果果皮的浓度增加，酸性培养基中低碳钢的腐蚀抑制效率会增加。最大抑制效率为85％
智能农业和环境技术杂志
抽象莲花是湿地中的一种野生植物，尚未被广泛使用，但具有巨大的潜力作为堆肥茶。因此，这项研究旨在评估湿地中野生莲花制成的堆肥茶的含量，湿地尚未充分使用，但具有很大的潜力，可以作为堆肥茶。是通过测试堆肥浸入的几种方法和组成来进行的，即在曝气1：5，曝气1：10，非平息1：5和非平息1：10的A1，A2，A3和A4进行。结果表明，pH值增加到浸没的第8天，然后在第9和第10天减少，范围为8.0-8.44，在推荐范围内。此外，1：5的水比中的总溶解固体低于堆肥和水的1:10。营养素（C-有机，N-术和P可用），细菌种群，放线菌，真菌和腐殖酸浓度在1：5和1:10堆肥和水比的曝气处理中较高。此外，检测到堆肥茶中所有处理中的腐殖酸官能团，包括OH-苯酚，C = C，C = C，COOH，CH 3，中酰胺和三级酰胺，具有不同的波长。基于这些结果，可以得出结论，曝气处理为观察到的变量提供了更好的结果。关键字堆肥茶，湿酸，液体有机肥料，莲花，营养含量
Hache和Bace1抑制潜在的反阿尔茨海默氏症的潜在
According to Scheme 1 , compounds 2 – 5 were synthe- sized starting from 3-{4-[(benzylethylamino) methyl]- phenyl}-6-methoxychromen-2-one, and compounds 6 – 9 from 3-{4-[(benzylethylamino)methyl]phenyl}-7-meth- oxychromen-2-one, which were treated with 48% HBr to分别是羟基衍生物10和11。随后用2个氨基乙基兄弟的替代分别给出了中间体12和13。通过CF 3 COOH的保护组（BOC）释放了主要氨基函数（14和15）。通过与DCC激活（3,5-二氟苯基）的苯甲酸，3,5-二苯基纤维素酸反应形成最终膜衍生物（2-9），形成了3,4-二二氢氢氢羟基酸或3,4-二二氯环酸的过程，四二二二氯环酸，四二二二氯环酸，均一构成四个二二氯环酸，分别构成了均可构成的两种过程，分别构成了两次均可构成的均可构成的两种过程，分别构成了两种均可构成的二型均可分析。 （3,5-二氟苯基）乙酸，3,5-二氟肾上腺素，3,4-二二氟羟基羟基苯甲酸和3,4-二氯环酸（1.3 eporiv）在N 2 Cl 2下溶于Ch 2 Cl 2。然后，将DCC（1.4当量）添加到每个反应器中。氨基衍生物14（在第一个系列中）或15（在第二次系列中）（在第二个系列中）（1.0当量）在0 C下添加，并在室温下在n 2下2小时搅拌每种混合物。从每个溶液中填充DCU。通过灰烬色谱法对每种粗产物的纯化产生了轴向酰胺2 - 9（Tabel 1）。
HF蚀刻时间和浓度对硅晶片的影响
摘要：为实现更薄的微电子封装，生产所需厚度的新型半导体硅片不仅需要高成本和能源，而且还会造成环境污染问题。然而，这一问题可以通过使用一步化学蚀刻来生产所需厚度的硅芯片以进行适当的封装，从而简单地解决。在本研究中，使用各向同性的湿化学蚀刻法，通过改变HF蚀刻剂浓度来研究蚀刻时间对HF/HNO 3 /CH 3 COOH混合溶液中的Si晶片的影响。研究的蚀刻时间为5分钟至30分钟，HF蚀刻剂浓度在（20-24）wt％范围内。从结果可以看出，随着蚀刻时间的延长，重量损失和蚀刻深度的变化单调增加。然后根据重量损失和蚀刻深度随时间的变化来确定蚀刻速率。结果表明，Si晶片的蚀刻速率随时间降低，在较高的HF浓度下增大。在光学显微镜下观察到蚀刻后Si晶片的表面变得光滑抛光。 X 射线衍射图表明，蚀刻硅的晶体峰强度高于纯硅，随着 HF 浓度的增加，与 Si 相关的峰略微向 2θ 方向移动。目前的发现表明，化学蚀刻硅晶片的所需厚度可以潜在地装入微电子设备制造的更薄的封装中，从而减少能源和成本浪费，实现未来的可持续发展。
对称羧基中的来宾主持人互动
在这项工作中，在介孔TiO 2层（宿主）的敏化中研究了脱氧胆酸（DCA）作为coadsorbent的作用，其对称的羧基硫胺氰胺染料（来宾）。不同的方法，旨在减少H-聚集并最大程度地减少宿主活性位点的氰氨酸分子和DCA之间的竞争，从而改善太阳能电池的效率。含有羧基锚固组的亨氏丁胺的产量良好。氰烷在甲醇和二甲醇和二甲基甲酰胺溶液中的紫外线吸收归因于完全允许的电子跃迁（1ππ∗），以及NIR地区的荧光发射，在地面和激发状态下都有任何聚集的证据。TD-DFT计算，以研究这些化合物在其地面和激发电子状态中的几何和电荷分布。固态光体物理学表明，氰基在TIO 2上表现出极好的吸附，这可以通过结构中的-COOH部分的存在来证明。光物理测量结果表明，染料和DCA的最佳浓度，这导致了TiO 2表面上氰氨基H-聚集的有效抑制，此外还允许大染料负荷。通过循环伏安法鉴定染料的同性恋和Lumo能级，在染料敏化太阳能电池（DSSC）中，基于TIO 2介孔光阳极在染料敏化的太阳能电池（DSSC）中，在可接受的限制内显示氧化和还原电位。组装的DSSC已显示出电气参数和效率的大幅度改善。