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外语教学的盟友还是敌人？
摘要 如今，技术进步的兴起和人工智能 (AI) 在许多活动领域的广泛使用引发了教育领域的范式转变，而教育领域似乎面临着多重挑战，以适应高度数字化社会的新需求。在线教育已成为一场“大规模革命”（尼康，2023 年），为人工智能与语言学习的无缝融合提供了肥沃的土壤。外语培训师已经意识到这一转型过程的好处，并一直试图利用新的机会，将它们融入教育过程并根据学习者的实际需求进行调整。虽然人工智能因其改善学习成果的潜力而不断受到赞誉，但也有人反对使用它，称其负面影响远远超过其好处。本文旨在分析人工智能教学过程的优缺点，并强调其在外语方面的具体适用性。
使用
关键词：光束法区域网平差、自校准、系统校准、非度量相机 摘要 使用市售的非度量相机（例如佳能、尼康）进行摄影测量操作正变得非常流行。使用它们的原因有几个，例如有效载荷更轻、传感器成本低、尺寸更小，以适应有限的机载空间（例如无人机作为数据采集平台）、快速周转项目、易于更换等。与使用数字高分辨率度量图像传感器（Hexagon DMC、Microsoft Vexcel UltraCam 系统等）相比，所有这些属性都具有优势。然而，为了获得接近使用度量系统获得的结果，必须考虑上述非度量图像传感器的所有系统误差；对它们进行建模并消除（或尽量减少）它们对所获取图像的影响。本文回顾了与使用非度量图像传感器相关的功能和随机模型。将关注传感器内部校准参数，即校准焦距、主点、对称 - 非对称 - 切向镜头畸变模式和可能严重扭曲所获取图像的其他偏差。为此，使用焦距为 50 毫米的尼康 D810 数码相机在摄影测量测试场区域“Franklin Mills Mall”进行相机校准。该场地覆盖了多个飞行高度，分别产生 15 和 30 厘米 GSD 的图像。飞行了两个垂直摄影测量飞行带，具有高端搭接和侧搭接。测试场区域拥有大约 25 个目标控制和检查点，这些点的测量精度为 2 厘米或更高。使用 PIX4Dmapper（专为从无人机或地面获取的图像而创建的软件包）对上述图像进行自动空中三角测量。导出图像观测结果（ASCII），并使用汉诺威莱布尼茨大学程序系统 BLUH 进行相应的束流区域调整，该系统能够通过附加参数（十二个标准加上不同失真模式的中型非度量数字相机）进行自我校准。调查中使用了不同数量和分布的地面控制点 (GCP) 和检查点 (ChkPts)。本文介绍了结果。
立足过去，展望未来
一般成员 Frank E. Abboud，英特尔公司 Uwe FW Behringer，UBC Microelectronics Ingo Bork，西门子 EDA Tom Cecil，Synopsys 公司 Brian Cha，Entegris 韩国 Aki Fujimura，D2S 公司 Emily Gallagher，imec Jon Haines，美光科技公司 Koji Ichimura，大日本印刷株式会社 Bryan Kasprowicz，HOYA Romain J Lallement，IBM 研究 Khalid Makhamreh，应用材料公司 Kent Nakagawa，Toppan Photomasks 公司 Patrick Naulleau，EUV Tech 公司 Jan Hendrik Peters，bmbg consult Steven Renwick，尼康 Douglas J. Resnick，佳能纳米技术公司 Thomas Scheruebl，卡尔蔡司 SMT GmbH Ray Shi，KLA 公司 Thomas Struck，英飞凌科技股份公司 Anthony Vacca，自动视觉检测 Andy Wall，HOYA Michael Watt， Shin-Etsu MicroSi Inc. Larry Zurbrick，是德科技公司
Halotag®技术：水溶性配体
图3。使用JaneliaFluor®Halotag®配体的U2OS细胞的活细胞标记表达核Halotag®蛋白。父母U2OS细胞和U2OS细胞稳定地表达与三个核定位序列融合的halotag®蛋白被粘附在玻璃底室载玻片上，并用JaneliaFluor®503，JaneliaFluor®JFX554或Janelia fluor®JFX554或Janeliafluor®635collagang®ligand con Client + 30分钟在30分钟的clienteriafluor®503标记。孵化器。细胞培养基被苯酚红培养基取代。的细胞用488nm激光激发JaneliaFluor®503Halotag®配体（面板A），561nm激光激发JaneliaFluor®JFX554Halotag®Ligand（B）和637nm Laser raser contitation in Janeliafluor®JFX554Halotag®635®635Laseria®6355555。在表达halotag®细胞中，标记仅限于细胞核。父母细胞（无halotag）显示没有标记。使用尼康AX/AXR共聚焦显微镜收集图像，该显微镜具有计划荧光40倍油目标。
加尔各答生物科技园 2022 运营指南和手册
1. DNA 测序仪和分析仪（3500 基因分析仪）- Applied Bio systems，型号：622-0010 2. 实时聚合酶链式反应机 - Applied Bio systems，型号：Step 1+ 实时 PCR 系统 3. 固体 4 分析仪 - Applied Bio-systems 4. 梯度热循环仪 (PCR) - Bio-Rad，型号：C 1000 5. ELISA 板读数仪（i MARK 微孔板读数仪）- Bio-Rad 6. 凝胶文档系统 - Bio-Rad 7. 快速蛋白质液相色谱纯化 (FPLC) 系统 Akta 纯化器 - GE BOX 900 8. UV-VIS 分光光度计 – Shimadzu，型号：UV-2450 9. 三目倒置显微镜 – Nikon，型号：ELWD0.3/OD 75 10. 台式冷冻离心机 - Thermo Scientific 11. 落地式冷冻离心机 - Beckman coulter 12. 二氧化碳培养箱 - New Brunswick 13. 垂直 -85˚C 深度冷冻机 - New Brunswick 14. 离心机 - Eppendorf，型号：5810 R 15. 寡核苷酸合成仪 Polyplex - Dig lab，型号：PPX019 16. BOD 培养箱 - IKON Instruments 17. 冷冻机（垂直 -20°C）- Vestfrost 18. 冷冻机（垂直 4°C） 19. 卧式冷冻机（2 个） 20. 冷冻机（垂直） 21. 水浴
用于空间光通信的连续波单横模偏振...
随着空间数据流量的不断增加，空间光通信受到越来越多的关注，作为持续开发高速光学空间网络努力的一部分，尼康和JAXA一直在开发用于调制连续波信号的单横模10 W保偏Er/Yb共掺光纤（EYDF）放大器。我们已经完成了工程模型（EM）的开发，并计划在2024年作为国际空间站光通信系统的一部分演示该放大器。EM放大器具有三级反向泵浦结构，带有抗辐射的EYDF。它还包括泵浦激光二极管和功率监控光电二极管以避免寄生激光，这两者都已被证实具有足够的抗辐射能力，以及控制驱动电路。整体尺寸为300毫米×380毫米×76毫米，重6.3公斤。在标准温度和压力条件（STP：室温，1 个大气压）下，当信号输入为 -3 dBm 时，EM 放大器在总泵浦功率为 34 W 时实现了 10 W 的光输出功率。总电插效率达到 10.1%。在 STP 下，放大器在 10 W 下实现了 2000 小时的运行时间。我们进行了机械振动测试和工作热真空测试，以确保放大器作为太空组件的可靠性。在工作温度范围的上限和下限 ± 0 和 + 50 °C 下，输出功率和偏振消光比 (PER) 分别为 > 10 W 和 > 16 dB，而放大增益或 PER 没有任何下降。
自发性脑出血形成机制：基于解剖标本的研究
方法 支持本研究结果的数据可根据合理要求从通讯作者处获取。 作为国家科学中心获奖项目“在生理条件下和支架置入后小直径脑循环动脉的血流动力学建模”的一部分，我们创建了所提出的自发性基底神经节 ICH 模型。 研究方案经波兰华沙医科大学伦理委员会批准（编号 20/2021）。 我们将造影剂（硫酸钡和明胶的混合物）注入 40 个未固定的基底神经节解剖标本，随后将其固定在 10% 福尔马林缓冲溶液中，并用尼康/Metris XT H 225 ST 微型计算机断层扫描 (CT) 扫描仪进行扫描（有关标本准备的详细分步描述，请参阅我们的方法学文章 17 ）。由于分辨率高（体素大小高达 27 µm），该方法可以清晰地显示从大脑中动脉（豆纹动脉）分支出的所有穿支动脉。18 我们还收集了关于年龄、性别和 3 个区域动脉粥样硬化存在的尸检数据：冠状动脉、Willis 环和主动脉。动脉粥样硬化的严重程度分为无动脉粥样硬化、动脉粥样硬化、纤维粥样硬化或复杂病变。在附加实验中测量了注射压力（补充材料）。注射期间压力约为 60 mm Hg，造影剂凝固时最大压力为 260 mm Hg；这些数值在医学上是合理的，并且比导致颅内主要动脉破裂所需的平均压力低 5 倍以上。19,20
公司简介
Andrea Corbetta Banca Sella Gruppo Obi Motorola Barabas GQ -Conde Nast Mtdm ST Microelectronics Beaute Prestige Prestige International Guzzi MT Swarovski Benelli -Beretta benelli -Beretta诺基亚testori caterpillar om -fiat timberland caudalie caudalie ollandinotti tiscali tiscali cielo cielo venezia lmmobil中心orsingher ortu avocati tod tod tod tod to to Ard Trunk＆Co欧洲社区LTACA PIAGGIO UNESCO CONSORZIO VALTELLINA这很酷Job Pilot Playteam 江诗丹顿 德意志银行 Kiton Poliedro Valtur Di Biz Co 柯达 Pomellato Velasco Vitali DPR 九龙明信片 Virgilio DUPONT Lancaster Progetto CMR Virgin ENEL La Ristosalumeria Publicontrol Vodafone ENIT Lega Calcio Radio e Video Italia SMI Westone Exytus Levi's Ragno Whirlpool Eyepetizer LG 电子 Recarlo Zaf Fabbrica del Duomo Logan Regione Lombardia Zehjiang For D Home Furniture Federmobili Loro Piana
超分辨率简化
光片（HILO）激发3，用DNA-Paint 6以下达到5 nm 4,5以下的横向定位精度（S SMLM）。但是，这是以有限的穿透深度为代价的，TIR <250 nm，而Hilo 7,8的视野降低了〜40×10 µm 2。SMLM也可以在共聚焦设置中实现，包括点扫描和旋转磁盘共聚焦（SDC），这使得更深的样品渗透9，使其比较成像组织样品。图像扫描显微镜（ISM）10通过像素重新分配将共聚焦显微镜11,12的空间分辨率增加一倍，并且在与SMLM结合使用时，SMLM最近达到了8 nm的S SMLM，尽管小FOV的小FOV为8×8 µm 2 13。为了提高采集速度和FOV尺寸，SDC在旋转盘上采用数百个螺旋针孔，并与摄像机而不是单点检测器相结合。SDC构型已适用于SMLM，使用DNA-PART 14，使用DNA-Origami样品使用DNA-Origami样品达到8 nm的平面定位精度和基础平面中的细胞22 nm。仍然，由于发射光被光盘阻断，由于兴奋强度降低，可实现的分辨率仍受到限制。在2015年，Azuma及其同事提出了具有光子光子重新分配（SDC-EPR）15的增强的SDC，这是一系列微胶片，以有效降低针孔尺寸并增加光子收集，以改善分辨率。这些微漏物收缩了焦点双重，将发射的光子引导回可能的起源点（图1a）。因此，这提出了一个问题：SDC-opr的表现能否优于当前的光学配置，克服渗透深度，视野和空间分辨率之间的权衡？In this Brief Communication, we show that SMLM on a SDC- OPR fluorescence microscope can achieve sub-2 nm localization precision in the basal plane and sub-10 nm up to 7 µm penetration depth within a FOV of 53 × 53 µm 2 using a commercially available SDC-OPR (CSU-W1 SoRA Nikon system).通过可视化，以前所未有的分辨率来强调SDC-OPR的功能，在果蝇的视觉想象盘的视网膜上皮中的附着力连接。
对半导体光刻设备进行基准测试...
半导体光刻设备行业已经发展到仅凭技术知识不足以在市场上生存的地步。要充分了解光刻行业的动态，必须具备一套跨学科的技能。了解基础技术、制造设备市场的管理问题以及行业赞助的联盟的作用对光刻行业都至关重要。20 世纪 80 年代中期，半导体光刻设备市场发生了巨大转变，引发了美国政界的愤怒。从 20 世纪 70 年代末到 80 年代末，美国公司的市场份额从近 90% 下降到不到 20%。半导体市场的快速扩张，尤其是在日本，再加上美国光刻供应商对客户要求的明显反应迟钝，为尼康和佳能提供了机会之窗。此外，制造光刻设备所需的技术专长日益迫使全球半导体制造商从供应商处购买设备，而不是内部开发。在 20 世纪 90 年代，美国半导体制造商已经适应了光刻设备采购的新市场条件。光刻技术对半导体制造过程仍然至关重要。由于只能从供应商处购买光刻设备，制造商被迫制定有效的技术供应链管理策略。在技术开发周期的推动下，半导体公司有四年的时间来学习和不断改进其采购策略。由于依赖供应商，半导体公司的设备采购策略已调整为最大限度地提高供应商转换灵活性，同时最大限度地减少资本支出。这种方法促使许多制造商建立首选供应商关系和工具，以确保供应商之间的竞争行为。行业目标：确保尖端光刻技术的持续发展。本报告对各公司如何组织其设备开发和采购实践及其各自的优点进行了基准测试。